本實用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種鍍膜機(jī)。

背景技術(shù)：

鍍膜能夠?qū)Ρ诲兡んw起到一定的保護(hù)作用，從而有效地提高被鍍膜體的性能，延長使用壽命?，F(xiàn)有的鍍膜機(jī)多用于對工件或者玻璃等大體積大面積的鍍膜，很少有專用于粉體的鍍膜機(jī)；并且即使存在有少量的粉體鍍膜機(jī)，但現(xiàn)有的粉體鍍膜機(jī)大多數(shù)都存在抽真空時易導(dǎo)致粉末飛起、不便于對鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行清理等一系列的問題，導(dǎo)致鍍膜效果差，鍍膜效率不高。

針對上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，而設(shè)計以下的鍍膜機(jī)，用于解決上述存在的技術(shù)問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的是提供一種鍍膜機(jī)，以解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，該鍍膜機(jī)用于真空粉體鍍膜，能夠有效的避免抽真空時引起的粉末飛起，且可根據(jù)粉體顆粒的大小進(jìn)行振動頻率等的調(diào)整，改善粉體流動性，從而使得該鍍膜機(jī)粉體涂覆效率高，漏粉率低，整體包裹性好，并且工作效率高。

為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供了如下方案：本實用新型一種鍍膜機(jī)，包括裝料機(jī)構(gòu)、真空爐、傳動輸送機(jī)構(gòu)、濺射靶組、真空抽吸組及控制中心，所述裝料機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述真空爐頂端靠近邊緣處，所述裝料機(jī)構(gòu)的底部與所述真空爐相連通；所述濺射靶組位于所述真空爐頂端且所述濺射靶組的一側(cè)與所述裝料機(jī)構(gòu)相鄰，所述濺射靶組的另一側(cè)靠近所述真空爐頂端的另一邊緣處；所述傳動輸送機(jī)構(gòu)設(shè)置于所述真空爐內(nèi)且與所述濺射靶組相對應(yīng)，所述傳動輸送機(jī)構(gòu)的底端與所述真空爐的底部內(nèi)側(cè)可拆卸的連接；所述真空抽吸組位于所述真空爐的外側(cè)并通過管道與所述真空爐相通；所述裝料機(jī)構(gòu)內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有一加熱系統(tǒng)；所述傳動輸送機(jī)構(gòu)、濺射靶組、真空抽吸組及加熱系統(tǒng)均與所述控制中心電連接。

可選的，所述裝料機(jī)構(gòu)包括有兩級漏斗及撒粉漏斗，所述兩級漏斗包括第一漏斗與第二漏斗，所述第一漏斗位于所述第二漏斗的頂端，且所述第一漏斗與所述第二漏斗之間間隔有空隙，所述第一漏斗與所述第二漏斗通過螺桿焊接固定，所述螺桿固定在所述裝料機(jī)構(gòu)的內(nèi)側(cè)壁上；所述撒粉漏斗位于所述兩級漏斗的底部，所述撒粉漏斗通過螺桿與所述兩級漏斗固定連接，所述撒粉漏斗的底端位于所述裝料機(jī)構(gòu)與所述真空爐的連通處。

可選的，所述裝料機(jī)構(gòu)的頂部設(shè)置有一觀察窗，所述裝料機(jī)構(gòu)的外壁上固定設(shè)置有一單獨振源，所述單獨振源中的振動棒伸入所述裝料機(jī)構(gòu)內(nèi)并與所述撒粉漏斗的相抵接。

可選的，所述傳動輸送機(jī)構(gòu)包括振動輸送器、傳粉板及隔離減震臺，所述隔離減震臺可拆卸的設(shè)置于所述真空爐的腔室底部，所述振動輸送器通過螺栓固定在所述隔離減震臺的頂端，所述振動輸送器頂端固定所述傳粉板；所述振動輸送器、傳粉板及隔離減震臺為一體式設(shè)置，所述振動輸送器與所述控制中心電連接。

可選的，位于所述傳粉板的末端的下方設(shè)置有接粉槽，所述接粉槽的底端固定設(shè)置在所述隔離減震臺上。

可選的，所述濺射靶組包括若干濺射靶，相鄰所述濺射靶交錯傾斜設(shè)置，且所述濺射靶的濺射口對應(yīng)所述傳粉板。

可選的，所述真空抽吸組包括手動調(diào)節(jié)閥、第一預(yù)抽管道、第一預(yù)抽閥及機(jī)械泵，所述第一預(yù)抽管道設(shè)置于所述真空爐的腔室底端的一側(cè)且與所述真空爐的腔室相連通，所述手動調(diào)節(jié)閥設(shè)置于所述第一預(yù)抽管道上靠近所述真空爐的一端，所述第一預(yù)抽閥設(shè)置于所述第一預(yù)抽管道上并位于遠(yuǎn)離所述真空爐的一端，所述第一預(yù)抽管道的末端與所述機(jī)械泵相連接；所述機(jī)械泵與所述控制中心電連接。

