專利名稱：研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置及化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，更具體地說，本發(fā)明涉及ー種研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置以及配置了該研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。
背景技術(shù)：
化學(xué)機(jī)械研磨(CMP, chemical mechanical poli shing,也稱為化學(xué)機(jī)械拋光)目前被廣泛用于半導(dǎo)體制造過程中的表面平坦化工藝處理。研磨制程根據(jù)研磨對象不同主要分為娃研磨(Poly CMP)、娃氧化物研磨(Oxide CMP)、鶴研磨(W CMP)和銅研磨(Cu CMP)?；瘜W(xué)機(jī)械研磨過程中的研磨耗材分為以下幾大類研磨液(Slurry)、研磨墊、金剛石盤、研磨頭、清洗刷和化學(xué)清洗劑與保護(hù)劑等。一般，研磨液是由研磨顆粒以及能對被研磨膜起化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)溶液組成。 具體地說，化學(xué)機(jī)械研磨的過程是把晶圓放在旋轉(zhuǎn)的研磨墊上，再加一定的壓力，用化學(xué)研磨液來研磨晶圓以使晶圓平坦化。晶圓硅片的化學(xué)機(jī)械研磨過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程，要獲得質(zhì)量好的拋光片，必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到ー種平衡。但是，研磨墊在研磨一段時間后，就有ー些研磨顆粒、研磨液結(jié)晶以及研磨墊殘留物嵌留在研磨墊溝槽內(nèi)，這些都會影響研磨液在研磨墊的分布以及造成拋光完成的晶圓硅片表面產(chǎn)生刮傷，影響最終成品的良率甚至導(dǎo)致成品報廢。所以，需要對研磨墊進(jìn)行高壓去離子水清洗，以便沖洗掉殘留在研磨墊溝槽內(nèi)的殘留物使得研磨墊得到功能恢復(fù)。但是,在對研磨墊進(jìn)行研磨墊清洗用高壓去離子水清洗時，由于研磨墊清洗用高壓去離子水不能完全清洗到整個研磨墊表面，從而很容易尤其是在靠近研磨墊的中心位置的溝槽內(nèi)嵌留下研磨液結(jié)晶以及研磨墊殘留。這種研磨液結(jié)晶以及研磨墊殘留容易造成拋光完成的晶圓硅片表面產(chǎn)生刮傷，影響最終成品的良率甚至導(dǎo)致成品報廢。，。因此，希望能夠提供一種能夠有效地消除研磨墊清洗用高壓去離子水清洗過程中的研磨結(jié)晶以及研磨墊殘留的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺陷，提供ー種能夠有效地消除研磨墊清洗用高壓去離子水清洗過程中的研磨液殘留的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置以及配置了該研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了ー種研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其包括研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件，其具有用于接收研磨墊清洗用高壓去離子水的研磨墊清洗用高壓去離子水接收端ロ以及接入部件連接端ロ ；角度調(diào)節(jié)部件，其具有第一連接端口和第二連接端ロ ；以及研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件，其具有用于噴出研磨墊清洗用高壓去離子水的噴出端ロ以及噴出部件連接端ロ ；其中，所述角度調(diào)節(jié)部件與所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件分別通過所述第二連接端口和噴出部件連接端ロ相互連接，并且所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件與所述角度調(diào)節(jié)部件相連接分別通過所述接入部件連接端口和所述第一連接端ロ以所述角度調(diào)節(jié)部件能夠調(diào)節(jié)所連接的所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件的角度的方式相互連接。由于利用角度調(diào)節(jié)部件來調(diào)節(jié)最終噴出研磨墊清洗用高壓去離子水的研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件的噴出角度，從而可以全方位地噴出研磨墊清洗用高壓去離子水，所以根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置能夠有效地消除研磨墊清洗用高壓去離子水清洗過程中的研磨液殘留，尤其是研磨墊中心位置處的研磨液殘留優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述角度調(diào)節(jié)部件的角度調(diào)節(jié)范圍為360度。在角度調(diào)節(jié)部件的角度調(diào)節(jié)范圍為360度的情況下，可以極大地提高消除研磨液殘留的效果。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述研磨墊清洗用高壓 去離子水接入部件和所述角度調(diào)節(jié)部件以可拆卸的方式連接。通過以可拆卸的方式連接所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件和所述角度調(diào)節(jié)部件，可以方便地替換、安裝和維護(hù)部件。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件和所述角度調(diào)節(jié)部件以可拆卸的方式連接。同樣，通過以可拆卸的方式連接所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件和所述角度調(diào)節(jié)部件，可以方便地替換、安裝和維護(hù)部件。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件和所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件不直接連接。所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件和所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件不直接連接，可以簡化研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件為同ー種材料。通過使用同一種材料來制造所述研磨液清洗劑接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件，可以簡化制造エ藝，并且可以增強(qiáng)所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件之間的連接性。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件的材料為塑料。通過材料塑料來制造所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件，可以避免化學(xué)腐蝕。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述接入部件連接端ロ的表面和所述第一連接端ロ的表面布置有相互嚙合的第一螺紋。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述接入部件連接端ロ的表面和所述第一連接端ロ的表面布置有相互嚙合的第二螺紋。
優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接收端ロ位于所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件的端部，所述接入部件連接端ロ位于所述研磨液清洗劑接入部件的側(cè)部。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置中，所述第一連接端口和所述第二連接端口中的ー個位于所述角度調(diào)節(jié)部件的端部，而所述第一連接端口和所述第二連接端口中的另ー個位于所述角度調(diào)節(jié)部件的側(cè)部。根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了ー種配置根據(jù)本發(fā)明第一方面所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。由于采用了根據(jù)本發(fā)明第一方面所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，根據(jù)本發(fā)明的第二方面的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備能夠有效地消除研磨墊清洗用高壓去離子水清洗過程中的研磨液殘留，尤其是研磨墊中心位置處的研磨液殘留。


