一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，包括有放卷室和收卷室，其中，在放卷室和收卷室之間設(shè)置有加熱組件，所述加熱組件包括有熱屏蔽固定桿，在熱屏蔽固定桿上設(shè)置放卷夾持輥和收卷夾持輥，在放卷夾持輥和收卷夾持輥設(shè)置加熱絲。所述支撐管為可升降的。在放卷夾持輥上端設(shè)置工藝進(jìn)氣裝置，在放卷夾持輥下端設(shè)置排氣裝置。在放卷夾持輥?zhàn)蠖嗽O(shè)置放卷熱屏蔽組件，在收卷夾持輥右端設(shè)置收卷熱屏蔽組件。在收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置的左側(cè)設(shè)置水冷輥轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置。
【專利說明】
一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及機(jī)械加工技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]石墨烯薄膜是一種新型碳納米材料薄膜。電子的運(yùn)輸特性是石墨烯的最重要的一個(gè)性質(zhì)，這種獨(dú)特的電學(xué)性質(zhì)表明石墨烯在各個(gè)方面具備廣泛的潛在應(yīng)用前景，比如高速晶體管，透明電極，光電壓力傳感器等。但是，由于現(xiàn)有的機(jī)械剝離石墨烯面積太小、制備工藝受到限制，無法進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化。所以制備大面積、高質(zhì)量的石墨烯便成為目前學(xué)術(shù)界的研究熱點(diǎn)，化學(xué)氣相沉積法(CVD)是最有可能進(jìn)行產(chǎn)業(yè)化的方法，它是用氣態(tài)碳源在銅和鎳襯底上生長石墨烯，而銅基CVD生長的石墨烯薄膜具有良好的單層性和連續(xù)性。本專利就結(jié)合連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備和高溫真空爐兩者特點(diǎn)，設(shè)計(jì)出了一種銅基CVD方法制備大面積、高質(zhì)量石墨烯透明導(dǎo)電薄膜的的裝置。
[0003]為此，針對上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提出一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，實(shí)用性強(qiáng)，一定程度上解決上述技術(shù)問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的在于提供一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0005]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，包括有放卷室和收卷室，其中，在放卷室和收卷室之間設(shè)置有加熱組件，所述加熱組件包括有熱屏蔽固定桿，在熱屏蔽固定桿上設(shè)置放卷夾持輥和收卷夾持輥，在放卷夾持輥和收卷夾持輥設(shè)置加熱絲。
[0006]—種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，在放卷夾持輥上端設(shè)置工藝進(jìn)氣裝置，在放卷夾持輥下端設(shè)置排氣裝置。
[0007]—種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其中，在放卷夾持輥?zhàn)蠖嗽O(shè)置放卷熱屏蔽組件，在收卷夾持輥右端設(shè)置收卷熱屏蔽組件。
[0008]優(yōu)選的，所述加熱絲為銅箔材質(zhì)。
[0009]優(yōu)選的，在收卷室上方設(shè)置收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置。
[0010]—種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其中，在收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置的左側(cè)設(shè)置水冷輥轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置。
【附圖說明】
[0011]圖1是設(shè)備側(cè)視圖；
[0012]圖2是設(shè)備剖視圖
【具體實(shí)施方式】
[0013]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0014]如圖1和圖2所示，一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，包括有放卷室I和收卷室4，其特征在于，在放卷室I和收卷室4之間設(shè)置有加熱組件3，所述加熱組件3包括有熱屏蔽固定桿16，在熱屏蔽固定桿16上設(shè)置放卷夾持輥18和收卷夾持輥21，在放卷夾持輥18和收卷夾持輥21設(shè)置加熱絲23。連接放卷室I和收卷室4以及加熱組件3的是石英管2。在放卷室I和收卷室4以及加熱組件3下方設(shè)置設(shè)備框架5，起到支撐的作用。在是放卷室I的右側(cè)設(shè)置水冷法蘭12，在放卷室I的上方設(shè)置圓導(dǎo)軌9。
[0015]作為本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，所述支撐管7為可升降的。
[0016]—種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，在放卷夾持輥18上端設(shè)置工藝進(jìn)氣裝置20，在放卷夾持輥18下端設(shè)置排氣裝置19。
[0017]—種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其中，在放卷夾持輥18左端設(shè)置放卷熱屏蔽組件17，在收卷夾持輥21右端設(shè)置收卷熱屏蔽組件22。
[0018]作為本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，所述加熱絲23為銅箔材質(zhì)。
[0019]作為本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，在收卷室上方設(shè)置收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置14ο
[0020]—種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其中，在收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置14的左側(cè)設(shè)置水冷輥轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置24。
[0021]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無論從哪一點(diǎn)來看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0022]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，包括有放卷室和收卷室，其特征在于，在放卷室和收卷室之間設(shè)置有加熱組件，所述加熱組件包括有熱屏蔽固定桿，在熱屏蔽固定桿上設(shè)置放卷夾持輥和收卷夾持輥，在放卷夾持輥和收卷夾持輥設(shè)置加熱絲。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其特征在于，在放卷夾持輥上端設(shè)置工藝進(jìn)氣裝置，在放卷夾持輥下端設(shè)置排氣裝置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其特征在于，在放卷夾持輥?zhàn)蠖嗽O(shè)置放卷熱屏蔽組件，在收卷夾持輥右端設(shè)置收卷熱屏蔽組件。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其特征在于，所述加熱絲為銅箔材質(zhì)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其特征在于，在收卷室上方設(shè)置收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高溫真空爐連續(xù)卷對卷鍍膜設(shè)備，其特征在于，在收卷軸轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置的左側(cè)設(shè)置水冷輥轉(zhuǎn)動(dòng)密封裝置。
【文檔編號(hào)】C23C16/54GK205556779SQ201620215895
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年3月21日
【發(fā)明人】楊元才, 朱振東, 林晨, 周通, 譚新, 鄭戰(zhàn)偉, 錢鵬亮
【申請人】上海福宜真空設(shè)備有限公司