1.一種檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的方法，所述方法包括：
擠壓步驟，以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓所述液晶盒；
照射步驟，通過光照射整個(gè)所述液晶盒或所述液晶盒的擠壓位置；
光泄漏測量步驟，在經(jīng)受所述擠壓步驟和所述照射步驟的同時(shí)，測量在所述擠壓位置處穿過所述液晶盒的光的泄漏；以及
檢查步驟，將在所述光泄漏測量步驟中測量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述檢查步驟包括：
如果在所述光泄漏測量步驟中測量的光泄漏在所述預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi)，則確定所述液晶在正常注射情況下，以及
如果在所述光泄漏測量步驟中測量的光泄漏在所述預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外，則確定所述液晶在不良注射情況下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，在所述光泄漏測量步驟中測量的光泄漏包括所述擠壓位置處的光的亮度、所述擠壓位置處的光泄漏的面積以及所述擠壓位置處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
4.一種檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的方法，所述方法包括：
擠壓步驟，以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓所述液晶盒；
照射步驟，通過光照射整個(gè)所述液晶盒或所述液晶盒的擠壓位置；
復(fù)原時(shí)間測量步驟，在經(jīng)受所述擠壓步驟和所述照射步驟的同時(shí)，基于在所述擠壓位置處穿過所述液晶盒的光的泄漏來測量使所述擠壓位置處的液晶復(fù)原所用的時(shí)間；以及
檢查步驟，將在所述復(fù)原時(shí)間測量步驟中測量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述檢查步驟包括：
如果在所述復(fù)原時(shí)間測量步驟中測量的復(fù)原時(shí)間在所述預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍內(nèi)，則確定所述液晶在正常注射情況下，以及
如果在所述復(fù)原時(shí)間測量步驟中測量的復(fù)原時(shí)間在所述預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍之外，則確定所述液晶在不良注射情況下。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，在所述復(fù)原時(shí)間測量步驟中測量的復(fù)原時(shí)間是基于所述光泄漏通過所述擠壓步驟在所述擠壓位置處出現(xiàn)的第一時(shí)間與所述光泄漏在所述擠壓位置處消失的第二時(shí)間之間的差來計(jì)算的。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，在所述復(fù)原時(shí)間測量步驟中測量的復(fù)原時(shí)間是基于所述光泄漏通過所述擠壓步驟在所述擠壓位置處出現(xiàn)的第一時(shí)間與所述光泄漏在所述擠壓位置處消失的第二時(shí)間之間的差來計(jì)算的。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法，還包括改變所述液晶盒上的擠壓位置的位置調(diào)整步驟。
9.一種用于檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的裝置，所述裝置包括：
擠壓單元，用于以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓所述液晶盒；
照射單元，用于通過光照射整個(gè)所述液晶盒或所述液晶盒的擠壓位置；
光泄漏測量單元，用于根據(jù)所述擠壓單元和所述照射單元的操作來測量在所述擠壓位置處穿過所述液晶盒的光的泄漏；以及
檢查單元，用于將在所述光泄漏測量單元中測量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中，如果在所述光泄漏測量單元中測量的光泄漏在所述預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi)，則所述檢查單元確定所述液晶在正常注射情況下；以及如果在所述光泄漏測量單元中測量的光泄漏在所述預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外，則所述檢查單元確定所述液晶在不良注射情況下。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中，在所述光泄漏測量單元中測量的光泄漏包括所述擠壓位置處的光的亮度、所述擠壓位置處的光泄漏的面積以及所述擠壓位置處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
12.一種用于檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的裝置，所述裝置包括：
擠壓單元，用于以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓所述液晶盒；
照射單元，用于通過光照射整個(gè)所述液晶盒或所述液晶盒的擠壓位置；
復(fù)原時(shí)間測量單元，用于根據(jù)所述擠壓單元和所述照射單元的操作基于在所述擠壓位置處穿過所述液晶盒的光的泄漏來測量使所述擠壓位置處的液晶復(fù)原所用的時(shí)間；以及
檢查單元，用于將在所述復(fù)原時(shí)間測量單元中測量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中，如果在所述復(fù)原時(shí)間測量單元中測量的復(fù)原時(shí)間在所述預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍內(nèi)，則所述檢查單元確定所述液晶在正常注射情況下；以及如果在所述復(fù)原時(shí)間測量單元中測量的復(fù)原時(shí)間在所述預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍之外，則所述檢查單元確定所述液晶在不良注射情況下。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中，在所述復(fù)原時(shí)間測量步驟中測量的復(fù)原時(shí)間是基于所述光泄漏通過擠壓步驟在所述擠壓位置處出現(xiàn)的第一時(shí)間與所述光泄漏在所述擠壓位置處消失的第二時(shí)間之間的差來計(jì)算的。
15.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，還包括：光泄漏測量單元，用于根據(jù)所述擠壓單元和所述照射單元來測量在所述擠壓位置處穿過所述液晶盒的光的泄漏。
16.根據(jù)權(quán)利要求9至15中任一項(xiàng)所述的裝置，還包括：測量控制器，用于改變在所述液晶盒上的擠壓位置。