結(jié)合附圖，并通過參考下面的詳細(xì)描述，將會更容易地對本發(fā)明有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點和特征，其中圖I示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的分解示意圖。圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的組合示意圖。需要說明的是，附圖用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。注意，表示結(jié)構(gòu)的附圖可能并非按比例繪制。并且，附圖中，相同或者類似的元件標(biāo)有相同或者類似的標(biāo)號。
具體實施例方式為了使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚和易懂，下面結(jié)合具體實施例和附圖對本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)描述。圖I示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的分解示意圖。如圖I所示，根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置包括研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I、角度調(diào)節(jié)部件2、以及研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3。其中，研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I具有用于接收研磨墊清洗用高壓去離子水的研磨墊清洗用高壓去離子水接收端ロ 11，此外，研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I還具有接入部件連接端ロ 12。并且，優(yōu)選地，如圖I所示，研磨墊清洗用高壓去離子水接收端ロ 11位于研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I的端部，接入部件連接端ロ 12位于研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I的側(cè)部。角度調(diào)節(jié)部件2具有第一連接端ロ 21，此外，角度調(diào)節(jié)部件2還具有第二連接端ロ 22。并且，優(yōu)選地，如圖I所示，第一連接端ロ 21和第二連接端ロ 22中的一個位于角度調(diào)節(jié)部件2的端部，而第一連接端ロ 21和第二連接端ロ 22中的另ー個位于角度調(diào)節(jié)部件2的側(cè)部。
研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3具有用于噴出研磨墊清洗用高壓去離子水的噴出端ロ 32，此外，研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3還具有噴出部件連接端ロ
31。并且，優(yōu)選地，如圖I所示，噴出端ロ 32和噴出部件連接端ロ 31位于研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3的兩端。圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的組合示意圖。注意，圖2的組合結(jié)構(gòu)中，實際上，研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I、角度調(diào)節(jié)部件2、以及研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3都是可以旋轉(zhuǎn)的。如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置可進(jìn)行如下組裝。具體地說，所述角度調(diào)節(jié)部件2與所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3分別通過所述第二連接端ロ 22和噴出部件連接端ロ 31相互連接。通過這樣的連接，可以得 到圖2所示的組裝結(jié)構(gòu)。并且，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I與所述角度調(diào)節(jié)部件2相連接分別通過所述接入部件連接端ロ 12和所述第一連接端ロ 21以所述角度調(diào)節(jié)部件2能夠調(diào)節(jié)所連接的所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3的角度的方式相互連接。優(yōu)選地，在具體實施例中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I的表面與所述角度調(diào)節(jié)部件2以螺紋方式連接。即，所述接入部件連接端ロ 12的表面和所述第一連接端ロ 21的表面布置有相互嚙合的螺紋。這樣，當(dāng)所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3固定連接至所述角度調(diào)節(jié)部件2時，可以通過螺紋來實現(xiàn)所述角度調(diào)節(jié)部件2的角度調(diào)節(jié)。更具體地說，隨著所述角度調(diào)節(jié)部件2的第二連接端ロ 22通過螺紋旋入所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I的接入部件連接端ロ 12，連接在所述角度調(diào)節(jié)部件2的所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3的角度隨著旋入動作的旋轉(zhuǎn)而改變，并且最多可以實現(xiàn)360度的變化。同樣，優(yōu)選地，在具體實施例中，所述角度調(diào)節(jié)部件2與所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3以螺紋方式連接。即，所述第二連接端ロ 22和噴出部件連接端ロ 31的表面布置有相互哨合的螺紋。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的具體實施例中，所述角度調(diào)節(jié)部件2的角度調(diào)節(jié)范圍為360度。在角度調(diào)節(jié)部件2的角度調(diào)節(jié)范圍為360度的情況下，可以極大地提高消除研磨液殘留的效果。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的具體實施例中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I和所述角度調(diào)節(jié)部件2以可拆卸的方式連接。通過以可拆卸的方式連接所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I和所述角度調(diào)節(jié)部件2，可以方便地替換、安裝和維護(hù)部件。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的具體實施例中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3和所述角度調(diào)節(jié)部件2以可拆卸的方式連接。同樣，通過以可拆卸的方式連接所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3和所述角度調(diào)節(jié)部件2，可以方便地替換、安裝和維護(hù)部件。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的具體實施例中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I和所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3不直接連接。述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I和所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3不直接連接，可以簡化研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的結(jié)構(gòu)。