本發(fā)明涉及用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置,更具體地,涉及用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置,其中,在通過(guò)光照射的同時(shí)局部擠壓具有注射在上基板與下基板之間的液晶的液晶盒,使得可以基于液晶盒的光泄漏來(lái)檢查液晶的注射情況。
背景技術(shù):
通常,液晶顯示(LCD)裝置包括光源和液晶盒,并且利用液晶的雙折射來(lái)控制光的透射,從而顯示各種圖像。在制造液晶盒的過(guò)程中,提出了一種將液晶材料散布到基板上并且使用另一基板來(lái)覆蓋該基板的技術(shù)。這樣的技術(shù)顯著減少了在用于形成液晶盒的過(guò)程中所需步驟的數(shù)量,并且由此提高了制造效率。
具體地,滴下式注入(ODF)法包括以下步驟。首先,向一對(duì)基板中的一個(gè)基板的整個(gè)邊緣施加密封劑以形成密封構(gòu)件,并且將液晶材料散布在該對(duì)基板中的一個(gè)基板上。在散布步驟之后,將一個(gè)基板布置在另一基板上。在這種狀態(tài)下,使密封構(gòu)件硬化。
與常規(guī)真空注射法相比,該ODF法減少了使用液晶材料的量以及注射液晶材料所花費(fèi)的時(shí)間,從而顯著減少了液晶盒的制造成本,并且提高了產(chǎn)率。
此時(shí),更重要的是檢查液晶的注射情況,以防止當(dāng)基板變得更薄和更大并且液晶盒具有更高分辨率時(shí)液晶盒的驅(qū)動(dòng)缺陷。
現(xiàn)有技術(shù)
專利文獻(xiàn)
題為“SYSTEM FOR TESTING A LIQUID CRYSTAL AND END SEAL OF LCD CELL”并于2000年1月15日公布的韓國(guó)專利第10-0279260號(hào)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
因此,構(gòu)思本發(fā)明以解決上述問(wèn)題,并且本發(fā)明的一個(gè)方面提供了一種用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置,其中,在通過(guò)光照射的同時(shí)局部擠壓具有注射在上基板與下基板之間的液晶的液晶盒,使得可以基于來(lái)自液晶盒的光泄漏來(lái)檢查液晶的注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,提供了一種檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的方法,該方法包括:擠壓步驟,以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓液晶盒;照射步驟,通過(guò)光照射整個(gè)液晶盒或液晶盒的擠壓位置;光泄漏測(cè)量步驟,在經(jīng)受擠壓步驟和照射步驟的同時(shí)測(cè)量在擠壓位置處穿過(guò)液晶盒的光的泄漏;以及檢查步驟,將在光泄漏測(cè)量步驟中測(cè)量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。
檢查步驟可以包括:如果在光泄漏測(cè)量步驟中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),則確定液晶在正常注射情況下,而如果在光泄漏測(cè)量步驟中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外,則確定液晶在不良注射情況下。
在光泄漏測(cè)量步驟中測(cè)量的光泄漏可以包括擠壓位置處的光的亮度、擠壓位置處的光泄漏的面積以及擠壓位置處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,提供了一種檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的方法,該方法包括:擠壓步驟,以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓液晶盒;照射步驟,通過(guò)光照射整個(gè)液晶盒或液晶盒的擠壓位置;復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟,在經(jīng)受擠壓步驟和照射步驟的同時(shí),基于在擠壓位置處穿過(guò)液晶盒的光的泄漏來(lái)測(cè)量使擠壓位置處的液晶復(fù)原所用的時(shí)間;以及檢查步驟,將在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。
檢查步驟可以包括:如果在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍內(nèi),則確定液晶在正常注射情況下,而如果在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍之外,則確定液晶在不良注射情況下。
在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間可以基于當(dāng)光泄漏通過(guò)擠壓步驟在擠壓位置處出現(xiàn)的第一時(shí)間與當(dāng)光泄漏在擠壓位置處消失的第二時(shí)間之間的差來(lái)計(jì)算。
上述方法還可以包括:光泄漏測(cè)量步驟,在經(jīng)受擠壓步驟和照射步驟的同時(shí),測(cè)量在擠壓位置處穿過(guò)液晶盒的光的泄漏。
