本實(shí)用新型涉及鏡片生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，具體是帶感應(yīng)片的吊裝旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室。

背景技術(shù)：

無論樹脂或玻璃鏡片其本身的透光率都只有91%左右，會(huì)有部分光線被鏡片的兩個(gè)表面反射回來。

鏡片的反射可使光線透過率減少并在視網(wǎng)膜形成干擾像而影響成像的質(zhì)量，并影響配戴者的外觀。如鏡片外觀渦旋明顯，照相反光，看不到配戴者的眼睛等等。而鍍膜鏡片是利用光學(xué)薄膜及真空的新技術(shù)，鍍上一定厚度的單層或多層光學(xué)薄膜，使鏡片獲得一些新的、原本不具備的優(yōu)良性能，以改善鏡片反射光線的能力，起到增強(qiáng)或減少光線透過的作用使鏡片的透光率增加到98%。

所鍍的膜層主要有硬膜、多層減反射膜、抗污膜等。

各膜層的主要作用是：1）加硬膜：增加鏡片表面的硬度，使其更加耐磨損。2）減反射膜：增加鏡片可見光的透過率和防紫外線、防輻射的性能。3）抗污膜：因減反射膜的技術(shù)需要，該膜分子間空隙較大，鏡片表面容易藏污納垢，而抗污膜的物質(zhì)分子顆粒小、分子之間空隙小，使鏡片表面更加光潔，增加了防水、防霧、防塵等等防污染等功能。

目前，行業(yè)內(nèi)鏡片鍍膜加工使用的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備多采用旋轉(zhuǎn)基片的方式來保證膜層厚度的均勻性。鍍膜過程容易對(duì)鏡片及所鍍膜層造成污染，而且膜層厚度均勻不易控制。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型正是針對(duì)以上技術(shù)問題，提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、可以保證鍍膜均勻的帶感應(yīng)片的吊裝旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室。

本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

帶感應(yīng)片的吊裝旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室，包括真空泵、導(dǎo)氣管、反應(yīng)室、蒸發(fā)源、鍍膜支架、感應(yīng)片、旋轉(zhuǎn)臺(tái)，其特征在于真空泵通過導(dǎo)氣管與反應(yīng)室連通，反應(yīng)室中央位置設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái)，蒸發(fā)源為多個(gè)，多個(gè)蒸發(fā)源設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，鍍膜支架設(shè)置在反應(yīng)室頂部下方，鍍膜支架上表面朝上突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架上表面突起的正下方，鍍膜支架頂部位置設(shè)置有感應(yīng)片。鍍膜支架與反應(yīng)室頂部之間為鋼性連接。鍍膜支架通過三根支柱鋼性連接在反應(yīng)室頂部下方。鍍膜支架頂部呈圓形。

由于本實(shí)用新型所述的帶感應(yīng)片的吊裝旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室的鍍膜支架上表面朝上方突起，蒸發(fā)源位于鍍膜支架上表面突起的正下方，因此蒸發(fā)源與鍍膜支架上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架上工件的鍍膜速率差，而且鍍膜支架通過三根支柱鋼性連接在反應(yīng)室頂部下方，提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性，保證了鍍膜的均勻。

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便。

附圖說明

附圖中，圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖，其中：

1—真空泵，2—導(dǎo)氣管，3—反應(yīng)室，4—蒸發(fā)源，5—鍍膜支架，6—感應(yīng)片，7—旋轉(zhuǎn)臺(tái)。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。

帶感應(yīng)片的吊裝旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室，包括真空泵1、導(dǎo)氣管2、反應(yīng)室3、蒸發(fā)源4、鍍膜支架5、感應(yīng)片6、旋轉(zhuǎn)臺(tái)7，其特征在于真空泵1通過導(dǎo)氣管2與反應(yīng)室3連通，反應(yīng)室3中央位置設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái)7，蒸發(fā)源4為多個(gè)，多個(gè)蒸發(fā)源4設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)7上，鍍膜支架5設(shè)置在反應(yīng)室3頂部下方，鍍膜支架5上表面朝上突起，蒸發(fā)源4位于鍍膜支架5上表面突起的正下方，鍍膜支架5頂部位置設(shè)置有感應(yīng)片6。鍍膜支架5與反應(yīng)室3頂部之間為鋼性連接。鍍膜支架5通過三根支柱鋼性連接在反應(yīng)室3頂部下方。鍍膜支架5頂部呈圓形。

由于本實(shí)用新型所述的帶感應(yīng)片的吊裝旋轉(zhuǎn)真空鍍膜室的鍍膜支架5上表面朝上方突起，蒸發(fā)源4位于鍍膜支架5上表面突起的正下方，因此蒸發(fā)源4與鍍膜支架5上不同位置的直線距離差極小，盡量減小了鍍膜支架5上工件的鍍膜速率差，而且鍍膜支架5通過三根支柱鋼性連接在反應(yīng)室3頂部下方，提高了系統(tǒng)穩(wěn)定性，保證了鍍膜的均勻。

上述只是說明了實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的是在于讓本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員能夠了解實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡是根據(jù)本實(shí)用新型內(nèi)容的實(shí)質(zhì)所作出的等效的變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。