張網(wǎng)裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種張網(wǎng)裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。所述張網(wǎng)裝置包括：張網(wǎng)本體和輔助機(jī)構(gòu)，所述張網(wǎng)本體用于夾持掩膜版的夾持區(qū)域，產(chǎn)生作用于所述掩膜版的長(zhǎng)度方向的第一拉力；所述輔助機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述掩膜版的上方，且與所述掩膜版接觸，用于在所述掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生作用于所述掩膜版的寬度方向的第二拉力，所述寬度方向垂直于所述長(zhǎng)度方向。本實(shí)用新型解決了掩膜版的褶皺較多的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)了減少褶皺數(shù)量，提高產(chǎn)品的良率的效果，用于制備顯示裝置。
【專利說(shuō)明】
張網(wǎng)裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種張網(wǎng)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，蒸鍍工藝是制作有機(jī)發(fā)光二極管(英文:0rganicLight-Emitting D1de；簡(jiǎn)稱:0LED)顯示屏的有機(jī)發(fā)光層的過(guò)程中的重要工藝之一，具體的，利用具有圖案的掩膜組件，通過(guò)真空蒸鍍方式在待蒸鍍基板上形成所需的圖案。其中，掩膜組件包括金屬框架和掩膜版，在將掩膜版與金屬框架結(jié)合時(shí)需要利用張網(wǎng)裝置使掩膜版在金屬框架上張緊后，將掩膜版固定在金屬框架上。該掩膜版可以為精細(xì)金屬掩膜板(英文:Fine Metal Mask;簡(jiǎn)稱:MM) 0
[0003]相關(guān)技術(shù)中，如圖1-1所示，張網(wǎng)裝置00主要包括:張網(wǎng)機(jī)臺(tái)001和設(shè)置于張網(wǎng)機(jī)臺(tái)001上的夾具002。使用時(shí)，將金屬框架003和待蒸鍍基板004放置并固定在張網(wǎng)機(jī)臺(tái)001上，將掩膜版005設(shè)置在金屬框架003上，采用夾具002夾持掩膜版005的四個(gè)夾持區(qū)域;通過(guò)夾具002向兩側(cè)拉伸掩膜版005，使掩膜版005上的圖案與待蒸鍍基板004上的圖案對(duì)準(zhǔn);然后將掩膜版005固定在金屬框架003上以形成所需的掩膜組件。夾具對(duì)掩膜版產(chǎn)生的拉力的方向平行于掩膜版的長(zhǎng)度方向。圖1-2示出了圖1-1中夾具002夾持掩膜版005的四個(gè)夾持區(qū)域?qū)?yīng)的俯視圖。圖1-2中的01為夾具對(duì)掩膜版產(chǎn)生的拉力。
[0004]但由于受到夾具大小的限制，以及受到掩膜版的夾持區(qū)域的缺口(如圖1-2中的006)設(shè)計(jì)的影響，掩膜版的中間區(qū)域未受到夾具的拉力，導(dǎo)致整個(gè)掩膜版受力不均勻，最終掩膜版會(huì)存在較多的褶皺，影響掩膜版的平坦度，對(duì)后續(xù)蒸鍍過(guò)程產(chǎn)生較大的影響，因此，產(chǎn)品的良率較低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]為了解決產(chǎn)品的良率較低的問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種張網(wǎng)裝置。所述技術(shù)方案如下:
[0006]提供了一種張網(wǎng)裝置，所述張網(wǎng)裝置包括:張網(wǎng)本體和輔助機(jī)構(gòu)，
[0007]所述張網(wǎng)本體用于夾持掩膜版的夾持區(qū)域，產(chǎn)生作用于所述掩膜版的長(zhǎng)度方向的第一拉力；
[0008]所述輔助機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述掩膜版的上方，且與所述掩膜版接觸，用于在所述掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生作用于所述掩膜版的寬度方向的第二拉力，所述寬度方向垂直于所述長(zhǎng)度方向。
[0009]可選的，所述輔助機(jī)構(gòu)包括:支撐模塊和移動(dòng)模塊，所述支撐模塊設(shè)置有移動(dòng)軌道，所述移動(dòng)模塊的底部與所述掩膜版接觸，所述移動(dòng)模塊用于沿著所述移動(dòng)軌道，在所述掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生所述第二拉力。
[0010]可選的，所述支撐模塊為半封閉的柱形殼體，所述柱形殼體的底部設(shè)置有開口，所述開口的兩側(cè)與所述掩膜版接觸，所述柱形殼體的頂部設(shè)置有所述移動(dòng)軌道。
[0011]可選的，所述移動(dòng)模塊包括第一磁鐵塊和第二磁鐵塊，所述第一磁鐵塊和所述第二磁鐵塊的大小相等，且極性相反，所述第一磁鐵塊的頂部設(shè)置有第一滑塊，所述第二磁鐵塊的頂部設(shè)置有第二滑塊，所述第一滑塊和所述第二滑塊位于所述移動(dòng)軌道內(nèi)，所述第一磁鐵塊和所述第二磁鐵塊位于所述支撐模塊的空腔內(nèi)，所述第一磁鐵塊的底部和所述第二磁鐵塊的底部在所述開口處分別與所述掩膜版接觸。
