技術(shù)特征：

1.一種式(Ⅱa)或(Ⅱb)所示的化合物：

A-(CHR¹)_p–O-SO₂-(CH₂)_m-(C(R²)₂)_n-SO₃^-Z⁺ (IIa)

A-(CHR¹)_p–SO₂-O-(CH₂)_m-(C(R²)₂)_n-SO₃^-Z⁺ (IIb)

其中

A是1-或2-取代的羥基金剛烷基，

R¹是H、或取代或未取代的C_1-30的烷基，

每個(gè)R²是F，

Z⁺是式(XIII)所示的陽(yáng)離子：

其中R⁴和R⁵獨(dú)立地是取代或未取代的C_1-20烷基，C_1-20氟烷基，C_3-20環(huán)烷基、C_3-20氟環(huán)烷基、C_2-20烯基、C_2-20氟烯基、C_6-20芳基、C_6-20氟芳基、C_5-20雜芳基、C_7-20芳烷基、C_7-20氟芳烷基、C_6-20雜芳烷基，其中R⁴和R⁵是獨(dú)立的或者通過單鍵連接的，Ar是C_5-30含芳族基的基團(tuán)，其中“取代”表示包括選自以下的取代基：F、Cl、Br、I、羥基、氨基、硫醇、羧基、羧酸鹽/酯、酰胺、腈、硫醇、硫化物、二硫化物、硝基、C_1-10烷基、C_1-10烷氧基、C_6-10芳基、C_6-10芳氧基、C_7-10烷基芳基、C_7-10烷基芳氧基、以及包括上述至少一種的組合，和

p是0或1的整數(shù)，m是從1到4的整數(shù)，n是從1到4的整數(shù)。

2.一種式(Ⅱa)所示的化合物：

A-(CHR¹)_p–O-SO₂-(CH₂)_m-(C(R²)₂)_n-SO₃^-Z⁺ (IIa)

其中

A是1-或2-取代的羥基金剛烷基，

R¹是H、或取代或未取代的C_1-30的烷基，

每個(gè)R²是F，

Z⁺是式(XIII)所示的陽(yáng)離子：

其中R⁴和R⁵獨(dú)立地是取代或未取代的C_1-20烷基，C_1-20氟烷基，C_3-20環(huán)烷基、C_3-20氟環(huán)烷基、C_2-20烯基、C_2-20氟烯基、C_6-20芳基、C_6-20氟芳基、C_5-20雜芳基、C_7-20芳烷基、C_7-20氟芳烷基、C_6-20雜芳烷基，其中R⁴和R⁵是獨(dú)立的或者通過單鍵連接的，Ar是C_5-30含芳族基的基團(tuán)，和

p是0或1的整數(shù)，k是1或2，m是從1到2的整數(shù)，n是從1到2的整數(shù)。

3.一種式(Ⅱb)所示的化合物：

A-(CHR¹)_p–SO₂-O-(CH₂)_m-(C(R²)₂)_n-SO₃^-Z⁺ (IIb)

其中

A是1-或2-取代的羥基金剛烷基，

R¹是H、或取代或未取代的C_1-30的烷基，

每個(gè)R²是F，

Z⁺是式(XIII)所示的陽(yáng)離子：

其中R⁴和R⁵獨(dú)立地是取代或未取代的C_1-20烷基，C_1-20氟烷基，C_3-20環(huán)烷基、C_3-20氟環(huán)烷基、C_2-20烯基、C_2-20氟烯基、C_6-20芳基、C_6-20氟芳基、C_5-20雜芳基、C_7-20芳烷基、C_7-20氟芳烷基、C_6-20雜芳烷基，其中R⁴和R⁵是獨(dú)立的或者通過單鍵連接的，Ar是C_5-30含芳族基的基團(tuán)，和