可選的，所述真空抽吸組還包括第二預(yù)抽閥及第二預(yù)抽管道，所述第二預(yù)抽管道設(shè)置于所述真空爐的腔室底端并與所述真空爐的腔室相連通，所述第二預(yù)抽管道與所述第一預(yù)抽管道并排設(shè)置，所述第二預(yù)抽閥設(shè)置于所述第二預(yù)抽管道上，所述第二預(yù)抽管道的末端與所述第一預(yù)抽管道的末端連通后與所述機(jī)械泵相連接。

可選的，所述第一預(yù)抽管道的管徑小于所述第二預(yù)抽管道的管徑。

可選的，所述真空抽吸組還包括前級閥、分子泵及主閥，所述分子泵設(shè)置于所述真空爐的腔室的底端中部并與所述真空爐的腔室相連通，所述主閥設(shè)置于所述分子泵上靠近所述真空爐的一端，所述分子泵與所述機(jī)械泵相連接，所述前級閥設(shè)置在所述機(jī)械泵與所述分子泵相連接的管道上；所述分子泵與所述控制中心電連接。

本實用新型相對于現(xiàn)有技術(shù)取得了以下技術(shù)效果：

本實用新型鍍膜機(jī)的直線給料粉體鍍膜系統(tǒng)集除氣、撒粉、傳粉于一體，通過真空加熱除濕除氣克服粉體團(tuán)聚、真空吸引等問題，兩級漏斗形成的流動排氣比靜態(tài)排氣更有利于排除粉體存儲堆積之間雜氣，散粉漏斗振動撒粉使粉體流速控制可調(diào)范圍更廣，同時是多面體結(jié)構(gòu)粉體顆粒之間的機(jī)械互鎖現(xiàn)象。直線導(dǎo)軌振動送粉，振動頻率和振幅可調(diào)，送粉板角度可調(diào)，也可根據(jù)撒粉流速聯(lián)合調(diào)整，使粉體鍍膜整體包裹性更好。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實用新型鍍膜機(jī)的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1的左視圖；

圖3為本實用新型鍍膜機(jī)的生產(chǎn)過程中的應(yīng)用圖一；

圖4為本實用新型鍍膜機(jī)的生產(chǎn)過程中的應(yīng)用圖二；

其中，1為真空爐；2加熱系統(tǒng)；3兩級漏斗；4撒粉漏斗；5振動輸送器；6傳粉板；7隔離減震臺；8接粉槽；9濺射靶組；10第一預(yù)抽管道；11第一預(yù)抽閥；12第二預(yù)抽管道；13第二預(yù)抽閥；14機(jī)械泵；15前級閥；16分子泵；17主閥；18手動調(diào)節(jié)閥；19單獨振源。

具體實施方式

下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├绢I(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。

本實用新型的目的是提供一種鍍膜機(jī)，以解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，該鍍膜機(jī)用于真空粉體鍍膜，能夠有效的避免抽真空時引起的粉末飛起，且可根據(jù)粉體顆粒的大小進(jìn)行振動頻率等的調(diào)整，改善粉體流動性，從而使得該鍍膜機(jī)粉體涂覆效率高，漏粉率低，整體包裹性好，并且工作效率高。

為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本實用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。

請參考圖1-4，其中，圖1為本實用新型鍍膜機(jī)的整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1的左視圖；圖3為本實用新型鍍膜機(jī)的生產(chǎn)過程中的應(yīng)用圖一；圖4為本實用新型鍍膜機(jī)的生產(chǎn)過程中的應(yīng)用圖二。

實施例一

如圖1-4所示，本實施例提供一種鍍膜機(jī)，包括裝料機(jī)構(gòu)、真空爐1、傳動輸送機(jī)構(gòu)、濺射靶組9、真空抽吸組及控制中心，裝料機(jī)構(gòu)設(shè)置于真空爐1頂端靠近邊緣處，裝料機(jī)構(gòu)的底部與真空爐1相連通；濺射靶組9位于真空爐1頂端且濺射靶組9的一側(cè)與裝料機(jī)構(gòu)相鄰，濺射靶組9的另一側(cè)靠近真空爐1頂端的另一邊緣處；傳動輸送機(jī)構(gòu)設(shè)置于真空爐1內(nèi)且與濺射靶組9相對應(yīng)，傳動輸送機(jī)構(gòu)的底端與真空爐1的底部內(nèi)側(cè)可拆卸的連接；真空抽吸組位于真空爐1的外側(cè)并通過管道與真空爐1相通；裝料機(jī)構(gòu)內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有一加熱系統(tǒng)2；傳動輸送機(jī)構(gòu)、濺射靶組9、真空抽吸組及加熱系統(tǒng)2均與控制中心電連接。

