專利名稱：還原法立式煉鎂爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及有色金屬冶煉技術(shù)領(lǐng)域，特別是一種還原法立式煉鎂爐。
皮江法煉鎂是熱還原法煉鎂的方法之一，是以白云石為原料，硅鐵為還原劑，用還原罐周期間斷生產(chǎn)的方法，由加拿大Toronto大學(xué)教授皮江(L.M.Pidgeon)在1941年開發(fā)成功，皮江法是目前世界范圍內(nèi)最普遍采用的煉鎂方法，它的最大特點是，工藝技術(shù)比較簡單，投資少，建設(shè)快，生產(chǎn)和建設(shè)的靈活性最大，在能源的選用上范圍廣，可用天然氣，也可燒煤及其它能源，皮江法煉鎂的主要裝置是還原爐，而還原爐的核心是還原罐，皮江法煉鎂的還原爐均為臥式排列，因而也稱為橫罐真空還原爐，這種爐屬于爐膛外部加熱的還原爐，還原罐的一端封死，另一端設(shè)有冷凝水套，內(nèi)有結(jié)晶器，并有真空口，根據(jù)目前的使用情況，皮江法煉鎂主要還存在以下幾個問題，第一，爐內(nèi)無用空間太大，臥罐的支撐墻占據(jù)較大空間，影響熱傳導(dǎo)；第二，還原罐水平放置，在長期高溫條件下易發(fā)生變形，使裝料受阻，最終影響使用壽命，加大煉鎂成本；第三，由于裝卸物料都由一端進(jìn)行，反應(yīng)物料需人工用長桿推入，出料時，再用長桿將物料一點一點掏出，工人的勞動強(qiáng)度很大，易出現(xiàn)安全事故；第四，水平裝填很難將物料裝實，往往出現(xiàn)裝填不實影響受熱的均勻性，從而影響反應(yīng)的均勻性；第五，在煉鎂過程中，還原罐上部易積灰，長時間使用積灰嚴(yán)重，影響熱傳導(dǎo)；第六，現(xiàn)有技術(shù)很難改善操作環(huán)境，很難將操作工從繁重、高溫的工作環(huán)境中解脫出來。
本實用新型的目的是提供一種克服現(xiàn)有技術(shù)不足的還原法立式煉鎂爐。
本實用新型按下述方案實現(xiàn)還原法立式煉鎂爐，包括還原罐1、高溫加熱室3、爐體2及圍繞還原罐的供熱裝置、冷凝結(jié)晶裝置和真空裝置，還原罐1為垂直排放且是活動開口，上端為冷凝結(jié)晶端。
本實用新型可明顯提高裝填反應(yīng)物料的均勻性，提高物料填充量，增加反應(yīng)均勻性，從而提高產(chǎn)率，采用立式布罐，避免了罐體長時間高溫下的重力變形，延長了使用壽命，擴(kuò)展了罐體材料的選擇范圍，裝料、卸料方便，可實現(xiàn)機(jī)械化，大大改善工作環(huán)境，減輕勞動強(qiáng)度，為實現(xiàn)規(guī)模化、自動化創(chuàng)造了良好條件。
實施例


圖1是本實用新型以燃煤爐為供熱裝置的一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是
圖1的俯視示意圖；圖3是本實用新型還原罐一種結(jié)構(gòu)及位置示意圖。
如圖所示，在本例中，本實用新型包括5排垂直設(shè)置的還原罐1、高溫加熱室3、爐體2，本例的供熱裝置為燃煤爐5，包括加煤口5-1、爐蓖5-2、燃燒室5-4、渣室5-3，燃燒氣體進(jìn)入高溫加熱室3加熱還原罐，廢氣從爐底排出，燃煤爐配有鼓風(fēng)系統(tǒng)5-5，還原罐1的下部有推車4，用以將煉鎂廢渣排出，還原罐的結(jié)構(gòu)如圖3所示，其頂部和底部都是活動開口1-1、1-6，開口可采用手動、氣動、液壓等各種方式進(jìn)行自動開關(guān)，其中，上端外部有冷凝夾套1-2，通過水管1-4接冷凝水，上端內(nèi)部有結(jié)晶器1-3用于鎂蒸汽結(jié)晶，還有真空口1-5用于接真空裝置，還原罐中間部分裝添反應(yīng)物料1-8，底部開口上部加墊塊1-7，本實用新型的反應(yīng)物料可以很方便地從還原罐頂加入，反應(yīng)完成后，打開頂蓋，取出結(jié)晶罐，再打開下蓋，將廢渣放入推車4內(nèi)即可，操作十分方便，如圖2所示，本實用新型可并列設(shè)置多組，占用的空間較少，易實現(xiàn)規(guī)模化生產(chǎn)。
權(quán)利要求1.還原法立式煉鎂爐，包括還原罐(1)、高溫加熱室(3)、爐體(2)及圍繞還原罐的供熱裝置、冷凝結(jié)晶裝置和真空裝置，其特征在于還原罐(1)為垂直排放且其兩端都是活動開口，上端為冷凝結(jié)晶端。
專利摘要本實用新型是一種還原法立式煉鎂爐,包括還原罐1、高溫加熱室3、爐體2及圍繞還原罐的供熱裝置、冷凝結(jié)晶裝置和真空裝置,還原罐1為垂直排放且是活動開口,上端為冷凝結(jié)晶端。本實用新型可明顯提高裝填反應(yīng)物料的均勻性,延長還原罐使用壽命,改善操作環(huán)境,減輕勞動強(qiáng)度,為還原法煉鎂實現(xiàn)規(guī)?；?、自動化創(chuàng)造了良好條件。
文檔編號C22B26/22GK2464737SQ0120571
公開日2001年12月12日 申請日期2001年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2001年2月8日
發(fā)明者衛(wèi)毅, 劉彥琦, 衛(wèi)亞安, 張長保, 衛(wèi)瑋 申請人:銀川市蘭天實用技術(shù)研究所