專(zhuān)利名稱(chēng)：曝光方法、曝光裝置、光罩以及光罩的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光方法、曝光裝置、光罩及光罩的制造方法，特別是涉及一種使用為了利用微影制程來(lái)制造液晶顯示元件等平板顯示元件等微型元件的曝光裝置的曝光方法、藉由該曝光方法進(jìn)行曝光的曝光裝置、該曝光方法中所使用的光罩以及該光罩的制造方法。

背景技術(shù)：
例如，在制造半導(dǎo)體元件或液晶顯示元件等時(shí)，使用有將屏蔽(標(biāo)線(xiàn)片reticle、光罩photomask等)的圖案經(jīng)由投影光學(xué)系統(tǒng)而投影至涂布有光阻劑的平板(玻璃平板或半導(dǎo)體晶圓等)上的投影曝光裝置。先前，大多使用利用步進(jìn)重復(fù)(Step And Repeat)方式使各標(biāo)線(xiàn)片(reticle)的圖案一并曝光于平板上的各照射(shot)區(qū)域上的投影曝光裝置(步進(jìn)曝光機(jī)，Stepper)。近年來(lái)，提出有如下所述的步進(jìn)掃描(Step and Scan)方式的投影曝光裝置(例如，參照日本專(zhuān)利特愿平5-161588號(hào)公報(bào)以及日本專(zhuān)利特開(kāi)平11-265848號(hào)公報(bào))，以取代1個(gè)較大的投影光學(xué)系統(tǒng)，該步進(jìn)掃描式投影曝光裝置中，將多個(gè)局部投影光學(xué)系統(tǒng)排列在與掃描方向正交的方向上，進(jìn)而沿掃描方向以規(guī)定間隔配置多列，一面對(duì)光罩及平板進(jìn)行掃描，一面利用各局部投影光學(xué)系統(tǒng)將光罩的圖案分別曝光于平板上。作為多個(gè)局部投影光學(xué)系統(tǒng)，使用有將光罩上的圖案以正立正像等倍的方式曝光于平板上的光學(xué)系統(tǒng)。
然而，近年來(lái)，平板正逐步大型化，逐漸使用超過(guò)2m見(jiàn)方的平板。此處，在使用上述步進(jìn)掃描方式的曝光裝置于大型平板上進(jìn)行曝光時(shí)，為了使局部投影光學(xué)系統(tǒng)為等倍，光罩亦大型化。由于亦必須維持光罩基板的平面性，因此光罩越大型化，光罩的成本則越高。而且，為了形成通常的TFT部，需要4～5層(layer)的光罩，且必須準(zhǔn)備約10種左右尺寸不同的面板作為光罩，這樣須耗費(fèi)極大的成本。
因此，在日本專(zhuān)利特開(kāi)平11-265848號(hào)公報(bào)中所揭示的投影曝光裝置中，將投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率設(shè)為1.1倍～1.5倍或1.5倍以上，而于實(shí)施例中放大倍率則設(shè)為4倍，將光罩分割成多個(gè)由此實(shí)現(xiàn)光罩小型化。然而，由于增大投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率，因此相對(duì)于掃描面積成為多余的區(qū)域?qū)⒆兇?，且相?duì)于曝光所必需的區(qū)域，曝光所不需要的區(qū)域?qū)⒆兇?，從而，難以獲得對(duì)于掃描面積而言充分的曝光貢獻(xiàn)率。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種可提高光罩的圖案區(qū)域的利用效率而進(jìn)行曝光的曝光方法、藉由該曝光方法進(jìn)行曝光的曝光裝置、該曝光方法中所使用的光罩以及該光罩的制造方法。
本發(fā)明的曝光方法，是分別經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)，將設(shè)于第1物體(M)上的圖案(M1、M2)投影曝光至第2物體(P)上的曝光方法，此曝光方法的特征在于包括下述投影曝光步驟:將具有以對(duì)應(yīng)于上述放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域(M1)、以及至少一部分設(shè)于上述第1圖案區(qū)域(M1)之間的第2圖案區(qū)域(M2、m)的上述第1物體(M)，配置于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)的第1面?zhèn)?，并且，使上述?圖案區(qū)域(M1)及上述第2圖案區(qū)域(M2、m)中的上述第1圖案區(qū)域(M1)的放大像，分別經(jīng)由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)而投影曝光至配置于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)的第2面?zhèn)鹊纳鲜龅?物體(P)上。
本發(fā)明的曝光裝置，是分別經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)，將設(shè)于第1物體(M)上的圖案(M1、M2)投影曝光至第2物體(P)上的曝光裝置，此曝光裝置的特征在于包括第1保持裝置(MS)及第2保持裝置(PS)，其中，上述第1保持裝置(MS)是將具有設(shè)于上述第1物體(M)上且非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域(M1)、以及至少一部分設(shè)于上述第1圖案區(qū)域(M1)之間的第2圖案區(qū)域(M2、m)的上述第1物體(M)支持于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)的第1面上，而上述第2保持裝置(PS)是將上述第2物體(P)保持于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)的第2面上，以使上述第1圖案區(qū)域(M1)及上述第2圖案區(qū)域(M2、m)中的上述第1圖案區(qū)域(M1)的放大像分別經(jīng)由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)而投影。
