涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型提供一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其包括底板、清洗盤(pán)、清洗盤(pán)夾具、多個(gè)第一沖洗噴嘴、第二沖洗噴嘴以及多個(gè)第三沖洗噴嘴，所述清洗盤(pán)夾具和一涂膠顯影機(jī)上蓋設(shè)置在所述底板上，所述清洗盤(pán)設(shè)置在所述清洗盤(pán)夾具上方，所述第一沖洗噴嘴設(shè)置于清洗盤(pán)下方，所述第二沖洗噴嘴設(shè)置于清洗盤(pán)上方，所述多個(gè)第三沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的上方，所述清洗盤(pán)具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道。本實(shí)用新型提供的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置通過(guò)第三沖洗噴嘴將溶劑噴入清洗盤(pán)的上部清洗通道中，并從清洗盤(pán)周側(cè)的噴出，以清洗清洗盤(pán)上方的粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體，提高了清洗范圍，減少了清洗所需的時(shí)間。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體制造工藝中，光刻工藝有著舉足輕重的地位。在進(jìn)行離子注入或刻蝕之前，需要通過(guò)光刻工藝形成光刻膠圖案，以預(yù)先定義出待刻蝕或離子注入的區(qū)域。因而，光刻工藝的好壞直接影響刻蝕或離子注入的結(jié)果，并最終影響形成的半導(dǎo)體器件的電性。
[0003]光刻工藝的主要步驟如下:首先，在半導(dǎo)體晶圓表面旋涂光刻膠層，并進(jìn)行軟烘烤，以增強(qiáng)光刻膠的黏著性;然后，進(jìn)行曝光，將掩膜板上的圖案轉(zhuǎn)移至所述光刻膠層上，在曝光過(guò)程中，所述光刻膠層上被曝光區(qū)域的光刻膠會(huì)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng);再然后，進(jìn)行顯影工藝，以形成光刻膠圖案。具體的說(shuō)，顯影工藝中通常利用涂膠顯影機(jī)向光刻膠層表面噴顯影液，使得光刻膠層形成為光刻圖形，然后采用溶劑將顯影液和光刻膠殘?jiān)コ?，但是不可避免的?huì)有光阻或其他顆粒晶體殘留在涂膠顯影機(jī)上蓋上，影響到后續(xù)的生產(chǎn)，因此需要一種清洗涂膠顯影機(jī)上蓋的裝置。
[0004]專(zhuān)利CN203437361U公開(kāi)了一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，如圖1所示，其包括底板
1、清洗盤(pán)2、清洗盤(pán)夾具3和若干第一沖洗噴嘴4，所述清洗盤(pán)夾具3和若干第一沖洗噴嘴4均設(shè)置于所述底板I上，所述清洗盤(pán)夾具3位于所述底板I的中心，所述若干第一沖洗噴嘴4等間距環(huán)繞設(shè)置于所述清洗盤(pán)夾具3四周，所述清洗盤(pán)2設(shè)置于所述清洗盤(pán)夾具3上，所述涂膠顯影機(jī)上蓋7置于所述底板I上，所述清洗盤(pán)夾具3位于所述清洗盤(pán)2及所述涂膠顯影機(jī)上蓋7的中心，所述涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置還包括第三沖洗噴嘴8，所述第三沖洗噴嘴8設(shè)置于所述清洗盤(pán)2的上方，第三沖洗噴嘴8能夠從清洗盤(pán)2的上方將溶劑5噴入清洗盤(pán)2中，溶劑5通過(guò)清洗盤(pán)2導(dǎo)流后，從清洗盤(pán)2周側(cè)的上段噴出，以清洗清洗盤(pán)2上方的粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋7內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體6，從而避免了未清洗干凈的涂膠顯影機(jī)上蓋7內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體6落入到晶圓上的風(fēng)險(xiǎn)。
[0005]但是，實(shí)踐中發(fā)現(xiàn)，上述清洗范圍有限，比如清洗盤(pán)上方的涂膠顯影機(jī)上蓋7內(nèi)壁區(qū)域(如圖1中虛線圈所示)清洗效果欠佳，導(dǎo)致清洗不凈且耗時(shí)較長(zhǎng)。因此，有必要進(jìn)一步的加強(qiáng)涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置的清洗范圍，減少清洗所需要的時(shí)間，從而增加晶圓的生產(chǎn)質(zhì)量和效率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的在于提供一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，提高清洗范圍，減少清洗所需要的時(shí)間。
