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一種利用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法

文檔序號(hào):2752665閱讀:217來源:國(guó)知局
專利名稱:一種利用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種利用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,屬于光學(xué)器件制備技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)
光波導(dǎo)制作工藝是平面集成光學(xué)器件的核心技術(shù)。集成光路中高性能的功率分配器、光放大器、方向耦合器、電光調(diào)制器等的制作都需要依賴于光波導(dǎo)技術(shù)的發(fā)展和優(yōu)化。目前可以制作光波導(dǎo)的材料包括鈮酸鋰(LiNbO3)、III-V族半導(dǎo)體化合物、二氧化硅(SiO2)、SOI(Silicon-on-Insulator,絕緣體上硅)、聚合物(Polymer)和玻璃。制作的常規(guī)工藝主要有刻蝕和擴(kuò)散。在利用刻蝕工藝的光波導(dǎo)中,目前廣泛使用的是掩埋型硅基二氧化硅光波導(dǎo),這種光波導(dǎo)的優(yōu)點(diǎn)在于和光纖耦合損耗低,但其工藝復(fù)雜、成本高的缺點(diǎn)比較明顯;而擴(kuò)散工藝一般是基于玻璃襯底的鉀鈉離子交換波導(dǎo)(中國(guó)專利,公開號(hào)CN1424597A,CN1746707A),或者是基于鈮酸鋰(LiNbO3)襯底的質(zhì)子交換波導(dǎo)。
利用材料光致折射率變化的性能來開發(fā)制作平面光波導(dǎo)是近年來興起的研究(Rochford et al.Appl.Phys.Lett.1989,55,1161-1163;Beeson et al.Appl.Phys.Lett.1991,58,1955-1957)。這個(gè)領(lǐng)域的研究中,聚合物材料具有明顯的優(yōu)勢(shì)。聚合物薄膜材料的折射率可隨光輻照而發(fā)生改變的性質(zhì)通常稱作光漂白。當(dāng)聚合物薄膜暴露于一定波長(zhǎng)的光區(qū)中,隨著曝光時(shí)間、溫度、光強(qiáng)等因素的不同,材料的折射率和吸光系數(shù)會(huì)發(fā)生不同程度的改變。利用這種光漂白性質(zhì),通過調(diào)節(jié)曝光條件,控制聚合物的折射率變化,可進(jìn)行集成光波導(dǎo)器件的制備。這種光漂白的技術(shù)可以極大地簡(jiǎn)化集成波導(dǎo)的制作工藝,省去光刻、顯影以及離子刻蝕等步驟,避免了光刻膠的使用,很大程度地降低了成本。同時(shí),由于不少聚合物體系都具有比較高的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,比如聚酰亞胺類,或者即使本身鏈段具備一定的柔性,但也方便引入交聯(lián)基團(tuán)改性,因此利用這些薄膜材料制備的波導(dǎo)器件都具有優(yōu)良的熱穩(wěn)定性能。
但是,目前已見報(bào)道的聚合物薄膜材料中,可用于光漂白改變折射率的材料種類還不是太多,并且絕大部分都需要強(qiáng)紫外曝光才能實(shí)現(xiàn)漂白,比如Koo,J.等人在Chem.Mater.2002,14,5030-5036以及Opt.Mater.2003,23,583-592報(bào)道的研究成果,而在可見光輻照下可以漂白的材料則更少。另一方面,現(xiàn)有的多數(shù)聚合物薄膜材料,其折射率隨著輻照條件而變化的幅度還相當(dāng)窄,很多并不能滿足波導(dǎo)器件對(duì)于折射率梯度變化的要求。因此,開發(fā)更多的具有優(yōu)良光漂白性能的聚合物材料對(duì)于集成光波導(dǎo)工業(yè)來講具有巨大的應(yīng)用價(jià)值。
偶氮材料是一類具有優(yōu)良光敏性質(zhì)的材料。偶氮基團(tuán)在可見光區(qū)有較強(qiáng)的吸收,并且可以發(fā)生可逆的順反異構(gòu)。這類材料在光致變色、表面起伏光柵、光存儲(chǔ)以及非線性光學(xué)方面都有著巨大的研究?jī)r(jià)值和應(yīng)用前景。將偶氮基團(tuán)引入聚合物之后,聚合物的基體能夠賦予這類材料優(yōu)良的熱穩(wěn)定性和加工性能。此外,染料中常見的咪唑基團(tuán)也是一種性能優(yōu)異的光敏感生色團(tuán)。已有研究報(bào)道含咪唑基團(tuán)的材料在光輻照下觀察到折射率發(fā)生改變(Fucuda,T.WO2006/016725 A1)。盡管其機(jī)理尚不太清楚,但已經(jīng)引起了光存儲(chǔ)和平面光波導(dǎo)研究領(lǐng)域的關(guān)注。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提出一種利用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,以克服現(xiàn)有刻蝕和擴(kuò)散方法制備光波導(dǎo)技術(shù)的不足。并使制備工藝簡(jiǎn)單、操作容易,以降低生產(chǎn)成本。
本發(fā)明提出的用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,包括以下步驟 (1)對(duì)襯底進(jìn)行清洗; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液。混合的質(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.3-0.9∶3-9。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60-180℃溫度下烘干6-12小時(shí),得到厚度為1.0-5.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.1-0.5∶8-16。將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60-140溫度下烘干8-12小時(shí),得到厚度為0.4-1.5微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為以下結(jié)構(gòu)式中的任意一種 (a)
其中“R”結(jié)構(gòu)為下面基團(tuán)中任何一種
(b)
其中重復(fù)單元數(shù)x可為20-300; (c)
其中n可以為2-14; (4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用可見激光照射5-60分鐘,激光波長(zhǎng)可以為457納米、488納米、514納米、532納米,激光強(qiáng)度為50-200毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為3.0-7.0微米。