上述方法還可以包括改變液晶盒上的擠壓位置的位置調(diào)整步驟。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,提供了一種用于檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的裝置,該裝置包括:擠壓?jiǎn)卧?,用于以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓液晶盒;照射單元,用于通過(guò)光照射整個(gè)液晶盒或液晶盒的擠壓位置;光泄漏測(cè)量單元,用于根據(jù)擠壓?jiǎn)卧驼丈鋯卧牟僮鱽?lái)測(cè)量在擠壓位置處穿過(guò)液晶盒的光的泄漏;以及檢查單元,用于將在光泄漏測(cè)量單元中測(cè)量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。
如果在光泄漏測(cè)量單元中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),則檢查單元可以確定液晶在正常注射情況下,而如果在光泄漏測(cè)量單元中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外,則檢查單元可以確定液晶在不良注射情況下。
在光泄漏測(cè)量單元中測(cè)量的光泄漏可以包括擠壓位置處的光的亮度、擠壓位置處的光泄漏的面積以及擠壓位置處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,提供了一種用于檢查注射在液晶盒的上基板與下基板之間的液晶的注射情況的裝置,該裝置包括:擠壓?jiǎn)卧?,用于以預(yù)設(shè)壓力在擠壓位置處擠壓液晶盒;照射單元,用于通過(guò)光照射整個(gè)液晶盒或液晶盒的擠壓位置;復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元,用于根據(jù)擠壓?jiǎn)卧驼丈鋯卧牟僮骰谠跀D壓位置處穿過(guò)液晶盒的光的泄漏來(lái)測(cè)量使在擠壓位置處的液晶復(fù)原所用的時(shí)間;以及檢查單元,用于將在復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。
如果在復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍內(nèi),則檢查單元可以確定液晶在正常注射情況下,而如果在復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍之外,則檢查單元可以確定液晶在不良注射情況下。
在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間可以基于當(dāng)光泄漏通過(guò)擠壓步驟在擠壓位置處出現(xiàn)的第一時(shí)間與當(dāng)光泄漏在擠壓位置處消失的第二時(shí)間之間的差來(lái)計(jì)算。
上述裝置還可以包括:光泄漏測(cè)量單元,用于根據(jù)擠壓?jiǎn)卧驼丈鋯卧獊?lái)測(cè)量在擠壓位置處穿過(guò)液晶盒的光的泄漏。
上述裝置還可以包括:測(cè)量控制器,用于改變液晶盒上的擠壓位置。
附圖說(shuō)明
結(jié)合附圖,本發(fā)明的以上和/或其他方面將從對(duì)下面示例性實(shí)施方式的描述中變得明顯和更容易理解,在附圖中:
圖1(A)至圖1(C)是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的液晶被注射到液晶盒中的視圖;
圖2(A)至圖2(C)是示出在用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置中在擠壓位置處的液晶盒的光泄漏變化的視圖;
圖3示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置;
圖4示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置的替選示例;
圖5示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法;
圖6示出根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式的在用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置中使擠壓位置處的液晶復(fù)原所用的時(shí)間;
圖7示出根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置;
圖8示出根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置的替選示例;以及
圖9示出根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法。
具體實(shí)施方式
下文中,將參照附圖詳細(xì)描述根據(jù)本發(fā)明的用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置的實(shí)施方式。本發(fā)明不受以下實(shí)施方式的限制或約束。此外,可以省略對(duì)公知功能或元件的詳細(xì)描述以使本發(fā)明清楚。
圖1是示出根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的液晶被注射在液晶盒中的視圖,圖2是示出在用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置中液晶盒在擠壓位置處的光泄漏變化的視圖。
參照?qǐng)D1和圖2,通過(guò)將液晶LC注射在通過(guò)多個(gè)主間隔體MC而間隔開(kāi)預(yù)定距離的上基板GT與下基板GB之間來(lái)完成根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的液晶盒SG。此時(shí),在主間隔體MC之間布置有子間隔體SC,從而增強(qiáng)上基板GT與下基板GB之間的空間。
雖然未示出,但是可以在液晶盒SG的兩側(cè)上布置偏振膜。布置在液晶盒SG的一側(cè)上的偏振膜的偏振方向可以與布置在液晶盒SG的另一側(cè)上的偏振膜的偏振方向相交?;旧?,偏振方向可以彼此垂直。
例如,如果偏振膜被分別布置在液晶盒SG的兩側(cè)上,則可以不在相機(jī)單元30的相機(jī)31和照射單元36(稍后描述)中布置偏振膜。
