一種顯影裝置制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種顯影裝置，屬于顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，其可解決現(xiàn)有的大尺寸基板顯影工藝中不同位置的顯影圖形差異的問(wèn)題。本發(fā)明的顯影裝置能夠使由于基板的在顯影工藝中能至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)，使基板的不同位置得到均勻的顯影處理，形成均勻的圖形；同時(shí)，自由調(diào)節(jié)交互傾斜運(yùn)動(dòng)的角度，可以及時(shí)地去除顯影殘?jiān)?，提升顯影的速度和質(zhì)量。
【專(zhuān)利說(shuō)明】一種顯影裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種顯示面板、顯示裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]光刻和顯影是半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中必不可少的工藝，特別是在液晶顯示器的制造過(guò)程中更是離不開(kāi)顯影工藝。在玻璃基板上經(jīng)過(guò)光刻工藝，刻蝕出的圖形必須經(jīng)過(guò)顯影工藝才可以顯現(xiàn)出來(lái)。因此，顯影工藝直接決定液晶顯示器的質(zhì)量。
[0003]如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)的顯影裝置包括:與水平方向成一定角度(圖中β)設(shè)置的基臺(tái)1，設(shè)置在基臺(tái)I上方設(shè)有傳送單元4，所述的輸送單元4用于將待顯影的基板5輸送(輸送方向?yàn)閳D1中y軸所示的方向)至預(yù)定的顯影位置；設(shè)置在顯影位置上方的顯影液噴灑單元6，其用于對(duì)處于顯影位置的待顯影的基板5進(jìn)行顯影；影液噴灑單元6還包括支撐梁63，其用于支撐影液噴灑單元6。
[0004]大尺寸的基板5在單側(cè)傾斜(如圖1中左側(cè)低右側(cè)高，或相反)的狀態(tài)下進(jìn)行顯影工藝就會(huì)產(chǎn)生如下問(wèn)題:
[0005]例如，8.5代線的基板的規(guī)格為2.5mX 2.2m,圖1中位于基板5上側(cè)B點(diǎn)和下側(cè)的A點(diǎn)的之間的距離為2m左右，顯影液噴灑單元6在A處和B處同時(shí)均勻噴出同量的顯影液。A點(diǎn)的顯影液在顯影后會(huì)帶著顯影掉的光刻膠流經(jīng)B點(diǎn)，從而稀釋B點(diǎn)的顯影液濃度。A點(diǎn)和B點(diǎn)顯影后的光刻圖形的尺寸會(huì)存在差異，差異最大值可以達(dá)到lum，從而導(dǎo)致大尺寸基板5的上、下側(cè)的圖形存在差異。
[0006]因此，改善顯影液的分布均勻性直接基板的顯影的質(zhì)量，同時(shí)，也間接影響到液晶顯示器的質(zhì)量。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的是解決現(xiàn)有技術(shù)的大尺寸基板顯影工藝中不同位置的顯影圖形差異的問(wèn)題，提供一種能提高大尺寸基板顯影圖形均勻性的顯影裝置。
[0008]解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是一種顯影裝置，其包括:基臺(tái)和在該基臺(tái)上設(shè)置的升降單元，所述的升降單元上設(shè)置有承載單元，所述承載單元上設(shè)有輸送單元，所述的輸送單元用于將待顯影的基板輸送至預(yù)定的顯影位置；所述承載單元與所述基板傳送方向平行的兩側(cè)與所述升降單元連接；在所述顯影位置的上方設(shè)有顯影液噴灑單元，用于將顯影液噴灑至基板進(jìn)行顯影；
[0009]所述升降單元能夠使所述基板的與其輸送方向平行的兩側(cè)中的一側(cè)相對(duì)于另一側(cè)至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)。
[0010]優(yōu)選的是，所述交互傾斜運(yùn)動(dòng)為間歇性交互傾斜運(yùn)動(dòng)。
[0011]優(yōu)選的是，所述的交互傾斜運(yùn)動(dòng)的傾斜角為α，其中，α的范圍為0_30°。