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的具體實施例中，所述研磨液清洗劑接入部件I、所述角度調(diào)節(jié)部件2以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3為同一種材料。通過使用同一種材料來制造所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I、所述角度調(diào)節(jié)部件2以及所述研磨墊清洗用高壓 去離子水噴出部件3，可以簡化制造エ藝，并且可以增強(qiáng)所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I、所述角度調(diào)節(jié)部件2以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3之間的連接性。優(yōu)選地，在上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的具體實施例中，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I、所述角度調(diào)節(jié)部件2以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3的材料為塑料。通過材料塑料來制造所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件I、所述角度調(diào)節(jié)部件2以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件3，可以避免化學(xué)腐蝕。由于利用角度調(diào)節(jié)部件來調(diào)節(jié)最終噴出研磨墊清洗用高壓去離子水的研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件的噴出角度，從而可以全方位地噴出研磨墊清洗用高壓去離子水，所以根據(jù)本發(fā)明實施例的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置能夠有效地消除研磨墊清洗用高壓去離子水清洗過程中的研磨墊中心位置處的研磨液殘留。根據(jù)本發(fā)明的另ー優(yōu)選實施例，還提供了ー種配置圖I和圖2所示的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。由于采用了上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備同樣能夠有效地消除研磨墊清洗用高壓去離子水過程中的研磨液殘留，尤其是研磨墊中心位置處的研磨液殘留。例如，在具體應(yīng)用示例中，上述研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置可有利地用于Applied Materials公司的Mirra-mesa化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備?？梢岳斫獾氖牵m然本發(fā)明已以較佳實施例披露如上，然而上述實施例并非用以限定本發(fā)明。對于任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述掲示的技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.ー種研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于包括 研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件，其具有用于接收研磨墊清洗用高壓去離子水的研磨墊清洗用高壓去離子水接收端ロ以及接入部件連接端ロ； 角度調(diào)節(jié)部件，其具有第一連接端口和第二連接端ロ ；以及 研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件，其具有用于噴出研磨墊清洗用高壓去離子水的噴出端ロ以及噴出部件連接端ロ； 其中，所述角度調(diào)節(jié)部件與所述研磨液清洗劑噴出部件分別通過所述第二連接端口和噴出部件連接端ロ而相互連接，并且所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件與所述角度調(diào)節(jié)部件相連接分別通過所述接入部件連接端口和所述第一連接端ロ以所述角度調(diào)節(jié)部件能夠調(diào)節(jié)所連接的所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件的角度的方式相互連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的研磨液清洗劑噴射裝置，其特征在于，所述角度調(diào)節(jié)部件的角度調(diào)節(jié)范圍為360度。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件和所述角度調(diào)節(jié)部件以可拆卸的方式連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件和所述角度調(diào)節(jié)部件以可拆卸的方式連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件和所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件不直接連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件為同一種材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件、所述角度調(diào)節(jié)部件以及所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件的材料為塑料。
8.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述接入部件連接端ロ的表面和所述第一連接端ロ的表面布置有相互嚙合的第一螺紋。
9.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述接入部件連接端ロ的表面和所述第一連接端ロ的表面布置有相互嚙合的第二螺紋。
10.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述研磨墊清洗用高壓去離子水接收端ロ位于所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件的端部，所述接入部件連接端ロ位于所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件的側(cè)部。
11.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置，其特征在于，所述第一連接端ロ和所述第二連接端ロ中的ー個位于所述角度調(diào)節(jié)部件的端部，而所述第一連接端口和所述第二連接端口中的另ー個位于所述角度調(diào)節(jié)部件的側(cè)部。
12.ー種配置根據(jù)權(quán)利要求I至11之一所述的研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置的化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種研磨墊清洗用高壓去離子水噴射裝置以及化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備。研磨墊清洗噴射裝置包括研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件，其具有用于接收研磨墊清洗用高壓去離子水的研磨墊清洗用高壓去離子水接收端口以及接入部件連接端口；角度調(diào)節(jié)部件，其具有第一連接端口和第二連接端口；以及研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件，其具有用于噴出研磨墊清洗用高壓去離子水的噴出端口以及噴出部件連接端口；所述研磨墊清洗用高壓去離子水接入部件與所述角度調(diào)節(jié)部件相連接分別通過所述接入部件連接端口和所述第一連接端口以所述角度調(diào)節(jié)部件能夠調(diào)節(jié)所連接的所述研磨墊清洗用高壓去離子水噴出部件的角度的方式相互連接。
文檔編號B24B37/20GK102688862SQ201210191268
公開日2012年9月26日 申請日期2012年6月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月11日
發(fā)明者楊陽, 邵爾劍, 陳洪雷 申請人:上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司