[0012]可選的，所述移動(dòng)模塊的底部設(shè)置有隔墊物。
[0013]可選的，所述第一磁鐵塊和所述第二磁鐵塊均為立方體，
[0014]所述第一滑塊和所述第二滑塊均為立方體。
[0015]可選的，所述第一滑塊和所述第二滑塊的大小相等，所述移動(dòng)軌道的寬度等于所述第一滑塊的寬度。
[0016]可選的，所述移動(dòng)軌道為長(zhǎng)方形軌道，所述移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向與所述掩膜版的長(zhǎng)度方向不平行。
[0017]可選的，所述隔墊物為橡膠層。
[0018]可選的，所述隔墊物呈波浪狀。
[0019]本實(shí)用新型提供了一種張網(wǎng)裝置，該張網(wǎng)裝置通過(guò)設(shè)置在掩膜版上方的輔助機(jī)構(gòu)，產(chǎn)生作用于掩膜版的寬度方向的第二拉力，使得整個(gè)掩膜版受力更加均勻，減少了褶皺數(shù)量，提高了掩膜版的平坦度，因此，提高了產(chǎn)品的良率。
[0020]應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本實(shí)用新型。
【附圖說(shuō)明】
[0021]為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0022]圖1-1是現(xiàn)有技術(shù)中張網(wǎng)裝置的側(cè)視圖；
[0023]圖1-2是圖1-1所示掩膜版的受力分布示意圖；
[0024]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種張網(wǎng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3-1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種輔助機(jī)構(gòu)的俯視圖；
[0026]圖3-2是圖3-1所示的輔助機(jī)構(gòu)的側(cè)視圖；
[0027]圖3-3是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種支撐模塊的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種移動(dòng)模塊的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖5是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種移動(dòng)模塊的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖6是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種張網(wǎng)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031 ]圖7是采用本實(shí)用新型實(shí)施例提供的張網(wǎng)裝置后，掩膜版的受力分布示意圖。
[0032]通過(guò)上述附圖，已示出本實(shí)用新型明確的實(shí)施例，后文中將有更詳細(xì)的描述。這些附圖和文字描述并不是為了通過(guò)任何方式限制本實(shí)用新型構(gòu)思的范圍，而是通過(guò)參考特定實(shí)施例為本領(lǐng)域技術(shù)人員說(shuō)明本實(shí)用新型的概念。
【具體實(shí)施方式】
[0033]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
[0034]本實(shí)用新型實(shí)施例提供了一種張網(wǎng)裝置，如圖2所示，該張網(wǎng)裝置包括:張網(wǎng)本體110和輔助機(jī)構(gòu)120。
[0035]張網(wǎng)本體110用于夾持掩膜版005的夾持區(qū)域(圖2中未示出)，產(chǎn)生作用于掩膜版005的長(zhǎng)度方向(如圖2中X所指示的方向及X所指示方向的反方向)的第一拉力。
[0036]輔助機(jī)構(gòu)120設(shè)置在掩膜版005的上方，且與掩膜版005接觸，用于在掩膜版005上滑動(dòng)，產(chǎn)生作用于掩膜版005的寬度方向(如圖2中y所指示的方向及y所指示方向的反方向)的第二拉力，該寬度方向垂直于該長(zhǎng)度方向。
[0037]綜上所述，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的張網(wǎng)裝置，該張網(wǎng)裝置通過(guò)設(shè)置在掩膜版上方的輔助機(jī)構(gòu)，產(chǎn)生作用于掩膜版的寬度方向的第二拉力，使得整個(gè)掩膜版受力更加均勻，減少了褶皺數(shù)量，提高了掩膜版的平坦度，因此，提高了產(chǎn)品的良率。
[0038]圖2中的張網(wǎng)本體110為現(xiàn)有技術(shù)中的張網(wǎng)裝置，張網(wǎng)本體110的功能可以參考圖1-1現(xiàn)有技術(shù)中的張網(wǎng)裝置進(jìn)行說(shuō)明。