替選地,如果偏振膜不被布置在液晶盒SG的各個(gè)側(cè)上,則偏振膜可以分別被布置在相機(jī)單元30的相機(jī)31和照射單元36(稍后描述)中,同時(shí)彼此垂直相交。
在液晶LC的正常注射情況下,如圖1(a)中所示,主間隔體MC的相對(duì)側(cè)被支承在上基板GT與下基板GB二者上。此外,液晶LC被填充在上基板GT與下基板GB之間,而沒(méi)有留下任何空的空間。
在液晶LC過(guò)量注射情況下,如圖1(b)中所示,主間隔體MC的第一端被支承在下基板GB上,而主間隔體MC的第二端由于液晶LC的過(guò)量注射而與上基板GT間隔開(kāi)。此時(shí),在上基板GT與下基板GB之間沒(méi)有空的空間,但是液晶LC填充在主間隔體MC的第二端與上基板GT之間。
在液晶LC不充足注射情況下,如圖1(c)中所示,主間隔體MC的相對(duì)側(cè)被支承在上基板GT與下基板GB二者上。雖然液晶LC被填充在上基板GT與下基板GB之間,但是由于液晶LC的不足量而會(huì)在上基板GT與下基板GB之間形成空的空間。
此處,如果在通過(guò)光照射液晶盒SG的同時(shí)擠壓?jiǎn)卧?0(稍后描述)以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓液晶盒SG,則在液晶盒SG上的擠壓位置P處發(fā)生光泄漏現(xiàn)象,好像液晶LC由于施加至液晶盒SG的壓力Pp而被驅(qū)動(dòng)。
例如,在液晶LC正常注射情況下,從液晶盒SG泄漏的光的亮度Pa在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),即使根據(jù)擠壓位置P可能存在小的亮度Pa差。
此處,“Pa”指當(dāng)擠壓?jiǎn)卧?0以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓液晶盒SG時(shí)在擠壓位置P處的光的亮度。此時(shí),如果液晶盒SG沒(méi)有被擠壓,則在擠壓位置P處的光的亮度為“0”。
換言之,如圖2(a)中所示,如果正常注射液晶LC,則在擠壓位置P處的光的亮度Pa等于或小于預(yù)設(shè)參考變化的最大值Ph,或者等于或大于預(yù)設(shè)參考變化的最小值Ps。
然而,如果液晶LC在過(guò)量注射情況下或液晶LC在不充足注射情況下,則如圖2(b)中所示在擠壓位置P處的光的亮度Pa小于預(yù)設(shè)參考變化的最小值Ps,或者如圖2(c)中所示大于預(yù)設(shè)參考變化的最大值Ph。
替選地,如果液晶LC在正常注射情況下,則擠壓位置P處的光泄漏直徑Da在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),即使根據(jù)擠壓位置P而可能存在直徑Da的較小差。
此處,“Da”指當(dāng)擠壓?jiǎn)卧?0以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓液晶盒SG時(shí)在擠壓位置P處的光泄漏的直徑。此時(shí),如果液晶盒SG沒(méi)有被擠壓,則在擠壓位置P處的光泄漏的直徑為“0”。
換言之,如果正常注射液晶LC,則如圖2(a)中所示,擠壓位置P處的光泄漏的直徑Da等于或者小于預(yù)設(shè)參考變化的最大值Dh,或者等于或大于預(yù)設(shè)參考變化的最小值Ds。
然而,如果液晶LC在過(guò)量注射情況下或液晶LC在不充足注射情況下,則如圖2(b)中所示,擠壓位置P處的光泄漏的直徑Da小于預(yù)設(shè)參考變化的最大值Ds,或者如圖2(c)中所示,大于預(yù)設(shè)參考變化的最大值Dh。
在上述說(shuō)明中,擠壓位置P處的光泄漏包括擠壓位置P處的光的亮度、擠壓位置P處的光泄漏的面積以及擠壓位置P處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
像這樣,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置基于以下原理:擠壓位置P處的光泄漏取決于液晶LC的注射情況而變化。在本發(fā)明的下面的實(shí)施方式中,將首先描述用于檢查液晶的注射情況的裝置,接著將利用該裝置來(lái)描述檢查液晶的注射情況的方法。
下面,將描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置。圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置,圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置的替選示例。
參照?qǐng)D1至圖4,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置對(duì)液晶盒SG的在通過(guò)局部擠壓液晶盒SG而造成的擠壓位置處的光泄漏進(jìn)行測(cè)量,從而檢查液晶LC的注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,用于檢查液晶的注射情況的裝置包括擠壓?jiǎn)卧?0、照射單元36、光泄漏測(cè)量單元30以及檢查單元40。
擠壓?jiǎn)卧?0以預(yù)設(shè)壓力Pp在擠壓位置P處擠壓液晶盒SG。例如,擠壓?jiǎn)卧?0可以是間接擠壓型,其包括用于向擠壓位置P噴射流體的各種噴射器。替選的,擠壓?jiǎn)卧?0可以是直接擠壓型,其包括具有尖端的各種擠壓器,該尖端用于以預(yù)設(shè)壓力Pp向擠壓位置P擠壓。擠壓?jiǎn)卧?0可以以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓擠壓位置P達(dá)一定時(shí)間段,而不用連續(xù)擠壓擠壓位置P。
擠壓?jiǎn)卧?0可以用于執(zhí)行擠壓步驟S2(稍后描述)。
