本發(fā)明涉及觸摸屏玻璃制造技術領域，具體是一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法。

背景技術：

在觸摸屏玻璃制造領域，常常使用磁控濺射鍍膜機對玻璃基片真空鍍膜，而雙面磁控濺射鍍膜機由于同時能夠對兩片玻璃基片進行鍍膜，受到廣泛的應用。

在鍍膜時，一般由兩名操作工分別站在基片架的正反兩面，位于基片架正面的操作工負責正面基片的上下片，位于基片架反面的操作工負責反面基片的上下片，這樣無疑造成了人力資源的浪費；而如果只安排一名操作工，那在對正面玻璃基片上下片之后，需要繞行到基片架的反面，再對反面玻璃基片上下片，如此反復，一方面勞動強度大，另一方面上下片的速度跟不上鍍膜的節(jié)拍，影響生產效率。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，該方法能夠使一名操作工對兩面玻璃基片進行上下片操作，同時能夠保證上下片的速度，提高人員的利用率。

本發(fā)明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，包括以下步驟：

a、在基片架底部設置旋轉底座，使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉；

b、對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作，然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作；

c、將上片后的基片架送入雙面磁控濺射鍍膜機進行正反面鍍膜；

d、鍍完膜的基片架由雙面磁控濺射鍍膜機出口回轉運送到上下片區(qū)，對基片架正面的玻璃基片進行下片操作，然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架反面的玻璃基片進行下片操作；

e、重復步驟b～d，實現(xiàn)在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。

本發(fā)明的有益效果是，安排一名操作工位于上下片區(qū)，在對基片架的正面上下片后，將基片架在旋轉底座上旋轉180°即可對基片架反面進行上下片，無需再繞行到基片架反面，節(jié)省了人力的同時，能夠保證上下片的速度，降低勞動強度。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明：

圖1是本發(fā)明的上片示意圖；

圖2是本發(fā)明的下片示意圖；

圖3是本發(fā)明中基片架的示意圖。

具體實施方式

結合圖1～圖3所示，本發(fā)明提供一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，包括以下步驟：

a、在基片架1底部設置旋轉底座2，使基片架1能夠在旋轉底座2上水平自由旋轉，旋轉底座2采用常規(guī)帶轉軸的底座即可；

b、對基片架1的正面進行正面玻璃基片3的上片操作，然后將基片架1在旋轉底座2上旋轉180°，再對基片架1的反面進行反面玻璃基片4的上片操作；

c、將上片后的基片架1送入雙面磁控濺射鍍膜機5進行正反面鍍膜；

d、鍍完膜的基片架1由雙面磁控濺射鍍膜機5出口回轉運送到上下片區(qū)，對基片架1正面的玻璃基片進行下片操作，然后將基片架1在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架1反面的玻璃基片進行下片操作；

e、重復步驟b～d，實現(xiàn)在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。

以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制；任何熟悉本領域的技術人員，在不脫離本發(fā)明技術方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術內容對本發(fā)明技術方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術方案的內容，依據(jù)本發(fā)明的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同替換、等效變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術方案保護的范圍內。