[0007]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，包括底板、清洗盤(pán)、清洗盤(pán)夾具、多個(gè)第一沖洗噴嘴和第二沖洗噴嘴，所述清洗盤(pán)夾具和一涂膠顯影機(jī)上蓋設(shè)置在所述底板上，所述清洗盤(pán)設(shè)置在所述清洗盤(pán)夾具上，所述第一沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的下方，所述第二沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的上方，其特征在于，還包括多個(gè)第三沖洗噴嘴，所述第三沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的上方，所述清洗盤(pán)具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道，所述第一沖洗噴嘴噴灑的溶劑通過(guò)所述下部清洗通道噴灑至所述涂膠顯影機(jī)上蓋的內(nèi)壁，所述第二沖洗噴嘴噴灑的溶劑通過(guò)所述中部清洗通道噴灑至所述涂膠顯影機(jī)上蓋的內(nèi)壁，所述第三沖洗噴嘴噴灑的溶劑通過(guò)所述上部清洗通道噴灑至所述涂膠顯影機(jī)上蓋的內(nèi)壁。
[0008]優(yōu)選的，所述第二沖洗噴嘴位于所述清洗盤(pán)上方的中心位置，所述多個(gè)第三沖洗噴嘴圍繞所述第二沖洗噴嘴等間距分布。
[0009]優(yōu)選的，所述多個(gè)第一沖洗噴嘴圍繞所述清洗盤(pán)夾具等間距分布。
[0010]優(yōu)選的，所述上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道沿所述清洗盤(pán)的厚度方向依次排列。
[0011]優(yōu)選的，所述上部清洗通道由上部環(huán)形板、上部環(huán)形連接塊和中部環(huán)形板限定而成，所述上部環(huán)形板位于所述中部環(huán)形板的上方，所述上部環(huán)形板和中部環(huán)形板通過(guò)所述上部環(huán)形連接塊連接，所述上部環(huán)形連接塊沿所述中部環(huán)形板的外沿設(shè)置，所述上部環(huán)形連接塊的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)個(gè)上部連接塊穿塊孔。
[0012]進(jìn)一步的，所述多個(gè)上部連接塊穿孔等間距分布，所述上部連接塊穿孔的開(kāi)孔方向與所述清洗盤(pán)的夾角大于等于10°。
[0013]優(yōu)選的，所述中部清洗通道由中部環(huán)形板、中間導(dǎo)流板和中部環(huán)形連接塊限定而成，所述中間導(dǎo)流板位于所述中部環(huán)形板的下方，所述中間導(dǎo)流板和中部環(huán)形板通過(guò)所述中部環(huán)形連接塊連接，所述中部環(huán)形連接塊沿所述中間導(dǎo)流板的外沿設(shè)置，所述中部環(huán)形連接塊的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)中部連接塊穿孔。
[0014]進(jìn)一步的，所述多個(gè)中部連接塊穿孔等間距分布，所述中部連接塊穿孔的開(kāi)孔方向與所述清洗盤(pán)平行。
[0015]優(yōu)選的，所述下部清洗通道由中間導(dǎo)流板、下部環(huán)形板和下部環(huán)形連接塊限定而成，所述下部環(huán)形板位于所述中間導(dǎo)流板的下方，所述下部環(huán)形板與中間導(dǎo)流板通過(guò)所述下部環(huán)形連接塊連接，所述下部環(huán)形連接塊沿所述中間導(dǎo)流板的外沿設(shè)置，所述下部環(huán)形連接塊的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)下部連接塊穿孔。
[0016]進(jìn)一步的，所述多個(gè)下部連接塊穿孔等間距分布，所述下部連接塊穿孔的開(kāi)孔方向與所述清洗盤(pán)的夾角大于等于10°。
[0017]優(yōu)選的，所述清洗盤(pán)包括一夾塊，所述清洗盤(pán)夾具與所述夾塊連接。
[0018]優(yōu)選的，所述清洗盤(pán)夾具為真空吸盤(pán)。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型通過(guò)多個(gè)第三沖洗噴嘴從清洗盤(pán)的上方將溶劑噴入清洗盤(pán)中并從清洗盤(pán)的上部清洗通道噴出，以清洗粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體，提高了清洗顯影機(jī)上蓋的能力，可避免未清洗干凈的涂膠顯影機(jī)上蓋內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體落入到晶圓上，同時(shí)減少了清洗所需的時(shí)間，增加了晶圓生產(chǎn)的質(zhì)量和效率。
【附圖說(shuō)明】
[0020]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021 ]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的清洗盤(pán)的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置中清洗盤(pán)的俯視圖；
