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真空多區(qū)磁控陰極濺射頭的制作方法

文檔序號(hào):3390087閱讀:538來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:真空多區(qū)磁控陰極濺射頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種真空多區(qū)磁控陰極濺射頭。
一般常用的真空磁控陰極濺射頭,是采用單一全區(qū)域的濺射方式,即在濺射頭上,除周圍的磁極外,中間只留上獨(dú)立磁極,使用時(shí)其濺射面積不佳,且靶材的利用率極低,約只有25%-27%,且框無(wú)開(kāi)口雙凹馬蹄型槽無(wú)法迅速套合靶材,及吊掛作業(yè),更換靶材時(shí),費(fèi)時(shí)費(fèi)工及靶材使用率不經(jīng)濟(jì)。
本實(shí)用新型的目的在于克服上述缺點(diǎn),提供一種真空多區(qū)磁控陰極濺射頭及簡(jiǎn)易定位靶材固定框。
本實(shí)用新型提出的真空多區(qū)磁控陰極濺射頭及簡(jiǎn)易靶材固定框,利用將濺射頭的磁場(chǎng)排列組合或許多小區(qū)域的設(shè)計(jì),如所附的分解立體圖4的磁場(chǎng)形狀,使用時(shí)可增加其區(qū)域面積,改善其濺射面積,其濺射情形極佳,且其靶材的利用率高達(dá)40%-45%,并能節(jié)省材料。該固定框的四端各設(shè)有開(kāi)口雙凹馬碲型螺絲槽,其開(kāi)口槽的設(shè)計(jì)利于螺絲快速嵌入定位于固定螺絲孔中,雙凹設(shè)計(jì)即在第一凹陷槽面再設(shè)一稍低的凹面,但不成全開(kāi)口狀,以容納定位螺絲的螺絲頭吊掛于其上,不至滑落。拆換靶材時(shí),其中四顆定位螺絲只需留下下方單邊二顆,使框吊掛在此二顆定位螺絲上,即可迅速套合新靶材及旋入卸下的其它螺絲,簡(jiǎn)易省時(shí)并提高經(jīng)濟(jì)利益。
以下結(jié)合附圖和最佳實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明


圖1是本實(shí)用新型的分解立體圖。
圖2是本實(shí)用新型整體外觀圖。
圖3是本實(shí)用新型工作示意圖。
本實(shí)用新型的主要結(jié)構(gòu)包含框1,靶材2,磁場(chǎng)密封盒帽3和磁場(chǎng)4,磁場(chǎng)4整體稱為濺射頭。其中框1為一中空框架,其內(nèi)緣留有凹槽11,供靶材易迅速套合,框四端有開(kāi)口雙凹馬碲型螺絲槽121、122、123、124,于拆換靶材時(shí)只須旋入螺絲131、132、133、134,即可將其余螺孔定位,且卸下時(shí)無(wú)需拆下四個(gè)定位螺絲,可留一邊的二個(gè)在磁場(chǎng)封閉盒帽蓋上吊掛,能節(jié)省更換靶材的時(shí)間。
靶材2為一中有材料平板,以框的凹槽11套合后,固定于磁場(chǎng)密封盒帽蓋上,濺射后耗損為多區(qū)的凹陷。
磁場(chǎng)密封盒帽蓋3,為一不導(dǎo)磁方箱型上蓋,以隔真空固定在磁場(chǎng)4的底座上,其上方表面留有螺孔301、302、303、304等,可供框1上相對(duì)位置的定位螺絲及固定螺絲旋入,以固定靶材并于表面建立磁場(chǎng),其二側(cè)并有開(kāi)孔31、32,供冷卻水流循環(huán)以達(dá)散熱目的。
磁場(chǎng)4為一平板上排列組合多區(qū)的永久磁鐵(極性如圖3所示),以之于靶材面產(chǎn)生安排的磁場(chǎng),其底座平板的作用是承接、固定磁場(chǎng)密封盒帽蓋。
本實(shí)用新型的整體組合情形,以磁場(chǎng)密封盒帽蓋3套蓋住磁場(chǎng)4,并固定于磁場(chǎng)的底座上,以隔離、冷卻磁組合體于真空工作,其二端的開(kāi)孔31、32可供冷卻水流通,以冷卻整體濺射頭產(chǎn)生的高溫,而其上方表面留有定位螺孔301、302、303、304及其它固定螺孔。當(dāng)框1套合靶材2后,先旋入螺絲131、132至螺孔301、302,再將框與靶材的組合體上框的馬碲型螺絲槽121、122塞入螺絲131、132中,再將螺絲133、134穿越馬碲型螺絲槽123、123旋入磁場(chǎng)密封盒帽蓋上的定位螺絲303、304,即可迅速定位其它螺孔,靶材更換程序亦然,只是框無(wú)需卸下,直接吊掛在定位螺絲上即可。
綜合上述,本實(shí)用新型不但省時(shí)省工,節(jié)省材料,還可提高經(jīng)濟(jì)效益,非常實(shí)用。
權(quán)利要求1.一種真空多區(qū)磁控陰極濺射頭,其特征在于將濺射頭的磁場(chǎng)排列組合成多個(gè)區(qū)域,使用時(shí)可增加其區(qū)域面積,改善其濺射面積,提高靶材使用率至40-45%。
2.如權(quán)利要求1所述的真空多區(qū)磁控陰極濺射頭,其特征在于框的四端各設(shè)有開(kāi)口雙凹馬碲型螺絲槽,其開(kāi)口槽的設(shè)計(jì)利于螺絲的快速嵌入定位于其它的固定螺絲孔中;雙凹設(shè)計(jì)即在第一凹陷槽面再設(shè)一稍低的凹面,但不成全開(kāi)口狀,以容納定位螺絲的螺絲頭吊掛于其上,不至滑落。
專利摘要一種真空多區(qū)磁控陰極濺射頭,它包含有框、靶材,磁場(chǎng)密封盒帽蓋,磁場(chǎng)組合體等主要元件。其中,框的內(nèi)緣,留有凹槽,以套合靶材后,以螺絲固定于磁場(chǎng)密封盒帽蓋上,而其固定螺絲孔,制成向外開(kāi)口的雙凹馬蹄型螺絲槽,以方便于拆換靶材時(shí)的螺孔定位吊掛??蓪R射頭內(nèi)的磁場(chǎng),排列組合成多區(qū)域,使其有更多的濺射面積,以充分利用靶材,達(dá)到提高效益的目的。
文檔編號(hào)C23C14/35GK2077869SQ9020963
公開(kāi)日1991年5月29日 申請(qǐng)日期1990年6月29日 優(yōu)先權(quán)日1990年6月29日
發(fā)明者黃恬靜 申請(qǐng)人:黃恬靜
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