照射單元36向整個(gè)液晶盒SG或擠壓位置P發(fā)射光。此處,對(duì)照射單元36沒(méi)有限制,并且可以使用各種結(jié)構(gòu)向擠壓位置P處的液晶盒SG發(fā)射光。同樣地,對(duì)照射單元36沒(méi)有限制,并且可以使用各種結(jié)構(gòu)向整個(gè)液晶盒SG發(fā)射光。
擠壓?jiǎn)卧?0被布置在液晶盒SG上方,而照射單元36被布置在液晶盒SG下方,從而防止擠壓?jiǎn)卧?0的操作干擾照射單元36。
照射單元36可以用于執(zhí)行照射步驟S3(稍后描述)。
光泄漏測(cè)量單元30根據(jù)擠壓?jiǎn)卧?0和照射單元36的操作對(duì)在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏進(jìn)行測(cè)量。
此處,對(duì)光泄漏測(cè)量單元30沒(méi)有限制,并且可以使用照度計(jì)、干涉儀、相機(jī)等來(lái)對(duì)在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏進(jìn)行測(cè)量。當(dāng)在照射單元36向擠壓位置P或整個(gè)液晶盒SG發(fā)射光的狀態(tài)下擠壓?jiǎn)卧?0擠壓擠壓位置P時(shí),光泄漏測(cè)量單元30可以對(duì)在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏進(jìn)行測(cè)量。
如圖3中所示,光泄漏測(cè)量單元30可以包括光泄漏測(cè)量器31以及位置調(diào)整器32。
光泄漏測(cè)量器31被布置在液晶盒SG上方并且與液晶盒SG隔開(kāi)。光泄漏測(cè)量器31對(duì)在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏進(jìn)行測(cè)量。此處,擠壓?jiǎn)卧?0可以在光泄漏測(cè)量器31與液晶盒SG之間擠壓擠壓位置P。此外,光泄漏測(cè)量器31可以通過(guò)照度計(jì)、干涉儀、相機(jī)等來(lái)測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。
光泄漏測(cè)量器31可以用于執(zhí)行光泄漏測(cè)量步驟S31(稍后描述)。
位置調(diào)整器32被布置在液晶盒SG上方,并且使光泄漏測(cè)量器31向?qū)?yīng)于擠壓位置P的位置移動(dòng)。位置調(diào)整器32可以布置在液晶盒SG上方,并且使擠壓?jiǎn)卧?0向?qū)?yīng)于擠壓位置P的位置移動(dòng)。對(duì)位置調(diào)整器32沒(méi)有限制,可以使用各種結(jié)構(gòu)根據(jù)液晶盒SG上方的擠壓位置P來(lái)移動(dòng)光泄漏測(cè)量器31和擠壓?jiǎn)卧?0。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,用于檢查液晶的注射情況的裝置還可以包括用于改變液晶盒SG中的擠壓位置P的測(cè)量控制器35。測(cè)量控制器35控制使光泄漏測(cè)量器31和擠壓?jiǎn)卧?0移動(dòng)的位置調(diào)整器32來(lái)對(duì)應(yīng)于擠壓位置P移動(dòng),從而改變液晶盒SG上的擠壓位置P。
測(cè)量控制器35可以用于結(jié)合位置調(diào)整器32來(lái)執(zhí)行位置調(diào)整步驟S5。
替選地,如圖4中所示,光泄漏測(cè)量單元30可以包括測(cè)量支承件34以及光泄漏測(cè)量器31。
測(cè)量支承件34與液晶盒SG間隔開(kāi)。
在測(cè)量支承件34中布置有對(duì)應(yīng)于擠壓位置的多個(gè)光泄漏測(cè)量器31。光泄漏測(cè)量器31測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。此外,光泄漏測(cè)量器31可以使用照度計(jì)、干涉儀、相機(jī)等來(lái)測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。
光泄漏測(cè)量器31可以用于執(zhí)行下面的光泄漏測(cè)量步驟S31。
例如,測(cè)量支承件34可以支承對(duì)應(yīng)于擠壓位置P的多個(gè)擠壓?jiǎn)卧?0和多個(gè)光泄漏測(cè)量器31。
替選地,測(cè)量支承件34可以支承對(duì)應(yīng)于擠壓位置P的多個(gè)擠壓?jiǎn)卧?0和多個(gè)光泄漏測(cè)量器31中的一者,并且位置調(diào)整器32可以布置有光泄漏測(cè)量器31和擠壓?jiǎn)卧?0中的另一者。
在這種情況下,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置還可以包括用于改變液晶盒SG上的擠壓位置P的測(cè)量控制器35。
例如,測(cè)量控制器35根據(jù)擠壓位置P來(lái)操作支承在測(cè)量支承件34上的光泄漏測(cè)量器31和擠壓?jiǎn)卧?0,從而改變液晶盒SG上的擠壓位置P。
替選地,測(cè)量控制器35可以根據(jù)擠壓點(diǎn)P來(lái)操作支承在測(cè)量支承件34上的光泄漏測(cè)量器31和擠壓?jiǎn)卧?0之一,并且操作位置調(diào)整器32以使光泄漏測(cè)量器31和擠壓?jiǎn)卧?0中的另一者移動(dòng)至對(duì)應(yīng)的擠壓位置P,從而改變液晶盒SG上的擠壓位置P。
測(cè)量控制器35可以用于結(jié)合位置調(diào)整器32來(lái)執(zhí)行下面的位置調(diào)整步驟S5。
此時(shí),通過(guò)光泄漏測(cè)量單元30測(cè)量的光泄漏可以包括擠壓位置P處的光的亮度、擠壓位置P處的光泄漏的面積、擠壓位置P處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
光泄漏測(cè)量單元30可以用于執(zhí)行下面的光泄漏測(cè)量步驟S31。