[0012]優(yōu)選的是，所述顯影液噴灑單元能與所述基板的傾斜相匹配。
[0013]優(yōu)選的是，所述顯影液噴灑單元，包括噴頭部件和與該噴頭部件連接用于所述噴頭部件旋轉(zhuǎn)和傾斜的旋轉(zhuǎn)部件。
[0014]優(yōu)選的是，所述的噴頭部件具有網(wǎng)格狀分布的噴頭。
[0015]優(yōu)選的是，還包括設(shè)置于所述基臺(tái)上的位置檢測(cè)單元，所述位置檢測(cè)單元用于監(jiān)測(cè)基板的傾斜狀態(tài)。
[0016]優(yōu)選的是，還包括控制單元，所述的控制單元用于接收所述位置檢測(cè)單元傳送的基板的傾斜狀態(tài)的數(shù)據(jù)，并計(jì)算所述基板是否傾斜至預(yù)定角度；并根據(jù)計(jì)算結(jié)果向所述的升降單元發(fā)出傾斜控制信號(hào)。
[0017]優(yōu)選的是，所述的升降單元包括與所述承載單元的與所述基板傳送方向平行的兩側(cè)連接的氣缸或液壓缸；所述氣缸或液壓缸在所述控制單元的控制下能帶動(dòng)所述基板傾斜。
[0018]優(yōu)選的是，所述的輸送單元包括與基板接觸的摩擦件，所述的摩擦件具有與所述的傾斜角相匹配的摩擦系數(shù)。
[0019]本發(fā)明的顯影裝置能夠使由于基板的在顯影工藝中能至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)，因而可以使基板的不同位置得到均勻的顯影處理，從而形成均勻的圖形；同時(shí)，由于可以自由調(diào)節(jié)交互傾斜運(yùn)動(dòng)的角度，因而可以及時(shí)地去除顯影殘?jiān)?，從而提升顯影的速度和質(zhì)量。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖2為本發(fā)明實(shí)施例1中顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]其中:
[0023]1.基臺(tái)；2.升降單元；3.承載單元；4.輸送單元；5.基板；6.顯影液噴灑單元；61.噴頭部件；62.旋轉(zhuǎn)部件；63.支撐梁；7.控制單元；8.位置檢測(cè)單元。
[0024]A、B為:位于基板上的兩個(gè)點(diǎn)。

【具體實(shí)施方式】
[0025]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0026]實(shí)施例1
[0027]如圖2所示，本實(shí)施例提供一種顯影裝置，包括:基臺(tái)I和在該基臺(tái)I上設(shè)置的升降單元2，升降單元2上設(shè)置有承載單元3，承載單元3上設(shè)有輸送單元4，輸送單元4用于將待顯影的基板5輸送至預(yù)定的顯影位置；在顯影位置的上方設(shè)有顯影液噴灑單元6，用于將顯影液噴灑至基板5進(jìn)行顯影；承載單元3與基板5傳送方向平行的兩側(cè)與升降單元2連接；升降單元2能夠使基板5的與其輸送方向平行的兩側(cè)中的一側(cè)相對(duì)于另一側(cè)至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)。也就是說(shuō)，在顯影時(shí)某一時(shí)刻圖2中基板5的右側(cè)高于左側(cè)，另一時(shí)刻基板5的左側(cè)高于右側(cè)。
[0028]由于本實(shí)施例的顯影裝置的升降單元5可以使基板5的在顯影工藝中能至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)，故相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)中的顯影裝置盡可以使基板5單側(cè)傾斜，本實(shí)施例中的交互傾斜運(yùn)動(dòng)可以使基板5的不同位置得到均勻的顯影處理，形成均勻的圖形。
[0029]優(yōu)選的，交互傾斜運(yùn)動(dòng)為間歇性交互傾斜運(yùn)動(dòng)。這樣使基板5在顯影工藝中進(jìn)行多次交互傾斜運(yùn)動(dòng)，使基板5的顯影更加均勻，間歇性交互傾斜運(yùn)動(dòng)的間隙的時(shí)間可以根據(jù)具體的顯影應(yīng)用選擇，在此不作限定。
[0030]優(yōu)選的，交互傾斜運(yùn)動(dòng)的傾斜角為α (圖2中所示)，其中，α的范圍為0_30°。應(yīng)當(dāng)理解的是，自由調(diào)節(jié)交互傾斜運(yùn)動(dòng)的角度，可以及時(shí)地去除顯影殘?jiān)?，提升顯影的速度和質(zhì)量。
