酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠。本發(fā)明涉及新的聚合物，其包含與聚合物骨架間隔開的酚基團和光酸不穩(wěn)定基團。本發(fā)明優(yōu)選的聚合物可用作化學增強型正性光刻膠的組分。
【專利說明】酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠
[0001]本申請是申請?zhí)枮?00810109247.1，申請日為2008年3月12日，發(fā)明名稱為“酚聚合物以及包含該酚聚合物的光刻膠”的發(fā)明專利申請的分案申請。
【技術領域】
[0002]本發(fā)明涉及新的酹共聚物,其包含光酸不穩(wěn)定基團(photoacid-liable group)和不同的酚，該酚通過例如聚合丙烯酸酯部分與所述共聚物分隔開。本發(fā)明的聚合物作為化學增強型正性光刻膠的組分是特別有用的。
【背景技術】
[0003]光刻膠是用來將影像轉印到基材上的光敏膜。在基材上形成光刻膠涂層，然后將該光刻膠層通過光掩膜曝光于活化輻射源中。所述光掩膜具有對活化輻射不透明的區(qū)域以及其它對活化輻射透明的區(qū)域。對活化輻射的曝光提供光刻膠涂層的光誘導化學轉變，由此將所述光掩膜上的圖案轉印到所述光刻膠覆蓋的基材上。曝光后，將所述光刻膠顯影從而提供允許選擇性處理基材的浮雕影像。
[0004]化學增強型光刻膠已經(jīng)使用得越來越多，特別是用于形成亞微米影像以及其它高性能應用。這樣的光刻膠可以是負性的或正性的，并且每單元光生成酸通常包括許多交聯(lián)情況(在負性光刻膠情況下)或脫保護反應(在正性光刻膠情況下)。在正性化學增強型光刻膠情況下，某種陽離子光引發(fā)劑已經(jīng)被用于誘導某種“阻斷”基團側鏈從光刻膠粘合劑上解離，或包含光刻膠粘合劑骨架的某種基團的解離。
[0005]雖然現(xiàn)有的光刻膠適用于許多用途，但是現(xiàn)有的光刻膠也顯示了重大的缺陷，特別是在高性能應用例如高分辨率的亞半微米和亞四分之一微米特征的形成等應用中。
[0006]因此，那些能夠以短波 輻射光成像的光刻膠引起人們的注意，所述短波輻射包括270nm或更低的曝光輻射，例如248nm的波長(由KrF激光提供)。參見JP1996044063，其報道了使用KrF分檔器進行曝光的某種光刻膠。使用這種短曝光波長能夠形成更小的特征。所以，那些在248nm曝光獲得良好分辨率影像的光刻膠能夠形成極小(例如，低于0.25 μ m)的特征，這也對應于對于更小尺寸電路圖形的穩(wěn)定工業(yè)需要，例如，提供更大的電路密度以及經(jīng)提高的裝置性能。
[0007]因此，新的光刻膠組合物是合乎需要的，特別是能夠在短波例如248nm成像的光刻膠組合物。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]我們現(xiàn)在已經(jīng)發(fā)現(xiàn)新的酚聚合物，其包含光酸不穩(wěn)定單元以及至少被碳或其它原子從所述聚合物骨架間隔開的酚基團。
[0009]本發(fā)明特別優(yōu)選的聚合物包含聚合的丙烯酸酯基團，其包含與所述聚合物骨架間隔開的酹部分。
[0010]在一個方面，提供聚合物以及包含這種聚合物的光刻膠，其中所述聚合物包含含有下式I結構的重復單元:
[0011]
【權利要求】
1.一種包含光活性組分和樹脂的光刻膠組合物，所述樹脂包含下式的結構:
2.權利要求1的光刻膠，其中所述樹脂包含下式的結構:
3.一種形成正性光刻膠浮雕影像的方法，包括: (a)在基材上施用權利要求1或2的光刻膠的涂層；以及 (b)將所述光刻膠層曝光并顯影從而獲得浮雕影像。
4.權利要求3的方法，其中在所述光刻膠浮雕影像形成后將離子施用于所述基材。
5.一種制品，其包含在其上涂有權利要求1或2的光刻膠組合物的層的微電子晶片基材。
【文檔編號】C08F220/14GK103694404SQ201310531053
【公開日】2014年4月2日 申請日期:2008年3月12日 優(yōu)先權日:2007年3月12日
【發(fā)明者】J·F·卡梅隆 申請人:羅門哈斯電子材料有限公司