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蒸發(fā)磁控真空鍍膜機的制作方法

文檔序號:3405800閱讀:595來源:國知局
專利名稱:蒸發(fā)磁控真空鍍膜機的制作方法
技術領域
本實用新型涉及一種真空鍍膜機。
在裝飾品的加工中,為提高各種塑料、陶瓷、金屬等工件的檔次,均需進行鋁、銅和仿金等的裝飾性表面膜層鍍膜加工處理。所采用的鍍膜方式有電阻蒸發(fā)或磁控濺射鍍膜。前者主要用于蒸鍍低熔點金屬、非金屬材料,如在塑料上蒸鍍裝飾性鋁膜等;后者主要用于對難熔,高硬度金屬的蒸鍍,如銅膜、鈦膜、超硬膜和合金膜等。由于這兩種蒸鍍方式的工作原理不同,彼此無法互相替代,極大地限制了僅具單一蒸發(fā)方式的鍍膜設備范圍,用戶若要實現(xiàn)多種工件,多種膜系并存,就需用多臺鍍膜設備,這就增加了成本和費用?,F(xiàn)有的磁控鍍膜設備均為每個真空室配用一個門,鍍膜與工件裝夾分兩步進行,這種方法效率低,無法滿足日益增加的市場需要。
本實用新型的目的在于為克服上述單一蒸發(fā)鍍膜的不足,提供一種能同時配裝蒸發(fā)和磁控兩套裝置的真空鍍膜設備,以提高鍍膜效率。
本實用新型包括真空機組和真空室,所述的真空機組與真空室連接,在真空室的左右兩側(cè)設有左大門和右大門,在左大門和右大門上均配裝有蒸發(fā)裝置和磁控裝置,所述的左大門和右大門設有可預留裝配蒸發(fā)裝置和磁控裝置的接口,所述的工件架均裝于左大門和右大門上。
本實用新型在一臺設備上同時配裝蒸發(fā)、磁控兩套裝置,或預留兩種裝置的安裝接口,可方便在需要時輕易換裝蒸發(fā)或磁控裝置;采用一室雙門的結(jié)構,可在鍍膜的同時進行工件的裝夾,提高了整機的工作效率。
現(xiàn)結(jié)合附圖
和實施例加以說明。
附圖為本實用新型結(jié)構原理示意圖。
圖中所示,在一臺設備上,配裝蒸發(fā)和磁控兩套裝置,合成蒸發(fā)磁控真空鍍膜機,或者在左、右大門3、6上預留該蒸發(fā)和磁控兩種裝置的接口8,可方便需要時輕易換裝這兩種裝置。這就使在整批零件若需蒸鍍鋁膜或非金屬材料膜系時,可將兩個門都裝上電阻蒸發(fā)裝置而進行蒸發(fā)真空鍍膜;在下一批零件如需鍍鈦膜或仿金膜時,再換上磁控靶裝置進行磁控真空鍍膜,從而使一臺設備就完全滿足多種膜系,多種鍍膜工藝的要求。本蒸發(fā)磁控真空鍍膜機,采用單室雙門的結(jié)構,在鍍膜的同時并可進行工件的裝夾,明顯地提高了整機的工作效率。
權利要求1.一種蒸發(fā)磁控真空鍍膜機,包括真空機組和真空室,其特征在于,所述的真空機組(1)與真空室(2)連接,所述的真室空(2)的左右兩側(cè)設有左大門(3)和右大門(6),在左大門(3)和右大門(6)上均配裝有蒸發(fā)裝置(5)和磁控裝置(4)。
2.據(jù)權利要求1所述的蒸發(fā)磁控真空鍍膜機,其特征在于,所述的左大門(3)和右大門(6)設有可預留裝配蒸發(fā)裝置(5)和磁控裝置(4)的接口(8)。
3.據(jù)權利要求1或2所述的蒸發(fā)磁控真空鍍膜機,其特征于,所述的工件架(7)均裝于左大門(3)和右大門(6)上。
專利摘要本實用新型涉及一種真空鍍膜機。它是在中間設置真空室,在真空室的左右兩側(cè)設置左右大門,而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置,可在該雙門上預留該兩裝置的接口,以備需要時換裝。本實用新型設置單室雙門的結(jié)構,可滿足多膜系,多鍍膜工藝的需要,使工作效率顯著提高,適于各種金屬和非金屬材料的鍍膜之用。
文檔編號C23C14/24GK2476563SQ0120595
公開日2002年2月13日 申請日期2001年3月26日 優(yōu)先權日2001年3月26日
發(fā)明者蔡東鋒, 梁凱基, 宋興文, 馮其元, 聶庭森, 程輝 申請人:廣東真空設備廠股份有限公司
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