一種光刻用基片勻膠架的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種光刻用基片勻膠架，包括勻膠機旋轉頭固定架，勻膠機旋轉頭固定架上面固定有擋盤，擋盤上方固定有懸空支架，懸空支架包括至少3根豎桿，在至少3根豎桿上的同一平面上設有可調(diào)式基片固定機構。本實用新型采用基片固定機構，不受真空泵吸附強度的影響，不管基片的重量多大，都可以穩(wěn)固的固定住基片；采用懸空勻膠，可以保證孔內(nèi)的膠充分飽滿，勻膠效果好；可調(diào)式基片固定機構可以根據(jù)基片的不同尺寸進行調(diào)節(jié)，方便快捷；膠厚測試裝置可以實時測量基片上光刻膠的厚度；擋盤擋住勻膠機吸口，可以防止膠液進入勻膠機影響機器正常運行。
【專利說明】
一種光刻用基片勻膠架
技術領域
[0001 ]本實用新型涉及光刻技術領域。
【背景技術】
[0002]勻膠是光刻工藝當中一項必要的工序，在曝光工序前，首先要將整個基片均勻的涂抹上光刻膠，再利用曝光、顯影等工序將所需圖形在基片上制作出來。勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發(fā))三個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成簿層，是利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。傳統(tǒng)的勻膠工藝存在以下問題:
[0003]1、利用真空栗來對基片進行吸附，有很多問題，首先要根據(jù)基片大小的不同，選擇大小不同的吸盤，而且不同吸盤都要清洗干凈，否則對基片勻膠效果有致命的影響，這樣切換吸盤很浪費時間。還有真空栗的吸附力度也不同，如果基片重量很大，那很可能在勻膠過程當中發(fā)生飛片的現(xiàn)象。
[0004]2、通過調(diào)整轉速和時間來預判勻膠的厚度，存在一定的差異，而膠的厚度又對后期顯影腐蝕電鍍都有著較大的影響，因此不能對勻膠時膠的厚度實時進行測量也是一大弊端。
[0005]3、傳統(tǒng)勻膠方法無法對帶孔的基片進行勻膠，因為，有的基片上面打孔很多，這樣在吸盤對它吸附時就產(chǎn)生影響，根本無法吸緊基片，很可能在勻膠時發(fā)生飛片現(xiàn)象；同時，因為基片無法懸空，因此孔里的膠的效果就不會很好，從而影響后道工序中孔內(nèi)金屬層的可靠性。
【實用新型內(nèi)容】
[0006]本實用新型要解決的技術問題是針對上述現(xiàn)有技術的不足，提供一種光刻用基片勻膠架，可以懸空固定基片，固定可靠，勻膠效果好，可以防止膠液進入勻膠機影響機器正常運行。
[0007]為解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案是:一種光刻用基片勻膠架，包括勻膠機旋轉頭固定架，勻膠機旋轉頭固定架上面固定有擋盤，擋盤上方固定有懸空支架，懸空支架包括至少3根豎桿，在至少3根豎桿上的同一平面上設有可調(diào)式基片固定機構。
[0008]優(yōu)選地，還包括膠厚測試頭和膠厚測試器，膠厚測試頭和膠厚測試器之間連接信號線，用于測量基片表面膠層的厚度。
[0009]優(yōu)選地，膠厚測試頭和膠厚測試器固定安裝在懸空支架上。
[0010]優(yōu)選地，勻膠機旋轉頭固定架和懸空支架為剛性材料，在高速旋轉中不會變形。
[0011]優(yōu)選地，可調(diào)式基片固定機構包括一端帶有卡槽的桿，所述的一端帶有卡槽的桿穿過懸空支架上的孔用螺釘固定在懸空支架上。
[0012]優(yōu)選地，勻膠機旋轉頭固定架為圓筒加緊固螺釘;或為帶連接桿的圓環(huán)，通過連接桿與擋盤固定;方便與勾膠機旋轉頭固定旋轉。
[0013]采用上述技術方案所產(chǎn)生的有益效果在于:本實用新型采用可調(diào)式基片固定機構固定基片，固定可靠，可以懸空固定基片，不會受真空栗吸附強度的影響，不管基片的重量多大，都可以穩(wěn)固的固定住基片;采用懸空勻膠，可以有效的保證孔內(nèi)的膠也充分飽滿，勻膠效果好;可調(diào)式基片固定機構可以根據(jù)基片的不同尺寸進行調(diào)節(jié)，方便快捷;膠厚測試裝置可以實時測量基片上光刻膠的厚度;擋盤擋住勻膠機吸口，可以防止膠液進入勻膠機影響機器正常運行。