本發(fā)明的光罩，是形成有原案(M1、M2)的光罩(M)，該原案(M1、M2)是用以使圖案經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)而曝光于感光物體(P)上，此光罩的特征在于包括多個(gè)第1圖案區(qū)域(M1)及第2圖案區(qū)域(M2)，上述多個(gè)第1圖案區(qū)域(M1)以對(duì)應(yīng)于上述放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置，且用以分別藉由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)而形成放大像，上述第2圖案區(qū)域(M2)的至少一部分設(shè)于上述多個(gè)第1圖案區(qū)域(M1)之間，且藉由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)(PL1～PL5)中的至少1個(gè)而形成放大像。
而且，本發(fā)明的光罩，是具有圖案區(qū)域的光罩，其特征在于，上述圖案區(qū)域包含奇數(shù)列圖案區(qū)域、及偶數(shù)列圖案區(qū)域，于上述奇數(shù)列圖案區(qū)域中相鄰接的至少一對(duì)端部、或上述偶數(shù)列圖案區(qū)域中相鄰接的至少一對(duì)端部上，含有具備相同圖案的共通區(qū)域，且上述偶數(shù)列圖案區(qū)域的至少一部分配置于相鄰接的至少一對(duì)上述奇數(shù)列圖案區(qū)域之間。
本發(fā)明的光罩的制造方法，是上述光罩的制造方法，其特征在于包括:第1步驟，對(duì)與上述光罩上的奇數(shù)列圖案區(qū)域中形成的全部奇數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第1劃分資料群；第2步驟，對(duì)與上述光罩上的偶數(shù)列圖案區(qū)域中形成的全部偶數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第2劃分資料群；第3步驟，于至少一對(duì)上述第1劃分資料群或者至少一對(duì)上述第2劃分資料群的端部，附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料，制作與上述光罩上形成的全部圖案相對(duì)應(yīng)的奇數(shù)列圖案繪制資料及偶數(shù)列圖案繪制資料；以及第4步驟，使用上述奇數(shù)列圖案繪制資料及上述偶數(shù)列圖案繪制資料，于上述光罩上繪制上述全部圖案。
而且，本發(fā)明的光罩的制造方法，是上述光罩的制造方法，其特征在于包括:第1步驟，對(duì)與在至少一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域中具有共通區(qū)域的全部奇數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第1劃分資料群；第2步驟，對(duì)與在至少一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域中具有共通區(qū)域的全部偶數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第2劃分資料群；以及第3步驟，使用上述第1劃分資料群及上述第2劃分資料群，于上述光罩上繪制上述全部奇數(shù)列圖案及上述全部偶數(shù)列圖案。
[發(fā)明效果] 根據(jù)本發(fā)明的曝光方法，可經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，而將設(shè)于第1物體上的圖案的放大像投影曝光至第2物體上，因此即便于第2物體大型化時(shí)亦可防止第1物體的大型化。而且，將以對(duì)應(yīng)于多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域、或者設(shè)于第1圖案區(qū)域之間的第2圖案區(qū)域的放大像投影曝光至第2物體上，因此可提高第1物體的利用效率。
而且，根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置，具備具有放大倍率的投影光學(xué)系統(tǒng)，因此可將設(shè)于第1物體上的圖案的放大像投影至第2物體上。因此，即便在第2物體大型化時(shí)亦可防止第1物體的大型化，且可防止第1保持裝置的大型化。而且，將以對(duì)應(yīng)于多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域、或者設(shè)于第1圖案區(qū)域之間的第2圖案區(qū)域的放大像投影曝光至第2物體上，因此可提高第1物體的利用效率。尤其是在使用將多個(gè)局部投影光學(xué)系統(tǒng)排列在與掃描方向正交的方向上，并在掃描方向上進(jìn)行掃描的曝光裝置的情形時(shí)，可將掃描方向上光罩的長(zhǎng)度設(shè)為約1/(放大倍率)的長(zhǎng)度。