檢查單元40將通過(guò)光泄漏測(cè)量器31測(cè)量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。
檢查單元40可以用于執(zhí)行檢查步驟S4(稍后描述)。
如果由光泄漏測(cè)量器31測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),則檢查單元40確定液晶LC被正常注射。另一方面,如果由光泄漏測(cè)量器31測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外,則檢查單元40確定液晶LC處于不良注射情況。
附圖標(biāo)記“10”指示在其上裝載液晶盒SG的平臺(tái)。此時(shí),平臺(tái)10可以布置有用于向液晶盒SG發(fā)射光的照射單元36。平臺(tái)10可以用于執(zhí)行布置步驟S1(稍后描述)。
下面,將描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法。圖5示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法。
參照?qǐng)D1至圖5,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法對(duì)通過(guò)局部擠壓液晶盒SG造成的液晶盒SG的擠壓位置處的光泄漏進(jìn)行測(cè)量,從而檢查液晶LC的注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法包括擠壓步驟S2、照射步驟S3、光泄漏測(cè)量步驟S31以及檢查步驟S4。
擠壓步驟S2是以預(yù)設(shè)壓力Pp在擠壓位置P處擠壓液晶盒SG。在擠壓步驟S2中,根據(jù)擠壓?jiǎn)卧?0的操作以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓液晶盒SG的擠壓位置P。
照射步驟S3是用光來(lái)照射整個(gè)液晶盒SG或擠壓位置P。在照射步驟S3中,照射單元36用于向整個(gè)液晶盒SG或液晶盒SG的擠壓位置P發(fā)射光。
光泄漏測(cè)量步驟S31是在擠壓步驟S2和照射步驟S3之后測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。在光泄漏測(cè)量步驟S31中,在照射單元36用光來(lái)照射液晶盒SG的狀態(tài)下,擠壓?jiǎn)卧?0擠壓擠壓位置P,并且光泄漏測(cè)量單元30測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。
此時(shí),在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏可以包括在擠壓位置P處的光的亮度、擠壓位置P處的光泄漏的面積以及擠壓位置P處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
檢查步驟S4是將在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。在檢查步驟S4中,檢查單元40將在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏與預(yù)設(shè)參考變化進(jìn)行比較。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,檢查液晶的注射情況的方法還可以包括位置調(diào)整步驟S5。
位置調(diào)整步驟S5改變液晶盒SG上的擠壓位置P。在位置調(diào)整步驟S5中,液晶盒SG上的擠壓位置P可以根據(jù)測(cè)量控制器35的操作而改變。通過(guò)位置調(diào)整步驟S5,可以檢查多個(gè)擠壓位置P中的各個(gè)擠壓位置P處的液晶的注射情況。
在檢查步驟S4中,如果在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),則確定液晶LC被正常注射。此外,在檢查步驟S4中,如果在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差變化之外,則確定液晶LC處于不良注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式,檢查液晶的注射情況的方法還可以包括通過(guò)步驟S41或拒絕步驟S42。
當(dāng)在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi)時(shí),執(zhí)行通過(guò)步驟S41。在通過(guò)步驟S41中,確定其中注射液晶LC的基板是正常的。
由于檢查多個(gè)擠壓位置P,所以如果所有的擠壓位置P均在通過(guò)步驟S41中通過(guò),則接下來(lái)進(jìn)行替換步驟S43和布置步驟S1。
替換步驟S43是將在通過(guò)步驟S41中通過(guò)的液晶盒SG從平臺(tái)10卸下,并且將新的液晶盒SG裝載到平臺(tái)10上。
布置步驟S1是將新的液晶盒SG布置到平臺(tái)10的適當(dāng)位置上。在替換步驟S43和布置步驟S1之后,根據(jù)液晶的注射情況來(lái)使新的液晶盒SG經(jīng)受檢查。
當(dāng)在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外時(shí),執(zhí)行拒絕步驟S42。在拒絕步驟S42中,確定其中注射液晶LC的基板為不良的。
在拒絕步驟S42之后,接下來(lái)進(jìn)行替換步驟S43和布置步驟S1。
替換步驟S43是將拒絕步驟S42的液晶盒SG從平臺(tái)10卸下,并且將新的液晶盒SG裝載到平臺(tái)10上。
布置步驟S1是將新的液晶盒SG布置到平臺(tái)10的適當(dāng)位置上。在替換步驟S43和布置步驟S1之后,根據(jù)液晶的注射情況來(lái)使新的液晶盒SG經(jīng)受檢查。
