技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種卡格列凈的晶型II，其X?射線粉末衍射圖譜在衍射角2θ=3.8±0.2，8.0±0.2，10.9±0.2，13.9±0.2，15.5±0.2，15.9±0.2，20.3±0.2，23.3±0.2度處有特征峰。本發(fā)明還涉及卡格列凈的晶型II的制備方法。本發(fā)明操作步驟簡單、易操作；制備出的產(chǎn)品純度高于99%，產(chǎn)品收率高達85%，產(chǎn)品在高溫高濕的條件下，其純度、含量、外觀及晶型均無明顯變化，穩(wěn)定性較好，適宜于制藥生產(chǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：楊漢躍;王建濤;朱海亮;董淑波;陳學(xué)民;蒲亞洋;朱思梅;葛吉悅
受保護的技術(shù)使用者：江蘇德源藥業(yè)股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.08.09
技術(shù)公布日：2017.11.03