而且，根據(jù)本發(fā)明的光罩，具有多個(gè)第1圖案區(qū)域及第2圖案區(qū)域，上述多個(gè)第1圖案區(qū)域是以對(duì)應(yīng)于多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置，且用以藉由各投影光學(xué)系統(tǒng)而形成放大像，上述第2圖案區(qū)域的至少一部分設(shè)于多個(gè)第1圖案區(qū)域之間，且用以藉由各投影光學(xué)系統(tǒng)中的至少1個(gè)而形成放大像，因此可防止大型化，且可提高圖案區(qū)域的利用效率。因此，可減少在使用曝光裝置來(lái)制造各種元件時(shí)所必需的光罩的片數(shù)。例如，在先前的曝光步驟中，必需多片光罩，而與此相對(duì)，亦可利用1片光罩進(jìn)行曝光，從而可縮短更換光罩的時(shí)間，且可實(shí)現(xiàn)光罩的低成本化。
而且，根據(jù)本發(fā)明的光罩的制造方法，可降低光罩的制造成本。
綜上所述，本發(fā)明是分別經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，將光罩(M)的圖案(M1、M2)投影曝光于基板上的曝光方法，此曝光方法是將具有以對(duì)應(yīng)于上述放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域(M1)、以及至少一部分設(shè)于第1圖案區(qū)域(M1)之間的第2圖案區(qū)域(M2)的光罩(M)，配置于投影光學(xué)系統(tǒng)的物體面?zhèn)龋沟?圖案區(qū)域(M1)與第2圖案區(qū)域(M2)中的其中一個(gè)圖案區(qū)域的放大像分別投影曝光至配置于投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)鹊幕迳现?，將另一個(gè)圖案區(qū)域的放大像投影曝光于該基板上。
上述說(shuō)明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段，而可依照說(shuō)明書(shū)的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說(shuō)明如下。



圖1是表示實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。
圖2是表示實(shí)施形態(tài)的光罩(mask)結(jié)構(gòu)圖。
圖3是表示實(shí)施形態(tài)的平板結(jié)構(gòu)圖。
圖4是用以說(shuō)明實(shí)施形態(tài)的曝光方法的流程圖。
圖5是用以說(shuō)明使8張?jiān)D案曝光于平板上的情形圖。
圖6是用以說(shuō)明使6張?jiān)D案曝光于平板上的情形圖。
圖7是表示實(shí)施形態(tài)的其它光罩結(jié)構(gòu)圖。
圖8是表示實(shí)施形態(tài)的其它平板結(jié)構(gòu)圖。
圖9是表示實(shí)施形態(tài)的其它平板結(jié)構(gòu)圖。
圖10是表示步進(jìn)-重復(fù)方式的曝光裝置中所使用的光罩結(jié)構(gòu)圖。
圖11是表示利用步進(jìn)-重復(fù)方式的曝光裝置使圖案曝光的平板結(jié)構(gòu)圖。
圖12是表示實(shí)施形態(tài)的其它光罩結(jié)構(gòu)圖。
圖13是表示實(shí)施形態(tài)的其它光罩結(jié)構(gòu)圖。
圖14是表示其它實(shí)施形態(tài)的正立像用光罩的結(jié)構(gòu)圖。
圖15是表示其它實(shí)施形態(tài)的倒立像用光罩的結(jié)構(gòu)圖。
圖16是表示其它實(shí)施形態(tài)的藉由奇數(shù)列圖案來(lái)進(jìn)行曝光處理后的平板結(jié)構(gòu)圖。
圖17是表示其它實(shí)施形態(tài)的藉由偶數(shù)列圖案來(lái)進(jìn)行曝光處理后的平板結(jié)構(gòu)圖。
圖18是表示其它實(shí)施形態(tài)的其它光罩結(jié)構(gòu)圖。
圖19是表示其它實(shí)施形態(tài)的光罩制造方法的流程圖。
圖20是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)中與奇數(shù)列圖案相關(guān)的圖案資料的劃分步驟圖。
圖21是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)的與偶數(shù)列圖案相關(guān)的圖案資料的劃分步驟圖。
圖22是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)中與制造正立像用光罩時(shí)的奇數(shù)列圖案相關(guān)的共通區(qū)域賦予步驟圖。
圖23是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)下與制造正立像用光罩時(shí)的偶數(shù)列圖案相關(guān)的共通區(qū)域賦予步驟圖。
圖24是表示藉由其它實(shí)施形態(tài)中制造方法所制造的正立像用光罩的結(jié)構(gòu)圖。
圖25是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)中與制造倒立像用光罩時(shí)的奇數(shù)列圖案相關(guān)的共通區(qū)域賦予步驟圖。
圖26是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)中與制造倒立像用光罩時(shí)的偶數(shù)列圖案相關(guān)的共通區(qū)域賦予步驟圖。
圖27是表示藉由其它實(shí)施形態(tài)的制造方法所制造的倒立像用光罩的結(jié)構(gòu)圖。