下面,將根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式來(lái)描述用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置。
圖6示出在根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置中使擠壓位置處的液晶復(fù)原所用的時(shí)間。
參照?qǐng)D1和圖6,如果擠壓?jiǎn)卧?0(稍后描述)以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓液晶盒SG,同時(shí)通過(guò)光照射液晶盒SG,則在液晶盒SG上的擠壓位置P處發(fā)生光泄漏現(xiàn)象,好像液晶LC由于施加至液晶盒SG的壓力Pp而被驅(qū)動(dòng)。
如果液晶盒SG沒(méi)有被擠壓,則液晶LC的注射情況得以保持。另一方面,如果液晶盒SG被擠壓,則液晶LC由于預(yù)設(shè)壓力Pp而移動(dòng)并且復(fù)原至其原始狀態(tài),從而造成在擠壓位置P處的光泄漏變化。此外,擠壓位置P處的光泄漏的變化可以通過(guò)使液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間表示。此處,可以基于擠壓?jiǎn)卧?0使光泄漏在擠壓位置P處出現(xiàn)的第一時(shí)間與光泄漏在擠壓位置P處消失的第二時(shí)間之間的差來(lái)計(jì)算使液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間。雖未示出,但是如果第一時(shí)間設(shè)置為“0”,則由于僅需要根據(jù)第一時(shí)間來(lái)計(jì)算第二時(shí)間,所以計(jì)算得以簡(jiǎn)化。
在液晶LC中的正常注射情況下,使擠壓位置P處的液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),即使根據(jù)擠壓位置P可能存在小的復(fù)原時(shí)間差。
換言之,如果液晶LC在正常注射情況下,則如圖6的實(shí)線所示,光泄漏在第一時(shí)間t0處出現(xiàn),并在第二時(shí)間ta處消失。因此,擠壓位置P處的液晶LC的復(fù)原時(shí)間ta-t0等于或短于預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的最大值,并且等于或長(zhǎng)于預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的最小值。
然而,如果液晶LC在過(guò)量注射情況下或者液晶LC在不充足注射下,則如圖6的虛線所示,光泄漏在第一時(shí)間t0處出現(xiàn),并在第二時(shí)間tb處消失。因此,擠壓位置P處的液晶LC的復(fù)原時(shí)間tb-t0會(huì)長(zhǎng)于預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的最大值,或者短于預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的最小值。此外,如圖6的虛線所示,光泄漏在第一時(shí)間t0處出現(xiàn),并且在第二時(shí)間tc處消失。同樣地,在這種情況下,擠壓位置P處的液晶LC的復(fù)原時(shí)間tc-t0會(huì)長(zhǎng)于預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的最大值或短于預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的最小值。
像這樣,根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置采用以下原理:使擠壓位置P處的液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間取決于液晶LC的注射情況而變化。在本發(fā)明的該實(shí)施方式中,將首先描述用于檢查液晶的注射情況的裝置,接著利用該裝置來(lái)描述檢查液晶的注射情況的方法。
下面,將描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置。圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置,圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置的替選示例。
參照?qǐng)D1以及圖6至圖8,根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置基于通過(guò)局部擠壓液晶盒SG造成的擠壓位置P處的液晶盒SG的光泄漏來(lái)測(cè)量使液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間,從而檢查液晶LC的注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置包括擠壓?jiǎn)卧?0、照射單元36、復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33以及檢查單元40。
液晶盒SG在擠壓位置P以預(yù)設(shè)壓力Pp被擠壓。例如,擠壓?jiǎn)卧?0可以是間接擠壓型,其包括用于向擠壓位置P噴射流體的各種噴射器。替選的,擠壓?jiǎn)卧?0可以是直接擠壓型,其包括具有用于以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓擠壓位置P的尖端的各種擠壓器。擠壓?jiǎn)卧?0可以以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓擠壓位置P達(dá)一定時(shí)間段,而不用連續(xù)擠壓擠壓位置P。
擠壓?jiǎn)卧?0可以用于執(zhí)行擠壓步驟S2(稍后描述)。