【附圖說明】
[0014]圖1是本實用新型一個實施例的結構示意圖。
[0015]圖中:1、勾膠機旋轉頭固定架;2、懸空支架;3、擋盤;4、可調(diào)式基片固定機構;5、膠厚測試頭;6、膠厚測試器。
【具體實施方式】
[0016]下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細的說明，但本實用新型的保護范圍不局限于以下所述。
[0017]如圖1所示，為本實用新型一種光刻用基片勻膠架的一個實施例，包括勻膠機旋轉頭固定架I，勻膠機旋轉頭固定架I上面固定有擋盤3，擋盤3上方固定有懸空支架2，懸空支架2包括至少3根豎桿，在至少3根豎桿上的同一平面上設有可調(diào)式基片固定機構4。
[0018]還包括膠厚測試頭5和膠厚測試器6，膠厚測試頭5和膠厚測試器6之間連接信號線，用于測量基片表面膠層的厚度。
[0019]膠厚測試頭5和膠厚測試器6固定安裝在懸空支架2上。
[0020]勻膠機旋轉頭固定架I和懸空支架2為剛性材料，在高速旋轉中不會變形。
[0021]可調(diào)式基片固定機構4包括一端帶有卡槽的桿，所述的一端帶有卡槽的桿穿過懸空支架2上的孔用螺釘固定在懸空支架2上。
[0022]勻膠機旋轉頭固定架I為帶連接桿的圓環(huán)，通過連接桿與擋盤3固定;方便與勻膠機旋轉頭固定旋轉。
[0023]使用過程:首先將本實用新型一種光刻用基片勻膠架固定在勻膠機旋轉頭上，然后根據(jù)基片的不同尺寸，調(diào)節(jié)可調(diào)式基片固定機構4來適應基片尺寸，勻膠時，基片可以懸空勻膠，勻膠完成后，用膠厚測試頭5接觸膠面，來測出此次勻膠的厚度，并實時顯示在膠厚測試器6上。
[0024]采用上述技術方案后，固定可靠，采用可調(diào)式基片固定機構固定基片，可以懸空固定基片，不會受真空栗吸附強度的影響，不管基片的重量多大，都可以穩(wěn)固的固定住基片；采用懸空勻膠，可以有效的保證孔內(nèi)的膠也充分飽滿，勻膠效果好;可調(diào)式基片固定機構可以根據(jù)基片的不同尺寸進行調(diào)節(jié)，方便快捷;膠厚測試裝置可以實時測量基片上光刻膠的厚度;擋盤擋住勻膠機吸口，可以防止膠液進入勻膠機影響機器正常運行。
【主權項】
1.一種光刻用基片勻膠架，其特征在于:包括勻膠機旋轉頭固定架(I)，勻膠機旋轉頭固定架(I)上面固定有擋盤(3)，擋盤(3)上方固定有懸空支架(2)，懸空支架(2)包括至少3根豎桿，在至少3根豎桿上的同一平面上設有可調(diào)式基片固定機構(4)。2.根據(jù)權利要求1所述的一種光刻用基片勻膠架，其特征在于還包括膠厚測試頭(5)和膠厚測試器(6)，膠厚測試頭(5)和膠厚測試器(6)之間連接信號線，用于測量基片表面膠層的厚度。3.根據(jù)權利要求2所述的一種光刻用基片勻膠架，其特征在于所述膠厚測試頭(5)和膠厚測試器(6)固定安裝在懸空支架(2)上。4.根據(jù)權利要求1所述的一種光刻用基片勻膠架，其特征在于勻膠機旋轉頭固定架(I)和懸空支架(2)為剛性材料，在高速旋轉中不會變形。5.根據(jù)權利要求1所述的一種光刻用基片勻膠架，其特征在于可調(diào)式基片固定機構(4)包括一端帶有卡槽的桿，所述的一端帶有卡槽的桿穿過懸空支架(2)上的孔用螺釘固定在懸空支架(2)上。6.根據(jù)權利要求1所述的一種光刻用基片勻膠架，其特征在于所述勻膠機旋轉頭固定架(I)為圓筒加緊固螺釘;或為帶連接桿的圓環(huán)，通過連接桿與擋盤(3)固定;方便與勻膠機旋轉頭固定旋轉。
【文檔編號】B05C11/08GK205550755SQ201620322778
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年4月18日
【發(fā)明人】王煒
【申請人】石家莊海科電子科技有限公司