[0039]可選的，圖3-1示出了輔助機(jī)構(gòu)的俯視圖，如圖3-1所示，輔助機(jī)構(gòu)120包括:支撐模塊121和移動(dòng)模塊122。其中，支撐模塊121設(shè)置有移動(dòng)軌道1210，移動(dòng)模塊122的底部與掩膜版接觸，移動(dòng)模塊122用于沿著移動(dòng)軌道1210，在掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生第二拉力。該輔助機(jī)構(gòu)包括有支撐模塊和移動(dòng)模塊，便于整個(gè)掩膜版受力更加均勻，同時(shí)，該輔助機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)較簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)。圖3-2示出了圖3-1所示的輔助機(jī)構(gòu)120的側(cè)視圖，圖3-2中，121為支撐模塊，122為移動(dòng)模塊。
[0040]可選的，如圖3-2所示，支撐模塊121為半封閉的柱形殼體，該柱形殼體的底部設(shè)置有開口，該開口的兩側(cè)與掩膜版005接觸。該柱形殼體的頂部設(shè)置有移動(dòng)軌道1210。該支撐模塊設(shè)置有開口，且頂部設(shè)置有移動(dòng)軌道，便于移動(dòng)模塊沿著移動(dòng)軌道，在掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生第二拉力，同時(shí)，該支撐模塊的結(jié)構(gòu)較簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)。圖3-3示出了該支撐模塊121的結(jié)構(gòu)示意圖，圖3-3中的1210為移動(dòng)軌道。
[0041]可選的，如圖4所示，移動(dòng)模塊122包括第一磁鐵塊1221和第二磁鐵塊1222。第一磁鐵塊1221和第二磁鐵塊1222的大小相等，且極性相反。第一磁鐵塊1221的頂部設(shè)置有第一滑塊012。第二磁鐵塊1222的頂部設(shè)置有第二滑塊013。第一滑塊012和第二滑塊013位于移動(dòng)軌道(如圖3-1中的1210)內(nèi)，第一磁鐵塊1221和第二磁鐵塊1222位于支撐模塊的空腔(如圖3-2中的1211)內(nèi)，第一磁鐵塊1221的底部和第二磁鐵塊1222的底部在支撐模塊的開口處分別與掩膜版接觸。該移動(dòng)模塊包括大小相等，且極性相反的兩個(gè)磁鐵塊，每個(gè)磁鐵塊的頂部設(shè)置有滑塊，這樣一來(lái)，輔助機(jī)構(gòu)能夠通過(guò)滑塊控制兩個(gè)磁鐵塊的距離，進(jìn)而控制兩個(gè)磁鐵塊對(duì)掩膜版的拉伸作用力。移動(dòng)模塊的兩個(gè)磁鐵塊可以在設(shè)置有移動(dòng)軌道的柱形殼體中往復(fù)運(yùn)動(dòng)。
[0042]可選的，第一磁鐵塊和第二磁鐵塊均為立方體，第一滑塊和第二滑塊均為立方體，便于移動(dòng)模塊沿著移動(dòng)軌道，在掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生第二拉力。示例的，第一滑塊和第二滑塊的大小相等，移動(dòng)軌道的寬度等于第一滑塊的寬度。
[0043]由于掩膜版由金屬制成，所以當(dāng)移動(dòng)模塊的兩個(gè)磁鐵塊直接與掩膜版接觸時(shí)，兩個(gè)磁鐵塊在滑動(dòng)時(shí)會(huì)受到一定的阻力，為了克服該阻力，可選的，如圖5所示，移動(dòng)模塊122的底部設(shè)置有隔墊物1223。為了增大移動(dòng)模塊與掩膜版之間的摩擦力，示例的，隔墊物可以為橡膠層，進(jìn)一步的，隔墊物可以呈波浪狀。此外，圖5中的其他標(biāo)號(hào)的含義可以參考圖4進(jìn)行說(shuō)明。
[0044]可選的，如圖3-3所示，支撐模塊121的移動(dòng)軌道1210為長(zhǎng)方形軌道。移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向與掩膜版的長(zhǎng)度方向不平行。也就是說(shuō)，一方面，如圖2所示，移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向(如圖2中u所指示的方向)可以與掩膜版005的長(zhǎng)度方向垂直，此時(shí)，移動(dòng)模塊產(chǎn)生的第二拉力即為移動(dòng)模塊沿移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向產(chǎn)生的力。
[0045]另一方面，如圖6所示，移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向(如圖6中u所指示的方向)可以與掩膜版005的長(zhǎng)度方向存在一個(gè)大于O度的夾角，此時(shí)，移動(dòng)模塊產(chǎn)生的第二拉力即為移動(dòng)模塊沿移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向產(chǎn)生的力f的分解力fl，以及移動(dòng)模塊沿移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向產(chǎn)生的力η的分解力η I，分解力Π、分解力η I分別與掩膜版00 5的寬度方向平行。力f的另一分解力f 2與掩膜版005的長(zhǎng)度方向平行，力η的另一分解力n2與掩膜版005的長(zhǎng)度方向平行。此外，圖6中其他標(biāo)號(hào)的含義可以參考圖2進(jìn)行說(shuō)明。