[0031]優(yōu)選的，顯影液噴灑單元6能與基板5的傾斜相匹配。這樣顯影液噴灑單元6能夠更加均勻的將顯影液噴灑至基板5上，使基板5的不同位置的得到均勻的顯影處理。具體地，顯影液噴灑單元6的噴頭所在的平面與基板5的平面平行。
[0032]優(yōu)選的，顯影液噴灑單元6包括噴頭部件61和與該噴頭部件61連接用于噴頭部件61旋轉(zhuǎn)和傾斜的旋轉(zhuǎn)部件62。具體地，噴頭部件62具有網(wǎng)格狀分布的噴頭(圖2中示出部分)，這樣更有利顯影液的均勻噴灑；顯影液噴灑單元6還包括支撐梁63，用于支撐旋轉(zhuǎn)部件62。
[0033]優(yōu)選的，顯影裝置還包括設(shè)置于基臺(tái)I上的位置檢測(cè)單元8，位置檢測(cè)單元8用于監(jiān)測(cè)基板5的傾斜狀態(tài)。具體地，位置檢測(cè)單元8可以設(shè)置在基板5的與其輸送方向平行的兩側(cè)的位置。應(yīng)當(dāng)理解的是，位置檢測(cè)單元8可以包括位置傳感器，具體類(lèi)型在此不作限定。
[0034]優(yōu)選的，顯影裝置還包括控制單元7，控制單元7用于接收位置檢測(cè)單元8傳送的基板5的傾斜狀態(tài)的數(shù)據(jù)，并計(jì)算基板5是否傾斜至預(yù)定角度；并根據(jù)計(jì)算結(jié)果向升降單元2發(fā)出傾斜控制信號(hào)。控制單元7與升降單元2和位置檢測(cè)單元8通過(guò)電纜連接，分別用于控制單元7與升降單元2和位置檢測(cè)單元8的信息交流。
[0035]具體地，控制單元7包括可編程邏輯控制器或計(jì)算機(jī)，在此不作限定。
[0036]優(yōu)選的，升降單元2包括與承載單元的與基板傳送方向平行的兩側(cè)連接的氣缸或液壓缸；氣缸或液壓缸在控制單元7的控制下能帶動(dòng)基板5傾斜。具體地,控制單元7根據(jù)位置檢測(cè)單元8檢測(cè)的信號(hào)，計(jì)算基板5的傾斜角度，若沒(méi)有達(dá)到傾斜角度，則使與基板5上側(cè)同側(cè)的氣缸或液壓缸加壓，或使與基板5下側(cè)同側(cè)的氣缸或液壓缸減壓；若需交互傾斜，則使與基板5上側(cè)同側(cè)的氣缸或液壓缸減壓，或使與基板5下側(cè)同側(cè)的氣缸或液壓缸加壓。應(yīng)當(dāng)理解的是，升降單元2還包括是電機(jī)驅(qū)動(dòng)的能實(shí)現(xiàn)升降機(jī)構(gòu)，在此不作限定。
[0037]優(yōu)選的，輸送單元包括與基板5接觸的摩擦件(圖2中未示出)，摩擦件具有與傾斜角相匹配的摩擦系數(shù)。應(yīng)當(dāng)理解的是，交互傾斜運(yùn)動(dòng)的傾斜角與摩擦件的摩擦系數(shù)是相匹配的，傾斜角越大摩擦件的摩擦系數(shù)也要增大，防止在基板5進(jìn)行交互傾斜運(yùn)動(dòng)時(shí)，基板5與輸送單元發(fā)生相對(duì)位移，影響顯影液的噴灑。摩擦件可以采用現(xiàn)有技術(shù)中的具有高摩擦系數(shù)結(jié)構(gòu)或材料。例如，摩擦件可以是吸盤(pán)等。
[0038]下面介紹本實(shí)施的顯影裝置工作流程:
[0039]在輸送單元4將待顯影的基板5沿J軸方向輸送至顯影位置，位置傳感器8檢測(cè)基板5左、右兩側(cè)的位置，并將信號(hào)傳送給控制單元7，控制單元7根據(jù)預(yù)先確定的傾斜角度，例如傾斜5°，即B點(diǎn)位于高位，A點(diǎn)位于低位；向位于左側(cè)的氣缸發(fā)出放氣的命令和/或向位于右側(cè)的氣缸發(fā)出充氣的命令，承載單元3帶動(dòng)基板5傾斜，直到基板5傾斜至5° ；接著，PLC控制器7控制單元7向顯影液噴灑單元6發(fā)送傾斜的信號(hào)，使旋轉(zhuǎn)部件62帶動(dòng)噴頭部件61傾斜至與基板5所在的平面平行，然后控制顯影液噴灑單元6噴灑顯影液；如圖2所示,此時(shí)B點(diǎn)比A點(diǎn)顯影充分。
[0040]經(jīng)過(guò)預(yù)先設(shè)定的時(shí)間間隔，將基板5調(diào)節(jié)至水平，及傾斜角為0°，進(jìn)行水洗。