[0024]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置中上部連接塊穿孔、中部連接塊穿孔以及下部連接塊穿孔的角度關(guān)系示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型提出的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。根據(jù)下面說(shuō)明和權(quán)利要求書(shū)，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)和特征將更清楚。需說(shuō)明的是，附圖均采用非常簡(jiǎn)化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率，僅用以方便、明晰地輔助說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例的目的。
[0026]如圖2、圖3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其包括底板10、清洗盤(pán)20、清洗盤(pán)夾具30、多個(gè)第一沖洗噴嘴40、第二沖洗噴嘴80和多個(gè)第三沖洗噴嘴90，所述清洗盤(pán)夾具30和涂膠顯影機(jī)上蓋70設(shè)置在所述底板10上，所述清洗盤(pán)20設(shè)置在所述清洗盤(pán)夾具30上方，所述第一沖洗噴嘴40設(shè)置于清洗盤(pán)20下方，所述第二沖洗噴嘴80和第三沖洗噴嘴90設(shè)置于所述清洗盤(pán)20的上方，所述清洗盤(pán)20具有上部清洗通道20a、中部清洗通道20b以及下部清洗通道20c。所述第一沖洗噴嘴40噴灑的溶劑通過(guò)所述下部清洗通道20c噴灑至涂膠顯影機(jī)上蓋70設(shè)置內(nèi)壁上，所述第二沖洗噴嘴80噴灑的溶劑通過(guò)所述中部清洗通道20b噴灑至涂膠顯影機(jī)上蓋70設(shè)置內(nèi)壁上，所述第三沖洗噴嘴90噴灑的溶劑通過(guò)所述上部清洗通道20a噴灑至涂膠顯影機(jī)上蓋70設(shè)置內(nèi)壁上。
[0027]本實(shí)施例提供的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上增加了多個(gè)第三沖洗噴嘴90，第三沖洗噴嘴90能夠從清洗盤(pán)20的上方將溶劑50噴入清洗盤(pán)20的上部清洗通道20a中，溶劑50通過(guò)上部清洗通道20a導(dǎo)流后，從清洗盤(pán)20周側(cè)的上段噴出，以清洗清洗盤(pán)20上方的粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋70內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體，提高了清洗顯影機(jī)上蓋的能力。
[0028]其中，所述多個(gè)第一沖洗噴嘴40圍繞清洗盤(pán)夾具30等間距分布，所述第二沖洗噴嘴80位于所述清洗盤(pán)20的上方的中心位置，所述多個(gè)第三沖洗噴嘴90圍繞第二沖洗噴嘴80等間距分布，以此實(shí)現(xiàn)均勻的清洗效果。
[0029]重點(diǎn)參考圖3所示，所述上部清洗通道20a、中部清洗通道20b以及下部清洗通道20c沿所述清洗盤(pán)20的厚度方向依次排列，所述上部清洗通道位20a于上方，所述下部清洗通道20c位于下方，所述中部清洗通道20b位于上部清洗通道20a和下部清洗通道20c之間。
[0030]具體參考圖3所示，所述清洗盤(pán)20的上部清洗通道20a由上部環(huán)形板212、中部環(huán)形板204和上部環(huán)形連接塊205限定而成，所述上部環(huán)形板212位于所述中部環(huán)形板204的上方，所述上部環(huán)形板212和所述中部環(huán)形板204通過(guò)所述上部環(huán)形連接塊205連接，所述上部環(huán)形連接塊205沿所述中部環(huán)形板204的外沿設(shè)置，所述上部環(huán)形連接塊205的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)上部連接塊穿孔209。所述清洗盤(pán)20的中部清洗通道20b由中部環(huán)形板204、中間導(dǎo)流板201和中部環(huán)形連接塊210限定而成，所述中間導(dǎo)流板201位于所述中部環(huán)形板204的下方，所述中間導(dǎo)流板201和中部環(huán)形板204通過(guò)所述中部環(huán)形連接塊210連接，所述中部環(huán)形連接塊210沿所述中間導(dǎo)流板201的外沿設(shè)置，所述中部環(huán)形連接塊210的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)中部連接塊穿孔207。所述清洗盤(pán)20的下部清洗通道20c由中間導(dǎo)流板201、下部環(huán)形板202和下部環(huán)形連接塊203限定而成，所述下部環(huán)形板202位于所述中間導(dǎo)流板201的下方，所述中間導(dǎo)流板201和下部環(huán)形板202通過(guò)所述下部環(huán)形連接塊203連接，所述下部環(huán)形連接塊203沿所述中間導(dǎo)流板201的外沿設(shè)置，所述下部環(huán)形連接塊203的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)下部連接塊穿孔206。