本實施例中的鍍膜機(jī)用于粉體鍍膜，首先裝料，由裝料機(jī)構(gòu)進(jìn)行裝料及撒粉，真空抽吸組進(jìn)行抽真空，加熱系統(tǒng)2對粉體進(jìn)行預(yù)加熱處理，以排出粉體中的氣體，對粉體進(jìn)行前處理后，粉體撒落到傳動輸送機(jī)構(gòu)進(jìn)行粉體傳輸，在傳輸?shù)倪^程中濺射靶組9對粉體進(jìn)行鍍膜進(jìn)行粉體鍍膜，最后流動鍍膜的粉體流入接粉槽8中。

實施例二

如圖1-4所示，本實施例提供一種鍍膜機(jī)，在實施例一的基礎(chǔ)上，本實施例中的鍍膜機(jī)還具有以下特點：

裝料機(jī)構(gòu)包括有兩級漏斗3及撒粉漏斗4，兩級漏斗3包括第一漏斗與第二漏斗，第一漏斗位于第二漏斗的頂端，且第一漏斗與第二漏斗之間間隔有空隙，第一漏斗與第二漏斗的底端都設(shè)置有擋板，第一漏斗與第二漏斗通過螺桿焊接固定，螺桿固定在裝料機(jī)構(gòu)的內(nèi)側(cè)壁上；撒粉漏斗4位于兩級漏斗3的底部，撒粉漏斗4通過螺桿與兩級漏斗3固定連接，撒粉漏斗4的底端位于裝料機(jī)構(gòu)與真空爐1的連通處，撒粉漏斗4是一普通漏斗，不過漏斗孔徑比較細(xì)，可以準(zhǔn)備幾個不同直徑和斜率的漏斗，根據(jù)粉體粒徑、裝粉量選擇合適漏孔直徑和漏斗斜率。

裝料機(jī)構(gòu)的頂部設(shè)置有一觀察窗，裝料機(jī)構(gòu)的外壁上固定設(shè)置有一單獨振源19，單獨振源19中的振動棒伸入裝料機(jī)構(gòu)內(nèi)并與撒粉漏斗4的相抵接，第一漏斗與第二漏斗得外壁也設(shè)置有與之相抵接的振動源。

傳動輸送機(jī)構(gòu)包括振動輸送器5、傳粉板6及隔離減震臺7，隔離減震臺7可拆卸的設(shè)置于真空爐1的腔室底部，振動輸送器5通過螺栓固定在隔離減震臺7的頂端，振動輸送器5頂端固定傳粉板6；振動輸送器5、傳粉板6及隔離減震臺7為一體式設(shè)置，振動輸送器5與控制中心電連接；振動輸送器5與真空爐1非剛性連接會導(dǎo)致振動器自己位移，與真空爐1剛性連接會將振動傳至真空爐1，損耗振能同時不利于真空密封，要做好隔離減震，在振動輸送器5與真空室間加一重物支撐座保證振動時該支撐座不位移，而重物支撐座與真空爐1之間采用橡膠等柔性材料減震，如此便將振動與真空室隔離開。

位于傳粉板6的末端的下方設(shè)置有接粉槽8，接粉槽8的底端固定設(shè)置在隔離減震臺7上。

濺射靶組9包括若干濺射靶，相鄰濺射靶交錯傾斜設(shè)置，且濺射靶的濺射口對應(yīng)傳粉板6；濺射靶組9中的濺射靶為磁控靶，靶接中頻電源陰極，陽極接腔室，磁控濺射鍍膜，其原理是：腔室通氬氣，形成一定工作氣壓，打開中頻電源，電子在電場的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場作用下加速飛向陰極靶，并以高能量轟擊靶表面，使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中，中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。

真空抽吸組包括手動調(diào)節(jié)閥18、第一預(yù)抽管道10、第一預(yù)抽閥11及機(jī)械泵14，第一預(yù)抽管道10設(shè)置于真空爐1的腔室底端的一側(cè)且與真空爐1的腔室相連通，手動調(diào)節(jié)閥18設(shè)置于第一預(yù)抽管道10上靠近真空爐1的一端，第一預(yù)抽閥11設(shè)置于第一預(yù)抽管道10上并位于遠(yuǎn)離真空爐1的一端，第一預(yù)抽管道10的末端與機(jī)械泵14相連接；機(jī)械泵14與控制中心電連接。