圖28是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)下與省略光罩制造方法的共通區(qū)域賦予步驟時(shí)的奇數(shù)列圖案相關(guān)的圖案資料的劃分步驟圖。
圖29是用以說(shuō)明其它實(shí)施形態(tài)下與省略光罩制造方法的共通區(qū)域賦予步驟時(shí)的偶數(shù)列圖案相關(guān)的圖案資料的劃分步驟圖。
1: 光源2: 橢圓鏡 3: 分色鏡 4: 快門(mén) 5: 準(zhǔn)直透鏡6: 波長(zhǎng)選擇濾光片 8: 中繼透鏡9: 光導(dǎo) 9a: 入射端 9b:射出端 9c: 射出端 9d:射出端 9e: 射出端 9f:射出端 11b:準(zhǔn)直透鏡12b: 復(fù)眼式積分器 15b:聚光透鏡系統(tǒng)24:空間像計(jì)測(cè)裝置 25、26: 移動(dòng)鏡 29:照度測(cè)定部 52: 定位系統(tǒng) 54: 自動(dòng)聚焦系統(tǒng) A、B:區(qū)域 C、D: 區(qū)域 P1～P5: 區(qū)域 P11～P14: 區(qū)域 a1: 第1劃分資料群 b1: 第1劃分資料群 c1: 第1劃分資料群 a2: 第2劃分資料群 b2: 第2劃分資料群 c2: 第2劃分資料群 A1: 第1劃分資料B1: 第1劃分資料 C1: 第1劃分資料A2: 第2劃分資料 B2: 第2劃分資料C2: 第2劃分資料 I1～I(xiàn)5: 照明區(qū)域 IL: 照明光學(xué)系統(tǒng) Li、Lr: 間距間隔 Lm: 圖案間距 M、M′: 光罩 M5、M6: 光罩 M7、M10: 光罩 M:位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記 m0: 位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記 m1: 位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記 m11: 第1位置檢測(cè)用標(biāo)記 m21: 第2位置檢測(cè)用標(biāo)記 M1: 奇數(shù)列圖案區(qū)域 M2: 偶數(shù)列圖案區(qū)域 M3、M8: 第1圖案M4、M9: 第2圖案 MS: 光罩平臺(tái) opa: 共通區(qū)域 opb: 共通區(qū)域 opc: 共通區(qū)域 opd: 共通區(qū)域 ope: 共通區(qū)域 opf: 共通區(qū)域 opg: 共通區(qū)域 oph: 共通區(qū)域 P、P′: 平板 PD1: 第1圖案資料PD2: 第2圖案資料 PL:投影光學(xué)系統(tǒng) PL1～PL5:投影光學(xué)單元 PS: 平板平臺(tái) R1～R5: 曝光區(qū)域 Si、Ti: 寬度 Sr、Tr: 寬度
具體實(shí)施例方式 以下，參閱圖式，對(duì)本發(fā)明實(shí)施形態(tài)的曝光裝置進(jìn)行說(shuō)明。圖1是表示該實(shí)施形態(tài)的曝光裝置的概略結(jié)構(gòu)的立體圖。在該實(shí)施形態(tài)中，以如下所述的步進(jìn)掃描方式的曝光裝置為例進(jìn)行說(shuō)明，該曝光裝置中，一面使屏蔽(第1物體、光罩)M及平板(第2物體、感光物體)P對(duì)于由多個(gè)反射折射型投影光學(xué)單元PL1、PL3、PL5以及未圖示的2個(gè)投影光學(xué)單元(以下，稱(chēng)為投影光學(xué)單元PL2、PL4)所構(gòu)成的投影光學(xué)系統(tǒng)PL相對(duì)移動(dòng)，一面將光罩M上所形成的圖案(原案)的影像轉(zhuǎn)印至平板P上。
另外，在以下說(shuō)明中，設(shè)定各圖中所示的XYZ正交坐標(biāo)系，并一面參照該XYZ正交坐標(biāo)系一面說(shuō)明各構(gòu)件的位置關(guān)系。XYZ正交坐標(biāo)系設(shè)定X軸以及Y軸平行于平板P，并設(shè)定Z軸方向與平板P正交。對(duì)于圖中的XYZ坐標(biāo)系而言，實(shí)際上XY平面設(shè)定為平行于水平面，Z軸設(shè)定為鉛直方向。而且，在本實(shí)施形態(tài)中，將光罩M以及平板P移動(dòng)的方向(掃描方向)設(shè)定為X軸方向。
該實(shí)施形態(tài)的曝光裝置，具備用以對(duì)光罩平臺(tái)(第1保持裝置)MS上所支持的光罩M進(jìn)行均勻照明的照明光學(xué)系統(tǒng)IL。照明光學(xué)系統(tǒng)IL例如具備由水銀燈或超高壓水銀燈構(gòu)成的光源1。由于光源1配置于橢圓鏡2的第1焦點(diǎn)位置上，因此自光源1射出的照明光束經(jīng)由分色鏡3后，于橢圓鏡2的第2焦點(diǎn)位置上形成光源影像。
另外，于本實(shí)施形態(tài)中，自光源1射出的光由形成于橢圓鏡2內(nèi)面的反射膜以及分色鏡3反射，藉此，于橢圓鏡2的第2焦點(diǎn)位置上形成由300nm以上的波長(zhǎng)域的光所構(gòu)成的光源影像，該300nm以上的波長(zhǎng)域的光包含g線(xiàn)(436nm)的光、h線(xiàn)(405nm)的光、及i線(xiàn)(365nm)的光。也就是說(shuō)，于由橢圓鏡2及分色鏡3反射時(shí)，包含g線(xiàn)、h線(xiàn)、及i線(xiàn)的波長(zhǎng)域以外的在曝光上所不需要的成分會(huì)被去除。