[0031]如圖4所示，清洗盤(pán)20開(kāi)設(shè)有多個(gè)等間距分布的上部連接塊穿孔209、多個(gè)等間距分布的中部連接塊穿孔207以及多個(gè)等間距分布的下部連接塊穿孔206，每個(gè)所述上部連接塊穿孔209與對(duì)應(yīng)的所述中部連接塊穿孔207以及下部連接塊穿孔206——對(duì)應(yīng)且位于同一豎直平面內(nèi)。
[0032]如圖5所示，上部連接塊穿孔209的開(kāi)孔方向與清洗盤(pán)20呈夾角α，夾角α大于等于10°;中部連接塊穿孔207的開(kāi)孔方向與清洗盤(pán)20平行;下部連接塊穿孔206的開(kāi)孔方向與清洗盤(pán)20呈夾角β，夾角β大于等于10°。采用上述分布方式，可顯著增加該涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置縱向的清洗能力和清洗范圍，使其能夠?qū)⑼磕z顯影機(jī)上蓋70的內(nèi)壁進(jìn)行徹底清洗干凈。本實(shí)施例中，上部連接塊穿孔209、中部連接塊穿孔207以及下部連接塊穿孔206的數(shù)量相等且均為8個(gè)。但應(yīng)理解，本實(shí)用新型并不限制開(kāi)孔的數(shù)量和方向，可根據(jù)晶圓的尺寸等具體要求來(lái)相應(yīng)設(shè)制，在本實(shí)施例中所采用的方案為較佳方案。
[0033]本實(shí)施例中，第三沖洗噴嘴90、第二沖洗噴嘴80和第一沖洗噴嘴40例如是去離子水沖洗噴嘴，即用于噴灑去離子水。在其它實(shí)施例中，也可根據(jù)需要更改沖洗噴嘴噴灑的溶劑，比如也可噴灑丙酮等化學(xué)試劑。所述清洗盤(pán)夾具30為真空吸盤(pán)(chuck)，在晶圓進(jìn)行涂膠顯影的過(guò)程中，晶圓會(huì)吸附在該真空吸盤(pán)上均勻涂上光阻，在生產(chǎn)停止時(shí)，可將清洗盤(pán)20放置于該真空吸盤(pán)上，該真空吸盤(pán)是可旋轉(zhuǎn)的，并可調(diào)節(jié)其轉(zhuǎn)速，從而對(duì)涂膠顯影機(jī)上蓋70的內(nèi)壁進(jìn)行徹底的清洗。
[0034]進(jìn)一步的，所述清洗盤(pán)20包括夾塊208，所述夾塊208設(shè)置于所述中間導(dǎo)流板201下底面的中心，所述清洗盤(pán)夾具30與所述夾塊208連接，以更好的固定所述清洗盤(pán)20，使清洗盤(pán)20不會(huì)因?yàn)槿軇﹪娚涠a(chǎn)生位移，保證了清洗的質(zhì)量與效率。
[0035]以下結(jié)合圖2至圖5詳細(xì)描述本實(shí)施例的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置的工作過(guò)程。在對(duì)涂膠顯影機(jī)上蓋70進(jìn)行清洗時(shí)，先通過(guò)第一沖洗噴嘴40向清洗盤(pán)20的下部清洗通道20c內(nèi)噴射溶劑50，并從下部連接塊穿孔206噴出，清洗位于清洗盤(pán)20下方的粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋70內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體；同時(shí)，通過(guò)第二沖洗噴嘴80向清洗盤(pán)20的中部清洗通道20b內(nèi)噴射溶劑50，并從中部連接塊穿孔207噴出，清洗位于清洗盤(pán)20高度的粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋70內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體；同時(shí)，通過(guò)第三沖洗噴嘴90向上部清洗盤(pán)20的上部清洗通道20a內(nèi)噴射溶劑50，并從上部連接塊穿孔209噴出，清洗位于清洗盤(pán)20上方的粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋70內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體，最終將整個(gè)涂膠顯影機(jī)上蓋70內(nèi)壁清洗干凈。
[0036]本實(shí)用新型通過(guò)增加多個(gè)第三沖洗噴嘴從清洗盤(pán)的上方將溶劑噴入清洗盤(pán)的上部清洗通道中，并從清洗盤(pán)周側(cè)的上段噴出，以清洗粘附于涂膠顯影機(jī)上蓋內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體，提高了清洗顯影機(jī)上蓋的能力。從而避免了未清洗干凈的涂膠顯影機(jī)上蓋內(nèi)壁上的光阻或其他顆粒晶體落入到晶圓上的風(fēng)險(xiǎn)，同時(shí)減少了清洗所需的時(shí)間，增加了晶圓的生產(chǎn)質(zhì)量和效率。
