真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，主要于真空磁控濺射金屬膜層設(shè)備中，裝置電流控制器、輸送速度控制器及擋板，即可控制玻璃表面金屬膜層的厚度及圖案型態(tài)，其電流控制器可調(diào)整對于金屬靶材的電流強(qiáng)度，輸送速度控制器控制輸送器上玻璃輸送的速度，以上可控制玻璃金屬膜層單方向性的厚度及圖案的成型，其側(cè)方向性的厚度及圖案控制可借由擋板來控制完成，電流控制器、輸送速度控制器及擋板的移動可經(jīng)由電腦程式化控制形成各種不同設(shè)定的圖案表現(xiàn)，為目前玻璃金屬膜層成型技術(shù)中最具新穎性的控制方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前的真空磁控濺射金屬膜層設(shè)備均僅能于玻璃表面金屬膜層做單向單一厚度的處理，并無多重厚度多圖案變化的處理方法。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的主要技術(shù)問題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，而提供一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，主要是于真空磁控濺射金屬膜層設(shè)備中，裝置電流控制器、輸送速度控制器及擋板，即可控制玻璃表面金屬膜層的厚度及圖案型態(tài)，其電流控制器可調(diào)整對于金屬祀材的電流強(qiáng)度，輸送速度控制器控制輸送器上玻璃輸送的速度，以上可控制玻璃金屬膜層單方向性的厚度及圖案的成型，其側(cè)方向性的厚度及圖案控制可借由擋板來控制完成，電流控制器、輸送速度控制器及擋板的移動可經(jīng)由電腦程式化控制形成各種不同設(shè)定的圖案表現(xiàn)，為目前玻璃金屬膜層成型技術(shù)中最具新穎性的控制技術(shù)。
[0004]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:
[0005]一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，包括如下步驟:
[0006]—擋板,位于真空磁控派射金屬膜層真空室中，可于玻璃輸送過程于側(cè)向形成遮擋，讓玻璃表面呈現(xiàn)所設(shè)定不同膜厚的圖案效果 '及
[0007]—電流控制器，于真空磁控濺射金屬膜層生產(chǎn)室中，控制電流強(qiáng)度作用于金屬靶材，于玻璃表面形成設(shè)定的膜層厚度 '及
[0008]—輸送速度控制器，于真空磁控派射金屬膜層真空室中，控制輸送器輸送玻璃的速度，可于玻璃表面依行程設(shè)定形成不同的膜層厚度。
[0009]前述真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，其中擋板可為一個以上。
[0010]前述真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，其中擋板可依設(shè)定移動位置使金屬膜層產(chǎn)生圖案的變化。
[0011]本發(fā)明的有益效果是，主要是于真空磁控濺射金屬膜層設(shè)備中，裝置電流控制器、輸送速度控制器及擋板，即可控制玻璃表面金屬膜層的厚度及圖案型態(tài)，其電流控制器可調(diào)整對于金屬靶材的電流強(qiáng)度，輸送速度控制器控制輸送器上玻璃輸送的速度，以上可控制玻璃金屬膜層單方向性的厚度及圖案的成型，其側(cè)方向性的厚度及圖案控制可借由擋板來控制完成，電流控制器、輸送速度控制器及擋板的移動可經(jīng)由電腦程式化控制形成各種不同設(shè)定的圖案表現(xiàn)，為目前玻璃金屬膜層成型技術(shù)中最具新穎性的控制技術(shù)。
【附圖說明】
[0012]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0013]圖1是本發(fā)明的立體圖。
[0014]圖2是本發(fā)明的實施例圖。
[0015]圖中標(biāo)號說明:
[0016]I 擋板
[0017]2電流控制器
[0018]3輸送速度控制器
[0019]4金屬靶材
[0020]5輸送器
[0021]6 玻璃
[0022]7金屬膜層
[0023]8真空室
【具體實施方式】
[0024]請同時參閱圖1及圖2，本發(fā)明是一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，主要于真空磁控濺射金屬膜層設(shè)備的真空室8中，裝置電流控制器2、輸送速度控制器3及擋板1，即可控制玻璃6表面金屬膜層7的厚度及圖案型態(tài)，其電流控制器2可調(diào)整對于金屬靶材4的電流強(qiáng)度,輸送速度控制器3控制輸送器5上玻璃6輸送的速度，以上可控制玻璃金屬膜層7單方向性的厚度及圖案的成型，其側(cè)方向性的厚度及圖案控制可借由擋板I來控制完成，電流控制器2、輸送速度控制器3及擋板I的移動可經(jīng)由電腦程式化控制形成各種不同設(shè)定的圖案表現(xiàn)，為目前玻璃金屬膜層7成型技術(shù)中最具新穎性的控制方法。
[0025]以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
[0026]綜上所述，本發(fā)明在結(jié)構(gòu)設(shè)計、使用實用性及成本效益上，完全符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展所需，且所揭示的結(jié)構(gòu)亦是具有前所未有的創(chuàng)新構(gòu)造，具有新穎性、創(chuàng)造性、實用性，符合有關(guān)發(fā)明專利要件的規(guī)定，故依法提起申請。
【主權(quán)項】
1.一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，其特征在于，包括如下步驟: 一擋板，位于真空磁控濺射金屬膜層真空室中，可于玻璃輸送過程于側(cè)向形成遮擋，讓玻璃表面呈現(xiàn)所設(shè)定不同膜厚的圖案效果； 一電流控制器，于真空磁控濺射金屬膜層生產(chǎn)室中，控制電流強(qiáng)度作用于金屬靶材，于玻璃表面形成設(shè)定的膜層厚度； 一輸送速度控制器，于真空磁控派射金屬膜層真空室中，控制輸送器輸送玻璃的速度，可于玻璃表面依行程設(shè)定形成不同的膜層厚度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，其特征在于，所述擋板為一個以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，其特征在于，所述擋板可設(shè)定移動位置使金屬膜層產(chǎn)生圖案的變化。
【專利摘要】一種真空磁控濺射金屬膜層厚度控制方法，包括：一擋板，位于真空磁控濺射金屬膜層真空室中，可于玻璃輸送過程于側(cè)向形成遮擋，讓玻璃表面呈現(xiàn)所設(shè)定不同膜厚的圖案效果；一電流控制器，于真空磁控濺射金屬膜層生產(chǎn)室中，控制電流強(qiáng)度作用于金屬靶材，于玻璃表面形成設(shè)定的膜層厚度；一輸送速度控制器，于真空磁控濺射金屬膜層真空室中，控制輸送器輸送玻璃的速度，可于玻璃表面依行程設(shè)定形成不同的膜層厚度。本發(fā)明可控制玻璃金屬膜層單方向性的厚度及圖案的成型，其側(cè)方向性的厚度及圖案控制可借由擋板來控制完成，電流控制器、輸送速度控制器及擋板的移動可經(jīng)由電腦程式化控制形成各種不同設(shè)定的圖案表現(xiàn)。
【IPC分類】C23C14-54, C23C14-35
【公開號】CN104726831
【申請?zhí)枴緾N201310706202
【發(fā)明人】林孟君
【申請人】華泰(桐鄉(xiāng))玻璃明鏡有限公司
【公開日】2015年6月24日
【申請日】2013年12月19日