于橢圓鏡2的第2焦點(diǎn)位置上配置有快門(mén)4。藉由開(kāi)關(guān)快門(mén)4，可以使通過(guò)快門(mén)4開(kāi)口部的照明光束的光量迅速變化，從而可獲得脈沖狀照明光束。來(lái)自橢圓鏡2的第2焦點(diǎn)位置上所形成的光源影像的發(fā)散光束，藉由準(zhǔn)直透鏡5而轉(zhuǎn)換為大致平行的光束，并入射至波長(zhǎng)選擇濾光片6。波長(zhǎng)選擇濾光片6僅使包含g線(xiàn)、h線(xiàn)、及i線(xiàn)的波長(zhǎng)域的光束透過(guò)。透過(guò)波長(zhǎng)選擇濾光片6的光，經(jīng)由中繼透鏡8而再次成像。于該成像位置附近，配置有光導(dǎo)9的入射端9a。光導(dǎo)9是例如使多根纖維芯線(xiàn)隨機(jī)成束而成的隨機(jī)光導(dǎo)纖維，該光導(dǎo)9具備:數(shù)量與光源1的數(shù)量(于該實(shí)施形態(tài)中為1個(gè))相同的入射端9a；以及數(shù)量與構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影光學(xué)單元的數(shù)量(于該實(shí)施形態(tài)中為5個(gè))相同的射出端，即5個(gè)射出端9b～9f。如此，入射至光導(dǎo)9的入射端9a的光，于其內(nèi)部傳遞之后，自射出端9b～9f分割射出。另外，于僅具備1個(gè)光源1而導(dǎo)致光量不足時(shí)，亦可設(shè)置多個(gè)光源，并且針對(duì)各光源而設(shè)置光導(dǎo)，該光導(dǎo)具有所設(shè)置的多個(gè)入射端，且使自各個(gè)入射端入射的光分割為大致相同的光量而自各射出端射出。
于光導(dǎo)9的射出端9b與光罩M之間，依序配置有準(zhǔn)直透鏡11b、復(fù)眼式積分器(fly eye integrator)12b、孔徑光闌(aperture stop)(未圖示)、分光器(未圖示)、以及聚光透鏡系統(tǒng)15b。同樣，于光導(dǎo)9的其它4個(gè)射出端9c～9f與光罩M之間，依次序分別配置有準(zhǔn)直透鏡、復(fù)眼式積分器、孔徑光闌(未圖示)、分光器(未圖示)、以及聚光透鏡系統(tǒng)。
另外，此處為了簡(jiǎn)化說(shuō)明，以于光導(dǎo)9的射出端9b與光罩M之間所設(shè)的準(zhǔn)直透鏡11b、復(fù)眼式積分器12b、以及聚光透鏡系統(tǒng)15b為代表，說(shuō)明于光導(dǎo)9的各射出端9b～9f與光罩M之間所設(shè)的光學(xué)構(gòu)件的結(jié)構(gòu)。
自光導(dǎo)9的射出端9b所射出的發(fā)散光束，藉由準(zhǔn)直透鏡11b而轉(zhuǎn)換為大致平行的光束之后，入射至復(fù)眼式積分器12b。復(fù)眼式積分器12b，是藉由將多個(gè)透鏡元件以使其中心軸線(xiàn)沿照明光學(xué)系統(tǒng)IL的光軸延伸的方式縱橫且密集地排列而構(gòu)成的。因此，入射至復(fù)眼式積分器12b的光束，藉由多個(gè)透鏡元件而被波前分割(wavefront splitting)，并于其后聚焦面(亦即，射出面的附近)上形成包括個(gè)數(shù)與透鏡元件相同的光源影像的二次光源。亦即，于復(fù)眼式積分器12b的后聚焦面上，形成實(shí)質(zhì)性的面光源。
來(lái)自復(fù)眼式積分器12b后聚焦面上所形成的多個(gè)二次光源的光束，受到配置于復(fù)眼式積分器12b后聚焦面附近的未圖示的孔徑光闌的限制后，經(jīng)由未圖示的分光器，入射至聚光透鏡系統(tǒng)15b。另外，孔徑光闌配置于與相對(duì)應(yīng)的投影光學(xué)單元PL1的瞳面在光學(xué)上大致共軛的位置上，且具有用以規(guī)定有助于照明的二次光源的范圍的可變開(kāi)口部。孔徑光闌藉由使該可變開(kāi)口部的開(kāi)口徑變化，可將決定照明條件的σ值(瞳面上的二次光源影像的開(kāi)口徑與構(gòu)成投影光學(xué)系統(tǒng)PL的各投影光學(xué)單元PL1～PL5的該瞳面的開(kāi)口徑之比)設(shè)定為所期望的值。
經(jīng)由聚光透鏡系統(tǒng)15b的光束較強(qiáng)地照亮光罩M。另外，自光導(dǎo)9的其它4個(gè)射出端9c～9f射出的發(fā)散光束亦同樣，依次經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡、復(fù)眼式積分器、孔徑光闌、分光器、以及聚光透鏡，而分別較強(qiáng)地照亮光罩M。亦即，照明光學(xué)系統(tǒng)IL，照亮光罩M上排列于Y軸方向上的多個(gè)(于該實(shí)施形態(tài)中為5個(gè))梯形區(qū)域。另外，作為照明光學(xué)系統(tǒng)IL所具備的光源，亦可為紫外導(dǎo)體雷射(h線(xiàn))、固體雷射(355nm)、KrF準(zhǔn)分子雷射、ArF準(zhǔn)分子雷射等。
圖2是表示光罩M的結(jié)構(gòu)的圖。如圖2所示，于光罩M上，形成有用于第1曝光的第1圖案(第1圖案區(qū)域)M1(圖中斜線(xiàn)部分)、以及用于第2曝光的第2圖案(第2圖案區(qū)域)M2。第1圖案M1以及第2圖案M2，是以分別對(duì)應(yīng)于照亮光罩M的5個(gè)梯形照明區(qū)域I1～I(xiàn)5的方式而形成的。亦即，第1圖案M1，以與下述投影光學(xué)系統(tǒng)PL的放大倍率及曝光區(qū)域的間距間隔Lr相對(duì)應(yīng)的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置，第2圖案M2與第1圖案M1同樣，以與投影光學(xué)系統(tǒng)PL的放大倍率及曝光區(qū)域的間距間隔Lr相對(duì)應(yīng)的位置關(guān)系而設(shè)于第1圖案M1之間。非連續(xù)地配置的第1圖案M1以及第2圖案M2，具備在經(jīng)由多個(gè)投影光學(xué)單元PL1～PL5而曝光于平板P上時(shí)一部分重復(fù)的區(qū)域，且以成為于平板P上連續(xù)的圖案的方式而形成。