[0037]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些改動(dòng)和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，包括底板、清洗盤(pán)、清洗盤(pán)夾具、多個(gè)第一沖洗噴嘴和第二沖洗噴嘴，所述清洗盤(pán)夾具和一涂膠顯影機(jī)上蓋設(shè)置在所述底板上，所述清洗盤(pán)設(shè)置在所述清洗盤(pán)夾具上，所述第一沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的下方，所述第二沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的上方，其特征在于，還包括多個(gè)第三沖洗噴嘴，所述第三沖洗噴嘴設(shè)置于所述清洗盤(pán)的上方，所述清洗盤(pán)具有上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道，所述第一沖洗噴嘴噴灑的溶劑通過(guò)所述下部清洗通道噴灑至所述涂膠顯影機(jī)上蓋的內(nèi)壁，所述第二沖洗噴嘴噴灑的溶劑通過(guò)所述中部清洗通道噴灑至所述涂膠顯影機(jī)上蓋的內(nèi)壁，所述第三沖洗噴嘴噴灑的溶劑通過(guò)所述上部清洗通道噴灑至所述涂膠顯影機(jī)上蓋的內(nèi)壁。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述第二沖洗噴嘴位于所述清洗盤(pán)上方的中心位置，所述多個(gè)第三沖洗噴嘴圍繞所述第二沖洗噴嘴等間距分布。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述多個(gè)第一沖洗噴嘴圍繞所述清洗盤(pán)夾具等間距分布。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述上部清洗通道、中部清洗通道以及下部清洗通道沿所述清洗盤(pán)的厚度方向依次排列。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述上部清洗通道由上部環(huán)形板、上部環(huán)形連接塊和中部環(huán)形板限定而成，所述上部環(huán)形板位于所述中部環(huán)形板的上方，所述上部環(huán)形板和中部環(huán)形板通過(guò)所述上部環(huán)形連接塊連接，所述上部環(huán)形連接塊沿所述中部環(huán)形板的外沿設(shè)置，所述上部環(huán)形連接塊的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)上部連接塊穿孔。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述多個(gè)上部連接塊穿孔等間距分布。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述上部連接塊穿孔的開(kāi)孔方向與所述清洗盤(pán)的夾角大于等于10°。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述中部清洗通道由中部環(huán)形板、中間導(dǎo)流板和中部環(huán)形連接塊限定而成，所述中間導(dǎo)流板位于所述中部環(huán)形板的下方，所述中間導(dǎo)流板和中部環(huán)形板通過(guò)所述中部環(huán)形連接塊連接，所述中部環(huán)形連接塊沿所述中間導(dǎo)流板的外沿設(shè)置，所述中部環(huán)形連接塊的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)中部連接塊穿孔。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述多個(gè)中部連接塊穿孔等間距分布。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述中部連接塊穿孔的開(kāi)孔方向與所述清洗盤(pán)平行。11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述下部清洗通道由中間導(dǎo)流板、下部環(huán)形板和下部環(huán)形連接塊限定而成，所述下部環(huán)形板位于所述中間導(dǎo)流板的下方，所述下部環(huán)形板與中間導(dǎo)流板通過(guò)所述下部環(huán)形連接塊連接，所述下部環(huán)形連接塊沿所述中間導(dǎo)流板的外沿設(shè)置，所述下部環(huán)形連接塊的側(cè)面開(kāi)設(shè)有多個(gè)下部連接塊穿孔。12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述多個(gè)下部連接塊穿孔等間距分布。13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述下部連接塊穿孔的開(kāi)孔方向與所述清洗盤(pán)的夾角大于等于10°。14.根據(jù)權(quán)利要求1?13任一項(xiàng)所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述清洗盤(pán)包括一夾塊，所述清洗盤(pán)夾具與所述夾塊連接。15.根據(jù)權(quán)利要求1?13任一項(xiàng)所述的涂膠顯影機(jī)上蓋清洗裝置，其特征在于，所述清洗盤(pán)夾具為真空吸盤(pán)。
【文檔編號(hào)】B08B3/08GK205570884SQ201620362868
【公開(kāi)日】2016年9月14日
【申請(qǐng)日】2016年4月26日
【發(fā)明人】顧燁
【申請(qǐng)人】中芯國(guó)際集成電路制造（天津）有限公司, 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司