[0046]圖7是采用本實(shí)用新型實(shí)施例提供的張網(wǎng)裝置后，掩膜版的受力分布示意圖。其中，01為張網(wǎng)本體110產(chǎn)生的作用于掩膜版005的長(zhǎng)度方向的第一拉力，02為輔助機(jī)構(gòu)120產(chǎn)生的作用于掩膜版005的寬度方向的第二拉力。參見(jiàn)圖7和圖1-2，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的張網(wǎng)裝置相較于現(xiàn)有技術(shù)中的張網(wǎng)裝置，能夠使整個(gè)掩膜版受力更加均勻，減少了掩膜版上的褶皺數(shù)量，提高了掩膜版的平坦度。
[0047]需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型實(shí)施例對(duì)張網(wǎng)裝置中的輔助機(jī)構(gòu)的數(shù)量不作限定，輔助機(jī)構(gòu)可以有兩個(gè)，輔助機(jī)構(gòu)的位置可以為圖7所示的輔助機(jī)構(gòu)的位置，輔助機(jī)構(gòu)也可以多于兩個(gè)，輔助機(jī)構(gòu)的數(shù)量可以根據(jù)實(shí)際需求來(lái)確定。
[0048]綜上所述，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的張網(wǎng)裝置，該張網(wǎng)裝置通過(guò)設(shè)置在掩膜版上方的輔助機(jī)構(gòu)，產(chǎn)生作用于掩膜版的寬度方向的第二拉力，使得整個(gè)掩膜版受力更加均勻，減少了褶皺數(shù)量，提高了掩膜版的平坦度，因此，提高了產(chǎn)品的良率，且該張網(wǎng)裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)。
[0049]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種張網(wǎng)裝置，其特征在于，所述張網(wǎng)裝置包括:張網(wǎng)本體和輔助機(jī)構(gòu)， 所述張網(wǎng)本體用于夾持掩膜版的夾持區(qū)域，產(chǎn)生作用于所述掩膜版的長(zhǎng)度方向的第一拉力； 所述輔助機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述掩膜版的上方，且與所述掩膜版接觸，用于在所述掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生作用于所述掩膜版的寬度方向的第二拉力，所述寬度方向垂直于所述長(zhǎng)度方向。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述輔助機(jī)構(gòu)包括:支撐模塊和移動(dòng)模塊，所述支撐模塊設(shè)置有移動(dòng)軌道，所述移動(dòng)模塊的底部與所述掩膜版接觸，所述移動(dòng)模塊用于沿著所述移動(dòng)軌道，在所述掩膜版上滑動(dòng)，產(chǎn)生所述第二拉力。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述支撐模塊為半封閉的柱形殼體，所述柱形殼體的底部設(shè)置有開口，所述開口的兩側(cè)與所述掩膜版接觸，所述柱形殼體的頂部設(shè)置有所述移動(dòng)軌道。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述移動(dòng)模塊包括第一磁鐵塊和第二磁鐵塊，所述第一磁鐵塊和所述第二磁鐵塊的大小相等，且極性相反，所述第一磁鐵塊的頂部設(shè)置有第一滑塊，所述第二磁鐵塊的頂部設(shè)置有第二滑塊，所述第一滑塊和所述第二滑塊位于所述移動(dòng)軌道內(nèi)，所述第一磁鐵塊和所述第二磁鐵塊位于所述支撐模塊的空腔內(nèi)，所述第一磁鐵塊的底部和所述第二磁鐵塊的底部在所述開口處分別與所述掩膜版接觸。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述移動(dòng)模塊的底部設(shè)置有隔墊物。6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述第一磁鐵塊和所述第二磁鐵塊均為立方體， 所述第一滑塊和所述第二滑塊均為立方體。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述第一滑塊和所述第二滑塊的大小相等，所述移動(dòng)軌道的寬度等于所述第一滑塊的寬度。8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述移動(dòng)軌道為長(zhǎng)方形軌道，所述移動(dòng)軌道的長(zhǎng)度方向與所述掩膜版的長(zhǎng)度方向不平行。9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述隔墊物為橡膠層。10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的張網(wǎng)裝置，其特征在于， 所述隔墊物呈波浪狀。
【文檔編號(hào)】C23C14/24GK205662588SQ201620562454
【公開日】2016年10月26日
【申請(qǐng)日】2016年6月12日
【發(fā)明人】吳建鵬
【申請(qǐng)人】成都京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司