照明區(qū)域I1～I(xiàn)5以如下方式進(jìn)行照明，即，以規(guī)定的間距間隔Li排列，各照明區(qū)域I1～I(xiàn)5是由寬度Si的部分及寬度Ti的部分所構(gòu)成，且于由投影光學(xué)系統(tǒng)PL所投影的平板P上，寬度Si的各部分成為相鄰接的照明區(qū)域彼此的疊印(overwrap)部分。于該實(shí)施形態(tài)中，將照明區(qū)域Y方向的寬度平均化后而獲得的有效照明寬度為(Ti+(Ti+Si×2))÷2＝(Ti+Si)，將該有效照明寬度(Ti+Si)乘以投影光學(xué)系統(tǒng)PL的倍率后而獲得的值，與曝光區(qū)域的間距間隔Lr(參閱圖3所示)相等。而且，光罩的圖案，是以圖案間距Lm的間隔而配置，Lm為L(zhǎng)i/2的間隔。
由于第1圖案M1的各圖案區(qū)域、以及第2圖案M2的各圖案區(qū)域形成于1個(gè)光罩上，因此可將各圖案區(qū)域的位置誤差抑制得較小。而且，第1圖案M1與第2圖案M2的位置誤差亦較少，于切換進(jìn)行曝光的圖案時(shí)亦可高精度地進(jìn)行切換動(dòng)作。另外，于使每一圖案位置偏移時(shí)，亦可進(jìn)行穩(wěn)定的偏移調(diào)整。
而且，于光罩M上，于-X方向側(cè)、+X方向側(cè)、及第1圖案M1與第2圖案M2之間，形成有多個(gè)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記(第2圖案區(qū)域、位置檢測(cè)用圖案)m、m0、m1。位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m、m0、m1是在藉由下述空間像計(jì)測(cè)裝置24來(lái)計(jì)測(cè)形成于平板P上的空間像時(shí)所使用的。亦即，藉由投影光學(xué)單元PL1～PL5中的至少1個(gè)所形成的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m、m0、m1的空間像是由空間像計(jì)測(cè)裝置24計(jì)測(cè)的，且根據(jù)該計(jì)測(cè)結(jié)果來(lái)檢測(cè)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m、m0、m1的影像位置。
來(lái)自光罩M上的各照明區(qū)域的光，入射至由沿Y軸方向呈鋸齒狀排列的多個(gè)(于該實(shí)施形態(tài)中為5個(gè))投影光學(xué)單元PL1～PL5以與各照明區(qū)域相對(duì)應(yīng)的方式而構(gòu)成的投影光學(xué)系統(tǒng)PL。經(jīng)過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的光，于在平板平臺(tái)(第2保持構(gòu)件)PS上的經(jīng)由未圖示的平板固持器而平行地支持于XY平面上的平板P上，形成光罩M的圖案的影像。各投影光學(xué)單元PL1～PL5具有大于2倍的投影倍率(于該實(shí)施形態(tài)中，放大倍率為2.4倍)。因此，于在平板P上的以與各照明區(qū)域I1～I(xiàn)5相對(duì)應(yīng)的方式而排列在Y方向上的梯形曝光區(qū)域R1～R5中，形成光罩M的圖案的放大像。亦即，由于投影光學(xué)單元PL1～PL5的放大倍率為2.4倍，故而形成于平板P上的曝光區(qū)域R1～R5的視野面積是形成于光罩M上的照明區(qū)域I1～I(xiàn)5的視野面積的2.4倍。各投影光學(xué)單元PL1～PL5具備調(diào)整機(jī)構(gòu)，該調(diào)整機(jī)構(gòu)用以調(diào)整形成于平板P上的影像的位置、倍率、旋轉(zhuǎn)、聚焦、像面傾斜等。例如，各投影光學(xué)單元PL1～PL5具備用以調(diào)整聚焦或像面傾斜的楔狀的雙層玻璃、用以調(diào)整像的位置的平行平面板、用以調(diào)整像的倍率的凹凸的倍率調(diào)整透鏡、用以調(diào)整像的旋轉(zhuǎn)的棱鏡等。另外，各投影光學(xué)單元PL1～PL5的平板P側(cè)，亦可設(shè)為遠(yuǎn)心的(telecentric)，雖然這是視平板P表面的平面度而定。
圖3是表示于平板P上形成有光罩M的圖案像的狀態(tài)的圖。如圖3所示，藉由與照明區(qū)域I1相對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域R1，使光罩M上的第1圖案M1或第2圖案M2曝光于平板P上的區(qū)域P1上。同樣，藉由與照明區(qū)域I2～I(xiàn)5相對(duì)應(yīng)的曝光區(qū)域R2～R5，使光罩M上的第1圖案M1或第2圖案M2曝光于平板P上的區(qū)域P2～P5上。亦即，關(guān)于選擇性地切換第1圖案M1及第2圖案M2而使第1圖案M1或第2圖案M2的放大像投影曝光至平板P上的切換機(jī)構(gòu)，使光罩平臺(tái)MS以規(guī)定量在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)，從而使由照明光學(xué)系統(tǒng)IL所照亮的第1圖案M1或第2圖案M2的放大像投影曝光至平板P上的區(qū)域P1～P5上。于該實(shí)施形態(tài)中，可行的是，以與投影光學(xué)單元PL1～PL5的間距間隔大致相等的規(guī)定量進(jìn)行步進(jìn)移動(dòng)。
