本實用新型涉及鏡片生產(chǎn)設備領(lǐng)域，具體是帶感應片的真空鍍膜室。

背景技術(shù)：

無論樹脂或玻璃鏡片其本身的透光率都只有91%左右，會有部分光線被鏡片的兩個表面反射回來。

鏡片的反射可使光線透過率減少并在視網(wǎng)膜形成干擾像而影響成像的質(zhì)量，并影響配戴者的外觀。如鏡片外觀渦旋明顯，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而鍍膜鏡片是利用光學薄膜及真空的新技術(shù)，鍍上一定厚度的單層或多層光學薄膜，使鏡片獲得一些新的、原本不具備的優(yōu)良性能，以改善鏡片反射光線的能力，起到增強或減少光線透過的作用使鏡片的透光率增加到98%。

所鍍的膜層主要有硬膜、多層減反射膜、抗污膜等。

各膜層的主要作用是：1）加硬膜：增加鏡片表面的硬度，使其更加耐磨損。2）減反射膜：增加鏡片可見光的透過率和防紫外線、防輻射的性能。3）抗污膜：因減反射膜的技術(shù)需要，該膜分子間空隙較大，鏡片表面容易藏污納垢，而抗污膜的物質(zhì)分子顆粒小、分子之間空隙小，使鏡片表面更加光潔，增加了防水、防霧、防塵等等防污染等功能。

目前，行業(yè)內(nèi)鏡片鍍膜加工使用的蒸發(fā)鍍膜設備多采用旋轉(zhuǎn)基片的方式來保證膜層厚度的均勻性。鍍膜過程容易對鏡片及所鍍膜層造成污染，而且膜層厚度均勻不易控制。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型正是針對以上技術(shù)問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、可以保證鍍膜均勻的帶感應片的真空鍍膜室。

本實用新型通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)：

帶感應片的真空鍍膜室，包括真空泵、導氣管、反應室、蒸發(fā)源、鍍膜支架、感應片，其特征在于真空泵通過導氣管與反應室連通，反應室中央位置設置有蒸發(fā)源，鍍膜支架設置在蒸發(fā)源上方，鍍膜支架頂部位置設置有感應片，鍍膜支架頂部朝上方突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架頂部突起的正下方。鍍膜支架為三腳支架。鍍膜支架頂部呈圓形。感應片設置在鍍膜支架的頂部中央位置。

由于本實用新型所述的帶感應片的真空鍍膜室的鍍膜支架頂部朝上方突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架頂部突起的正下方，因此蒸發(fā)源與鍍膜支架上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架上工件的鍍膜速率差，而且通過在鍍膜支架上方頂部中央位置設置感應片，從而可以實時監(jiān)控膜層厚度，保證了鍍膜的均勻。

本實用新型結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。

附圖說明

附圖中，圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖，其中：

1—真空泵，2—導氣管，3—反應室，4—蒸發(fā)源，5—鍍膜支架，6—感應片。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。

帶感應片的真空鍍膜室，包括真空泵1、導氣管2、反應室3、蒸發(fā)源4、鍍膜支架5、感應片6，其特征在于真空泵1通過導氣管2與反應室3連通，反應室3中央位置設置有蒸發(fā)源4，鍍膜支架5設置在蒸發(fā)源4上方，鍍膜支架5頂部位置設置有感應片6，鍍膜支架5頂部朝上方突起，蒸發(fā)源4位于鍍膜支架5頂部突起的正下方。鍍膜支架5為三腳支架。鍍膜支架5頂部呈圓形。感應片6設置在鍍膜支架5的頂部中央位置。

由于本實用新型所述的帶感應片的真空鍍膜室的鍍膜支架5頂部朝上方突起，蒸發(fā)源4位于鍍膜支架5頂部突起的正下方，因此蒸發(fā)源4與鍍膜支架5上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架5上工件的鍍膜速率差，而且通過在鍍膜支架5上方頂部中央位置設置感應片6，從而可以實時監(jiān)控膜層厚度，保證了鍍膜的均勻。

上述只是說明了實用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的是在于讓本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員能夠了解實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能限制本實用新型的保護范圍。凡是根據(jù)本實用新型內(nèi)容的實質(zhì)所作出的等效的變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍。