專利名稱：真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及到一種真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置。
背景技術：
傳統(tǒng)的磁控鍍膜玻璃真空室采用一個腔室，這種腔室在對玻璃進行鍍膜時，陰極 濺射下的雜質(zhì)到處飛濺，當濺到鍍膜玻璃上時，影響了鍍膜的質(zhì)量，導致整塊玻璃不合格， 既浪費了材料又浪費了人工。當腔室長期處于鍍膜狀態(tài)下時，腔室溫度變得過高，影響了鍍 膜的質(zhì)量，降低了腔室的使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題是將提供一種能夠有效阻擋陰極濺射下的雜質(zhì)、保 證鍍膜質(zhì)量的真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置。 為解決上述問題，本發(fā)明采用的技術方案是真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置，包 括腔室，設置在腔室內(nèi)的陰極靶材裝置和玻璃輸送輥道，在陰極靶材裝置的四周設置有冷 卻擋板，并且冷卻擋板的底部設有向內(nèi)彎折的折邊。
在玻璃輸送輥道的兩側還分別設置有冷卻擋板。 本發(fā)明的優(yōu)點是通過采用冷卻擋板后，能夠有效阻擋陰極濺射的雜質(zhì)，減少雜質(zhì) 飛濺，提高了腔室的使用壽命。


圖1是本發(fā)明所述的真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置的結構示意圖；
圖2是圖1中A-A剖視圖。 圖中1、玻璃輸送輥道，2、陰極靶材裝置，3、冷卻擋板，31，折邊，4、腔室。
具體實施例方式
下面結合附圖和具體實施例對本發(fā)明所述的技術方案和優(yōu)點作進一步的描述。
如圖l所示，一種真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置，包括腔室4，設置在腔室4內(nèi)的 陰極靶材裝置2和玻璃輸送輥道l，在陰極靶材裝置2的四周設置有冷卻擋板3，并且冷卻 擋板3的底部設有向內(nèi)彎折的折邊31。在玻璃輸送輥道1的兩側還分別設置有冷卻擋板 3。 本發(fā)明的優(yōu)點是在陰極靶材裝置2的四周和玻璃輸送輥道的兩側設置了冷卻擋 板3后，有效防止了陰極濺射下的雜質(zhì)到處飛濺，當冷卻擋板3長期使用后無法達到預期效 果時，只需更換冷卻擋板3即可，延長了腔室4的使用壽命。另外，在實際使用時還可將循 環(huán)冷卻水管附著在冷卻擋板3上，這樣可有效防止腔室4內(nèi)的溫度過高，進一步確保鍍膜質(zhì)
權利要求
真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置，包括腔室，設置在腔室內(nèi)的陰極靶材裝置和玻璃輸送輥道，其特征在于在陰極靶材裝置的四周設置有冷卻擋板，并且冷卻擋板的底部設有向內(nèi)彎折的折邊。
2. 按照權利要求1所述的真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置，其特征在于在玻璃輸送輥 道的兩側還分別設置有冷卻擋板。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種能夠有效阻擋陰極濺射下的雜質(zhì)、保證鍍膜質(zhì)量的真空磁控鍍膜室中的遮擋裝置，包括腔室，設置在腔室內(nèi)的陰極靶材裝置和玻璃輸送輥道，在陰極靶材裝置的四周設置有冷卻擋板，并且冷卻擋板的底部設有向內(nèi)彎折的折邊。本發(fā)明適合于真空鍍膜玻璃的生產(chǎn)裝置。
文檔編號C23C14/35GK101736301SQ200810235988
公開日2010年6月16日 申請日期2008年11月19日 優(yōu)先權日2008年11月19日
發(fā)明者趙子東 申請人:蘇州新愛可鍍膜設備有限公司