曝光區(qū)域R1～R5由寬度Sr的部分及寬度Tr的部分所構(gòu)成，于平板P上，各寬度Sr的部分成為相鄰接的曝光區(qū)域彼此的疊印部分。于該實(shí)施形態(tài)中，曝光區(qū)域Y方向上的寬度，是由將圖2所示的寬度Si的部分與寬度Ti的部分乘以投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率后而獲得的寬度Sr的部分及寬度Tr的部分所構(gòu)成，將曝光區(qū)域Y方向上的寬度平均化后而獲得的有效曝光寬度為(Tr+Sr)，其與曝光區(qū)域的間距間隔Lr相等。因此，當(dāng)曝光區(qū)域的間距間隔Lr與Y方向上的投影光學(xué)系統(tǒng)的排列間距相同時(shí)，若規(guī)定曝光區(qū)域的間距間隔Lr與倍率，則可求得光罩圖案的圖案間距Lm。
另外，例如，隨機(jī)或呈Z字形(zigzag)來(lái)對(duì)光罩M的第1圖案M1或第2圖案M2的連接部進(jìn)行圖案化，以使由投影光學(xué)單元PL1及PL2所形成的曝光區(qū)域R1與R2的連接部(重復(fù)的部分，疊印部)P11的圖案、以及由投影光學(xué)單元PL2～PL5所形成的曝光區(qū)域R2～R5的連接部(重復(fù)的部分，疊印部)P12～P14的圖案成為連續(xù)的。而且，作為曝光區(qū)域，并不限定于梯形，亦可根據(jù)構(gòu)成裝置的光學(xué)系統(tǒng)，而呈長(zhǎng)方形、六角形、圓弧、圓弧+三角形等。
在將光罩M支持于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的物體側(cè)(第1面)的光罩平臺(tái)(第1保持構(gòu)件)MS上，設(shè)有具有長(zhǎng)沖程的掃描驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(未圖標(biāo))，該掃描驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)用以使光罩平臺(tái)沿掃描方向即X軸方向移動(dòng)。而且，設(shè)有一對(duì)定位驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(未圖標(biāo))，該定位驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)用以使光罩平臺(tái)沿掃描正交方向即Y軸方向只移動(dòng)一規(guī)定量、并且以微小量圍繞Z軸而旋轉(zhuǎn)。而且，光罩平臺(tái)的位置坐標(biāo)由使用有移動(dòng)鏡25的雷射干涉儀(未圖標(biāo))而計(jì)測(cè)、且受到位置控制。進(jìn)而，光罩平臺(tái)在Z方向上的位置可變。
同樣的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)，亦設(shè)置于將平板P保持于投影光學(xué)系統(tǒng)PL的影像側(cè)(第2面)的平板平臺(tái)(第2保持裝置)PS上。亦即，設(shè)有具有長(zhǎng)沖程的掃描驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(未圖標(biāo))、及一對(duì)定位驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)(未圖標(biāo))，該掃描驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)用以使平板平臺(tái)沿掃描方向即X軸方向而移動(dòng)，該定位驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)用以使平板平臺(tái)沿掃描正交方向即Y軸方向只移動(dòng)一規(guī)定量、并且以微小量圍Z軸而旋轉(zhuǎn)。而且，平板平臺(tái)的位置坐標(biāo)是由使用有移動(dòng)鏡26的雷射干涉儀(未圖標(biāo))所計(jì)測(cè)且受到位置控制。平板平臺(tái)與光罩平臺(tái)同樣亦可在Z方向上移動(dòng)。于該實(shí)施形態(tài)中，光罩M的圖案由投影光學(xué)系統(tǒng)PL放大至2.4倍后投影至平板P上。因此，使光罩平臺(tái)與平板平臺(tái)以1:2.4的掃描比，分別由投影光學(xué)系統(tǒng)PL進(jìn)行掃描。即，根據(jù)投影光學(xué)系統(tǒng)PL的倍率，使平板平臺(tái)相對(duì)于光罩平臺(tái)以幾倍倍率的速度比受到掃描。藉此，于掃描方向上，針對(duì)光罩M的圖案區(qū)域的長(zhǎng)度，使之放大至幾倍倍率的長(zhǎng)度并曝光于平板P側(cè)。
投影光學(xué)單元PL1、PL3、PL5以規(guī)定間隔配置于與掃描方向正交的方向上，作為第1列。而且，投影光學(xué)系統(tǒng)單元PL2、PL4亦同樣以規(guī)定間隔配置于與掃描方向正交的方向上，作為第2列。于第1列投影光學(xué)單元群與第2列投影光學(xué)單元群之間，配置有用以進(jìn)行平板P定位的離軸(off-axis)的定位系統(tǒng)52、以及用以調(diào)整光罩M或平板P的聚焦位置的自動(dòng)聚焦系統(tǒng)54。
而且，于平板平臺(tái)上設(shè)有照度測(cè)定部29，該照度測(cè)定部29是用以測(cè)定經(jīng)過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)PL后照射至平板P上的光的照度。而且，于平板平臺(tái)上，設(shè)有空間像計(jì)測(cè)裝置(檢測(cè)機(jī)構(gòu))24，該空間像計(jì)測(cè)裝置(檢測(cè)機(jī)構(gòu))24用以計(jì)測(cè)由投影光學(xué)單元PL1～PL5中的至少1個(gè)所形成的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m、m0、m1的空間像。