真空抽吸組還包括第二預(yù)抽閥13及第二預(yù)抽管道12，第二預(yù)抽管道12設(shè)置于真空爐1的腔室底端并與真空爐1的腔室相連通，第二預(yù)抽管道12與第一預(yù)抽管道10并排設(shè)置，第二預(yù)抽閥13設(shè)置于第二預(yù)抽管道12上，第二預(yù)抽管道12的末端與第一預(yù)抽管道10的末端連通后與機(jī)械泵14相連接。

第一預(yù)抽管道10的管徑小于第二預(yù)抽管道12的管徑。

真空抽吸組還包括前級閥15、分子泵16及主閥17，分子泵16設(shè)置于真空爐1的腔室的底端中部并與真空爐1的腔室相連通，主閥17設(shè)置于分子泵16上靠近真空爐1的一端，分子泵16與機(jī)械泵14相連接，前級閥15設(shè)置在機(jī)械泵14與分子泵16相連接的管道上；分子泵16與控制中心電連接。

抽真空時，打開機(jī)械泵14，打開第一預(yù)抽閥11，通過第一預(yù)抽管道10進(jìn)行初抽空，待抽到100帕以下，關(guān)閉第一預(yù)抽閥11，打開第二預(yù)抽閥13，通過第二預(yù)抽管道12抽空，待抽到5帕以下，關(guān)閉第二預(yù)抽閥13，打開前級閥15，開分子泵16，開主閥17，進(jìn)行精抽空，待抽至0.02帕，打開加熱系統(tǒng)2加熱，使兩級漏斗3均處于加熱環(huán)境內(nèi)，輻射加熱漏斗傳遞至粉體，待真空優(yōu)于10^-3Pa時，打開擋板撒粉至第二漏斗，再進(jìn)行撒粉。

本實用新型中的鍍膜機(jī)的具體工作過程如下：

首先裝料，由裝料機(jī)構(gòu)中的第一漏斗底端的檔板進(jìn)行存粉，然后抽真空，打開機(jī)械泵14，打開第一預(yù)抽閥11，通過第一預(yù)抽管道10進(jìn)行初抽空，待抽到100帕以下，關(guān)閉第一預(yù)抽閥11，打開第二預(yù)抽閥13，通過第二預(yù)抽管道12抽空，待抽到5帕以下，關(guān)閉第二預(yù)抽閥13，打開前級閥15，開分子泵16，開主閥17，進(jìn)行精抽空，待抽至0.02帕，打開加熱系統(tǒng)2加熱，使兩級漏斗3均處于加熱環(huán)境內(nèi)，輻射加熱漏斗傳遞至粉體，待真空優(yōu)于10^-3Pa時，打開擋板撒粉至第二漏斗，裝料機(jī)構(gòu)中第二漏斗底端的擋板繼續(xù)存粉；在此撒落轉(zhuǎn)移過程中，粉體完成流動狀態(tài)下的分離排氣。當(dāng)粉體前處理完畢后，由兩級漏斗3中的第二漏斗將粉體撒向撒粉漏斗4，撒粉漏斗4是一普通漏斗，不過漏斗孔徑比較細(xì)，可以準(zhǔn)備幾個不同直徑和斜率的漏斗，根據(jù)粉體粒徑、裝粉量選擇合適漏孔直徑和漏斗斜率，在撒粉漏斗4上布置單獨振源19，在腔室外連接振源控制器，通過在控制器上設(shè)置不同參數(shù)，可調(diào)式振源頻率和參數(shù)，布置單獨振源19，可通過調(diào)試振幅和頻率，來控制粉體流速。濺射靶組9中的濺射靶為磁控靶，調(diào)節(jié)通氬氣量和腔壓、靶電流、電壓和功率，選擇合適參數(shù)，開靶，調(diào)整合適鍍膜參數(shù)，進(jìn)入撒粉、傳粉步驟。傳粉步驟粉體以合適流速撒入傳粉板6，打開傳粉板6振動輸送器5，調(diào)整振幅和頻率，使粉體在軌道上以散開、鋪平、連續(xù)滾動狀態(tài)流動經(jīng)過濺射靶組9，進(jìn)行粉體鍍膜，最后流動鍍膜的粉體流入接粉槽8中。

本實用新型中應(yīng)用了具體個例對本實用新型的原理及實施方式進(jìn)行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本實用新型的方法及其核心思想；同時，對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本實用新型的思想，在具體實施方式及應(yīng)用范圍上均會有改變之處。綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本實用新型的限制。