照射單元36向整個(gè)液晶盒SG或擠壓位置P發(fā)射光。此處,對(duì)照射單元36沒(méi)有限制,并且可以使用各種結(jié)構(gòu)來(lái)在擠壓位置P處向液晶盒SG發(fā)射光。同樣地,對(duì)照射單元36沒(méi)有限制,并且可以使用各種結(jié)構(gòu)來(lái)向整個(gè)液晶盒SG發(fā)射光。
擠壓?jiǎn)卧?0布置在液晶盒SG上方,而照射單元36布置在液晶盒SG下方,從而防止擠壓?jiǎn)卧?0的操作干擾照射單元36。
照射單元36可以用于執(zhí)行照射步驟S3(稍后描述)。
復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33根據(jù)擠壓?jiǎn)卧?0和照射單元36的操作基于穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏來(lái)測(cè)量使擠壓位置P處的液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間。
通過(guò)當(dāng)光泄漏通過(guò)擠壓?jiǎn)卧?0而在擠壓位置P處出現(xiàn)時(shí)的第一時(shí)間與當(dāng)光泄漏在擠壓位置P處消失時(shí)的第二時(shí)間之間的差來(lái)計(jì)算使液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間。雖未示出,但是如果第一時(shí)間設(shè)置為“0”,則由于僅需要根據(jù)第一時(shí)間來(lái)計(jì)算第二時(shí)間,所以計(jì)算得以簡(jiǎn)化。
復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33可以用于執(zhí)行復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32(稍后描述)。
檢查單元40將通過(guò)復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33測(cè)量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。
檢查單元40可以用于執(zhí)行檢查步驟S4(稍后描述)。
如果通過(guò)復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍內(nèi),則檢查單元40確定液晶LC被正常注射。另一方面,如果通過(guò)復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間的誤差范圍之外,則檢查單元40確定液晶LC處于不良注射情況。
附圖標(biāo)記“10”指示在其上裝載液晶盒SG的平臺(tái)。此時(shí),平臺(tái)10可以布置有用于向液晶盒SG發(fā)射光的照射單元36。平臺(tái)10可以用于執(zhí)行布置步驟S1(稍后描述)。
根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式,用于檢查液晶的注射情況的裝置還可以包括光泄漏測(cè)量單元30以及測(cè)量控制器35。
在根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置中,光泄漏測(cè)量單元30和測(cè)量控制器35等同于根據(jù)本發(fā)明的前述實(shí)施方式的用于檢查液晶的注射情況的裝置中的光泄漏測(cè)量單元和測(cè)量控制器,并且貫穿圖7和圖8給出相同的附圖標(biāo)記。因此,將根據(jù)需要避免其重復(fù)描述。
下面,將描述根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法。圖9示出根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法。
參照?qǐng)D1以及圖6至圖9,根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法基于通過(guò)局部擠壓液晶盒SG造成的擠壓位置P處的液晶盒SG的光泄漏來(lái)測(cè)量使液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間,從而檢查液晶LC的注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式的檢查液晶的注射情況的方法包括擠壓步驟S2、照射步驟S3、復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32以及檢查步驟S4。
擠壓步驟S2是以預(yù)設(shè)壓力Pp在擠壓位置P處擠壓液晶盒SG。在擠壓步驟S2中,擠壓?jiǎn)卧?0用于以預(yù)設(shè)壓力Pp擠壓液晶盒SG的擠壓位置P。
照射步驟S3是通過(guò)光照射整個(gè)液晶盒SG或擠壓位置P。在照射步驟S3中,照射單元36用于向整個(gè)液晶盒SG或液晶盒SG的擠壓位置P發(fā)射光。
復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32是在經(jīng)受擠壓步驟S2和照明步驟S3的同時(shí)基于穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏來(lái)測(cè)量使擠壓位置P處的液晶LC的復(fù)原所用的時(shí)間。在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中,復(fù)原時(shí)間測(cè)量單元33用于基于穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏來(lái)測(cè)量使擠壓位置P處的液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間。