p是0或1的整數(shù)，k是1或2，m是1到2的整數(shù)，n是從1到2的整數(shù)。

4.權(quán)利要求1所述的化合物，如式(Ⅳ)所示：

其中Z⁺的定義和式(Ⅱa)或(Ⅱb)中的定義相同。

5.權(quán)利要求1所述的化合物，其中所述陽(yáng)離子如式(ⅩⅣ)、(ⅩⅤ)或(ⅩⅥ)所示：

其中

R⁴和R⁵獨(dú)立地是取代或者未取代的C_1-20烷基、C_1-20氟烷基、C_3-20環(huán)烷基、C_3-20氟環(huán)烷基、C_2-20烯基、C_2-20氟烯基、C_6-20芳基、C_6-20氟芳基、C_5-20雜芳基、C_7-20芳烷基、C_7-20氟芳烷基、或C_6-20雜芳烷基,，其中R⁴和R⁵為獨(dú)立的或通過單鍵連接；

R⁶、R⁷，R⁸和R⁹各自獨(dú)立地是H、鹵素、C_1-20烷基、C_1-20氟烷基、C_1-20烷氧基、C_1-20氟烷氧基、C_1-20硫代烷氧基、C_1-20氟硫代烷氧基、C_1-20烷氧基羰基、C_1-20氟烷氧基羰基、C_1-20硫代烷氧基羰基、C_1-20氟硫代烷氧基羰基、C_3-20環(huán)烷基、C_3-20氟環(huán)烷基、C_3-20環(huán)烷氧基、C_3-20氟環(huán)烷氧基、C_2-20烯基、C_2-20氟烯基、C_6-20芳基、C_6-20氟芳基、C_6-20芳氧基、C_6-20氟芳氧基、C_5-20雜芳基、C_5-20雜芳氧基、C_5-20雜芳氧基、C_7-20芳烷基、C_7-20氟芳烷基、C_7-20芳烷氧基、C_7-20氟芳烷氧基、或者C_6-20雜芳烷基、或者C_6-20雜芳烷氧基、其中R⁶、R⁷、R⁸和R⁹各自獨(dú)立地是未取代的或者進(jìn)一步地取代為包含酸-不穩(wěn)定基團(tuán)、堿-不穩(wěn)定基團(tuán)、或者堿-可溶性基團(tuán)，和

q是1到5的整數(shù)，r是0到3的整數(shù)，s是0到4的整數(shù)，t是0到4的整數(shù)，a是0到4的整數(shù)。

6.權(quán)利要求5所述的化合物，其中Z⁺如式(ⅩⅦ)、(ⅩⅧ)、(ⅩⅨ)或(ⅩⅩ)所示：

其中

R¹⁰，R¹¹，R¹²和R¹⁴獨(dú)立地是H、鹵素、C_1-10烷基、C_1-10氟烷基、C_1-10烷氧基、C_1-10氟烷氧基、C_3-10環(huán)烷基、C_3-10氟環(huán)烷基、C_3-10環(huán)烷氧基或C_3-10氟環(huán)烷氧基，

R¹³是H、C_1-10烷基、C_1-10氟烷基、C_3-10環(huán)烷基或C_3-10氟環(huán)烷基，并且

a和b各自獨(dú)立地是1或者2。

7.權(quán)利要求5所述的化合物，其中Z⁺如式(ⅩⅦ)所示：

其中

R¹⁰，R¹¹和R¹²獨(dú)立地是H、鹵素、C_1-10烷基、C_1-10氟烷基、C_1-10烷氧基、C_1-10氟烷氧基、C_3-10環(huán)烷基、C_3-10氟環(huán)烷基、C_3-10環(huán)烷氧基或C_3-10氟環(huán)烷氧基。

8.權(quán)利要求1所述的化合物，其中在式(IIa)或(IIb)中，R¹是H。

9.權(quán)利要求1所述的化合物，其中在式(IIa)或(IIb)中，A是1-取代的羥基金剛烷基。

10.權(quán)利要求1所述的化合物，其中在式(IIa)或(IIb)中，p是1。

11.一種光刻膠組合物，包含：

酸敏性聚合物，和

權(quán)利要求1到10中任一項(xiàng)所述的化合物。

12.一種涂覆的基材，包含：(a)在其表面上具有一層或多層用于形成圖案的層的基材；和(b)位于所述一層或多層用于形成圖案的層之上的權(quán)利要求11所述的光刻膠組合物的層。