技術(shù)編號：2752665
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及，屬于光學(xué)器件制備。 背景技術(shù) 光波導(dǎo)制作工藝是平面集成光學(xué)器件的核心技術(shù)。集成光路中高性能的功率分配器、光放大器、方向耦合器、電光調(diào)制器等的制作都需要依賴于光波導(dǎo)技術(shù)的發(fā)展和優(yōu)化。目前可以制作光波導(dǎo)的材料包括鈮酸鋰(LiNbO3)、III-V族半導(dǎo)體化合物、二氧化硅(SiO2)、SOI(Silicon-on-Insulator，絕緣體上硅)、聚合物(Polymer)和玻璃。制作的常規(guī)工藝主要有刻蝕和擴(kuò)散。在利用刻蝕工藝的光波導(dǎo)中，目前廣泛...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。