可以通過(guò)當(dāng)光泄漏通過(guò)擠壓?jiǎn)卧?0在擠壓位置P處出現(xiàn)的第一時(shí)間與當(dāng)光泄漏在擠壓位置P處消失的第二時(shí)間之間的差來(lái)計(jì)算在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間。雖未示出,但是如果第一時(shí)間被設(shè)置為“0”,則由于僅需要根據(jù)第一時(shí)間來(lái)計(jì)算第二時(shí)間,所以計(jì)算得以簡(jiǎn)化。
檢查步驟S4是將在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。在檢查步驟S4中,檢查單元40用于將在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間與預(yù)設(shè)參考復(fù)原時(shí)間進(jìn)行比較。
根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式,檢查液晶的注射情況的方法還可以包括位置調(diào)整步驟S5。
位置調(diào)整步驟S5改變液晶盒SG上的擠壓位置P。在位置調(diào)整步驟S5中,可以根據(jù)測(cè)量控制器35的操作來(lái)改變液晶盒SG上的擠壓位置P。通過(guò)位置調(diào)整步驟S5,可以檢查多個(gè)擠壓位置P中的各個(gè)擠壓位置P處的液晶的注射情況。
在檢查步驟S4中,如果在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi),則確定液晶LC被正常注射。此外,在檢查步驟S4中,如果在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外,則確定液晶LC處于不良注射情況。
根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式,檢查液晶的注射情況的方法還可以包括通過(guò)步驟S41或拒絕步驟S42。
當(dāng)在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍內(nèi)時(shí),執(zhí)行通過(guò)步驟S41。在通過(guò)步驟S41中,確定注射液晶LC的基板是正常的。
由于檢查多個(gè)擠壓位置P,所以如果所有的擠壓位置P均在通過(guò)步驟S41中通過(guò),則接下來(lái)進(jìn)行替換步驟S43和布置步驟S1。
替換步驟S43是將在通過(guò)步驟S41中通過(guò)的液晶盒SG從平臺(tái)10卸下,并且將新的液晶盒SG裝載到平臺(tái)10上。
布置步驟S1是將新的液晶盒SG布置到平臺(tái)10上的適當(dāng)位置。在替換步驟S43和布置步驟S1之后,使新的液晶盒SG根據(jù)液晶的注射情況來(lái)經(jīng)受檢查。
當(dāng)在復(fù)原時(shí)間測(cè)量步驟S32中測(cè)量的復(fù)原時(shí)間在預(yù)設(shè)參考變化的誤差范圍之外時(shí),執(zhí)行拒絕步驟S42。在拒絕步驟S42中,確定注射液晶LC的基板是不良的。
在拒絕步驟S42之后,接下來(lái)進(jìn)行替換步驟S43和布置步驟S1。
替換步驟S43是將拒絕步驟S42的液晶盒SG從平臺(tái)10卸下,并且將新的液晶盒SG裝載到平臺(tái)10上。
布置步驟S1是將新的液晶盒SG布置在平臺(tái)10上的適當(dāng)位置。在替換步驟S43和布置步驟S1之后,使新的液晶盒SG根據(jù)液晶的注射情況來(lái)經(jīng)受檢查。
根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施方式,檢查液晶的注射情況的方法還可以包括光泄漏測(cè)量步驟S31。
光泄漏測(cè)量步驟S31是在擠壓步驟S2和照射步驟S3之后測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。在光泄漏測(cè)量步驟S31中,在照射單元36通過(guò)光照射液晶盒SG的狀態(tài)下,擠壓?jiǎn)卧?0擠壓擠壓位置P,并且光泄漏測(cè)量單元30測(cè)量在擠壓位置P處穿過(guò)液晶盒SG的光的泄漏。
此時(shí),在光泄漏測(cè)量步驟S31中測(cè)量的光泄漏可以包括擠壓位置P處的光的亮度、擠壓位置P處的光泄漏的面積以及擠壓位置P處的光泄漏的直徑中的至少一種狀態(tài)。
在檢查液晶的注射情況的上述裝置和方法中,一種用于檢查液晶的注射情況的方法和裝置,其中,在通過(guò)光照射的同時(shí)局部擠壓液晶盒SG(其具有注射在上基板GT與下基板GB之間的液晶LC),使得可以基于擠壓位置P處的液晶盒SG的光泄漏來(lái)檢查液晶的注射情況。此外,可以在改變液晶盒SG上的擠壓位置P的同時(shí)測(cè)量光泄漏或使擠壓位置P處的液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間,并且還可以檢查液晶的注射情況在液晶盒SG的整個(gè)表面是否是均勻的。
另外,在擠壓液晶盒SG之前和之后測(cè)量光泄漏或使液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間,使得可以檢查液晶的注射情況,而不管液晶盒SG的表面是平坦的或彎曲的。特別地,可以簡(jiǎn)化對(duì)光泄漏或使關(guān)于平坦類型的液晶盒SG的液晶LC復(fù)原所用的時(shí)間的測(cè)量,并且快速檢查液晶LC的注射情況。
雖然已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的一些示例性實(shí)施方式,但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解,可以在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下對(duì)這些實(shí)施方式進(jìn)行修改,本發(fā)明的范圍限定在所附權(quán)利要求及其等同內(nèi)容中。