1.一種處理設(shè)備，包括：
輥，所述輥設(shè)置在腔室主體中；
對準測量裝置，所述對準測量裝置用于在基板與所述輥接觸時檢測所述基板中的扭曲；以及
處理裝置，所述處理裝置光刻處理所扭曲的基板。
2.如權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其中所述對準測量裝置包括相機。
3.如權(quán)利要求2所述的處理設(shè)備，其中基于檢測的對準標記處理所述所扭曲的基板。
4.如權(quán)利要求3所述的處理設(shè)備，其中所述處理設(shè)備是幅網(wǎng)處理系統(tǒng)。
5.如權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其中基于檢測的對準標記處理所述所扭曲的基板。
6.如權(quán)利要求5所述的處理設(shè)備，其中所述處理設(shè)備是幅網(wǎng)處理系統(tǒng)。
7.如權(quán)利要求1所述的處理設(shè)備，其中所述處理設(shè)備是幅網(wǎng)處理系統(tǒng)。