[0041]經(jīng)過(guò)預(yù)先設(shè)定的時(shí)間間隔，進(jìn)行交互傾斜運(yùn)動(dòng)，即A點(diǎn)位于高位，B點(diǎn)位于低位；向位于右側(cè)的氣缸發(fā)出放氣的命令和/或向位于左側(cè)的氣缸發(fā)出充氣的命令，承載單元3帶動(dòng)基板5傾斜，直到基板5傾斜至5° ;接著，控制單元7向顯影液噴灑單元6發(fā)送傾斜的信號(hào)，使旋轉(zhuǎn)部件62帶動(dòng)噴頭部件61傾斜至與基板5所在的平面平行，然后控制顯影液噴灑單元6噴灑顯影液；如圖2所示，此時(shí)A點(diǎn)比B點(diǎn)顯影充分，這樣經(jīng)過(guò)一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)使A點(diǎn)和B點(diǎn)顯影均勻，整個(gè)基板5的圖形更加均勻。
[0042]本實(shí)施例的顯影裝置能夠使由于基板的在顯影工藝中能至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)，使基板的不同位置得到均勻的顯影處理，形成均勻的圖形；同時(shí)，自由調(diào)節(jié)交互傾斜運(yùn)動(dòng)的角度，可以及時(shí)地去除顯影殘?jiān)?，提升顯影的速度和質(zhì)量。
[0043]可以理解的是，上述的顯影裝置結(jié)構(gòu)，也可以應(yīng)用于清洗工藝、涂布工藝等顯示器制造工藝中，只需將顯影液更換為相應(yīng)的溶液即可。
[0044]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種顯影裝置，其特征在于，包括:基臺(tái)和在該基臺(tái)上設(shè)置的升降單元，所述的升降單元上設(shè)置有承載單元，所述承載單元上設(shè)有輸送單元，所述的輸送單元用于將待顯影的基板輸送至預(yù)定的顯影位置；所述承載單元與所述基板傳送方向平行的兩側(cè)與所述升降單元連接；在所述顯影位置的上方設(shè)有顯影液噴灑單元，用于將顯影液噴灑至基板進(jìn)行顯影; 所述升降單元能夠使所述基板的與其輸送方向平行的兩側(cè)中的一側(cè)相對(duì)于另一側(cè)至少進(jìn)行一次交互傾斜運(yùn)動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述交互傾斜運(yùn)動(dòng)為間歇性交互傾斜運(yùn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述的交互傾斜運(yùn)動(dòng)的傾斜角為α，其中，α的范圍為0-30°。
4.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述顯影液噴灑單元能與所述基板的傾斜相匹配。
5.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述顯影液噴灑單元，包括噴頭部件和與該噴頭部件連接用于所述噴頭部件旋轉(zhuǎn)和傾斜的旋轉(zhuǎn)部件。
6.如權(quán)利要求5所述的顯影裝置，其特征在于，所述的噴頭部件具有網(wǎng)格狀分布的噴頭。
7.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，還包括設(shè)置于所述基臺(tái)上的位置檢測(cè)單元，所述位置檢測(cè)單元用于監(jiān)測(cè)基板的傾斜狀態(tài)。
8.如權(quán)利要求7所述的顯影裝置，其特征在于，還包括控制單元，所述的控制單元用于接收所述位置檢測(cè)單元傳送的基板的傾斜狀態(tài)的數(shù)據(jù)，并計(jì)算所述基板是否傾斜至預(yù)定角度；并根據(jù)計(jì)算結(jié)果向所述的升降單元發(fā)出傾斜控制信號(hào)。
9.如權(quán)利要求8所述的顯影裝置，其特征在于，所述升降單元包括與所述承載單元的與所述基板傳送方向平行的兩側(cè)連接的氣缸或液壓缸；所述氣缸或液壓缸在所述控制單元的控制下能帶動(dòng)所述基板傾斜。
10.如權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，所述的輸送單元包括與基板接觸的摩擦件，所述的摩擦件具有與所述的傾斜角相匹配的摩擦系數(shù)。
【文檔編號(hào)】G03F7/30GK104076622SQ201410268561
【公開(kāi)日】2014年10月1日 申請(qǐng)日期:2014年6月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月16日
【發(fā)明者】李曉光, 汪棟, 吳洪江, 肖宇 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司