本發(fā)明提出的利用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,其優(yōu)點(diǎn)是 1、本發(fā)明方法中用于制備光波導(dǎo)芯層的偶氮聚合物,其合成工藝簡(jiǎn)單,價(jià)格低廉,因此使光波導(dǎo)的大量制備容易實(shí)現(xiàn),而且降低產(chǎn)品成本。
2、本發(fā)明方法中用于制備光波導(dǎo)芯層的偶氮聚合物,利用不同波長(zhǎng)的可見激光進(jìn)行光漂白加工,所需的光強(qiáng)不需要太強(qiáng),但折光指數(shù)變化幅度比較大,并且通過控制曝光時(shí)間和強(qiáng)度的改變,能夠方便地將折光指數(shù)控制在所需的數(shù)值,使光波導(dǎo)的制備工藝簡(jiǎn)單,質(zhì)量容易控制。
3、本發(fā)明方法中,在定制掩模的輔助下,通過光漂白加工光波導(dǎo)極大地簡(jiǎn)化了集成波導(dǎo)的制作工藝,省去了已有技術(shù)中的反應(yīng)離子刻蝕、濕法刻蝕等步驟,避免了光刻膠的使用,很大程度地降低了產(chǎn)品成本。



圖1是本發(fā)明方法制備的光波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖1中,1是襯底,2是下包層,3是芯層,4是上包層,5是芯層上形成的光波導(dǎo)。

具體實(shí)施例方式 本發(fā)明提出的用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,制備的光波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示,具體制備方法包括以下步驟 (1)對(duì)襯底1進(jìn)行清洗; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.3-0.9∶3-9。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60-180℃溫度下烘干6-12小時(shí),得到厚度為1.0-5.0微米的下包層2,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.1-0.5∶8-16。將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60-140溫度下烘干8-12小時(shí),得到厚度為0.4-1.5微米的芯層3,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為以下結(jié)構(gòu)式中的任意一種 (a)
其中“R”結(jié)構(gòu)為下面基團(tuán)中任何一種
(b)
其中重復(fù)單元數(shù)x可為20-300; (c)
其中n可以為2-14; (4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用可見激光照射5-60分鐘,激光波長(zhǎng)可以為457納米、488納米、514納米、532納米,激光強(qiáng)度為50-200毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo)5; (5)在上述光波導(dǎo)上用固化膠涂覆上包層4,固化并烘干,上包層的厚度為3.0-7.0微米。
本發(fā)明的制作光波導(dǎo)的方法中,使用的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物和偶氮聚合物,其制備方法已在相關(guān)專利和文章中公開,并可以由清華大學(xué)制備和提供。使用的襯底材料可以選用硅、石英玻璃、ITO玻璃、碳化硅或藍(lán)寶石等等。使用的異氰酸酯是用作交聯(lián)劑。本發(fā)明方法中所用的固化膠可以是通用的牌號(hào)為NOA-73、UV15-LV、LP115、LP146、LP152、UFC170、VSC的固化膠,可以從一般的化工材料商店購買。
以下介紹本發(fā)明方法的實(shí)施例 實(shí)施例1 (1)選擇硅作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中“R”結(jié)構(gòu)為
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為488納米,激光強(qiáng)度為100毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為NO73的紫外固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例2 (1)選擇石英玻璃作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中“R”結(jié)構(gòu)為
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為488納米,激光強(qiáng)度為100毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為NO73的紫外固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例3 (1)選擇碳化硅作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中“R”結(jié)構(gòu)為
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為532納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為NOA-73的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例4 (1)選擇硅作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中重復(fù)單元數(shù)x=100; (4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為457納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為UV15-LV的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例5 (1)選擇藍(lán)寶石作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中重復(fù)單元數(shù)x=200; (4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為532納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為L(zhǎng)P115的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例6 (1)選擇ITO玻璃作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中n=6; (4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為514納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為L(zhǎng)P146的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例7 (1)選擇碳化硅作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中“R”結(jié)構(gòu)為
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為514納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為L(zhǎng)P152的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例8 (1)選擇硅作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中 所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中“R”結(jié)構(gòu)為
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為457納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為UFC170的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
實(shí)施例9 (1)選擇碳化硅作為襯底材料,分別利用丙酮、乙醇、水各超聲15分鐘,重復(fù)執(zhí)行2次,最后用N2氣吹干備用; (2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液?;旌系馁|(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.6∶6.4。將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為3.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.25∶12,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60℃溫度下烘干12小時(shí),得到厚度為0.8微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為
其中“R”結(jié)構(gòu)為
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用激光照射30分鐘,激光波長(zhǎng)為488納米,激光強(qiáng)度為150毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo); (5)在上述光波導(dǎo)上用牌號(hào)為VSC的固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為5.0微米。
權(quán)利要求
1.一種用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,其特征在于該方法包括以下步驟
(1)對(duì)襯底進(jìn)行清洗;
(2)將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液,混合的質(zhì)量比為環(huán)氧樹脂預(yù)聚物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.3-0.9∶3-9,將第一混合溶液旋涂在上述清洗的襯底上,并在60-180℃溫度下烘干6-12小時(shí),得到厚度為1.0-5.0微米的下包層,其中所述的環(huán)氧樹脂預(yù)聚物的分子結(jié)構(gòu)式為
(3)將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,混合的質(zhì)量比為偶氮聚合物∶異氰酸酯∶N,N-二甲基甲酰胺=1∶0.1-0.5∶8-16,將第二混合溶液旋涂在上述下包層上,并在60-140溫度下烘干8-12小時(shí),得到厚度為0.4-1.5微米的芯層,其中所述的偶氮聚合物的分子結(jié)構(gòu)式為以下結(jié)構(gòu)式中的任意一種
其中“R”結(jié)構(gòu)為下面三種基團(tuán)中的任何一種
其中重復(fù)單元數(shù)x為20-300;
其中n為2-14;
(4)將具有所需波導(dǎo)形狀的掩模放置在上述芯層上,用可見激光照射5-60分鐘,激光波長(zhǎng)為457納米、488納米、514納米或532納米中的任何一種,激光強(qiáng)度為50-200毫瓦/平方厘米,形成光波導(dǎo);
(5)在上述光波導(dǎo)上用固化膠涂覆上包層,固化并烘干,上包層的厚度為3.0-7.0微米。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種利用偶氮聚合物制作光波導(dǎo)的方法,屬于光學(xué)器件制備技術(shù)領(lǐng)域。首先對(duì)襯底進(jìn)行清洗;將環(huán)氧樹脂預(yù)聚物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第一混合溶液,并將其旋涂在上述清洗的襯底上,得到下包層;將偶氮聚合物、異氰酸酯和N,N-二甲基甲酰胺相混,得到第二混合溶液,并將其旋涂在下包層上,得到芯層;將掩模放置在芯層上,用激光照射形成光波導(dǎo);在光波導(dǎo)上用固化膠涂覆上包層。本發(fā)明方法制備工藝簡(jiǎn)單,質(zhì)量容易控制,產(chǎn)品成本低。
文檔編號(hào)G02B6/13GK101762847SQ20101010407
公開日2010年6月30日 申請(qǐng)日期2010年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月29日
發(fā)明者葉鋼, 和亞寧, 曲欣, 王曉林, 白一鳴, 吳伯瑜, 王曉工 申請(qǐng)人:清華大學(xué)
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