其次，參閱圖4所示的流程圖，說(shuō)明使用有該實(shí)施形態(tài)中的曝光裝置的曝光方法。
首先，輸入用以選擇形成于光罩M上的第1圖案M1與第2圖案M2的曝光信息(步驟S10)。于該實(shí)施形態(tài)中，輸入第1圖案M1所曝光的平板P上的曝光區(qū)域的位置、以及第2圖案M2所曝光的平板P上的曝光區(qū)域的位置等曝光信息。另外，曝光信息亦可預(yù)先輸入。而且，亦可對(duì)光罩M設(shè)置包含曝光信息的識(shí)別用條形碼(bar-code)等ID，并利用條形碼讀取機(jī)等來(lái)進(jìn)行曝光信息的讀入。其次，根據(jù)步驟S10中所輸入的曝光信息，選擇第1圖案M1或第2圖案M2(步驟S11)。于該實(shí)施形態(tài)中，選擇的是第1圖案M1。
其次，使用空間像計(jì)測(cè)裝置24來(lái)計(jì)測(cè)形成于光罩M的第1圖案M1與第2圖案M2之間的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的空間像(步驟S12)。具體而言，藉由使支持光罩M的光罩平臺(tái)在Y方向上移動(dòng)規(guī)定量而配置光罩平臺(tái)，以使光罩平臺(tái)在X方向上掃描時(shí)形成于第1圖案M1與第2圖案M2之間的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m位于照明區(qū)域I1～I(xiàn)5內(nèi)。在光罩平臺(tái)移動(dòng)的同時(shí)，藉由使平板平臺(tái)移動(dòng)規(guī)定量，而將平板平臺(tái)配置于空間像計(jì)測(cè)裝置24可計(jì)測(cè)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的空間像的位置處。繼而，使光罩平臺(tái)在X方向(掃描方向)上步進(jìn)移動(dòng)規(guī)定量，并反復(fù)此步進(jìn)移動(dòng)操作，藉此，依次計(jì)測(cè)形成于第1圖案M1與第2圖案M2之間的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的空間像。根據(jù)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的計(jì)測(cè)結(jié)果，計(jì)算出光罩M的變形量。
于該實(shí)施形態(tài)中，可以于光罩M上的第1圖案M1與第2圖案M2之間設(shè)有位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m，并由空間像計(jì)測(cè)裝置24來(lái)計(jì)測(cè)上述位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m，因此可高精度地檢測(cè)出整個(gè)光罩M上的變形。作為變形，包含載置于光罩平臺(tái)上時(shí)的扭曲或由熱所引起的伸縮。而且，一般而言，于第1圖案M1及第2圖案M2同時(shí)繪制有位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的光罩的情形時(shí)，藉由測(cè)定形成于第1圖案M1與第2圖案M2之間的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m，可檢測(cè)出第1圖案M1的區(qū)域內(nèi)的繪制誤差、或第2圖案M2的區(qū)域內(nèi)的繪制誤差。進(jìn)而，藉由利用該信息而設(shè)于投影光學(xué)單元PL1～PL5中的調(diào)整機(jī)構(gòu)，可進(jìn)行放大像的位置修正、倍率等的調(diào)整。
其次，為檢測(cè)分別由投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的第1圖案M1的影像的相對(duì)的位置偏移(連接誤差)，使用空間像計(jì)測(cè)裝置24來(lái)計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像(步驟S13)。首先，使光罩平臺(tái)(光罩M)相對(duì)于投影光學(xué)單元PL1～PL5移動(dòng)，以使第1圖案M1與投影光學(xué)單元PL1～PL5相對(duì)向。具體而言，使光罩平臺(tái)在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)規(guī)定量，以使照明光學(xué)系統(tǒng)IL照亮第1圖案M1，亦即，使第1圖案M1位于照明區(qū)域I1～I(xiàn)5。在光罩平臺(tái)移動(dòng)的同時(shí)，藉由使平板平臺(tái)移動(dòng)規(guī)定量，而將平板平臺(tái)配置于空間像計(jì)測(cè)裝置24可計(jì)測(cè)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像的位置上。繼而，計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像。根據(jù)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的計(jì)測(cè)結(jié)果，計(jì)算出分別由投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的第1圖案M1的影像的相對(duì)的位置偏移(連接誤差)量。
其次，根據(jù)步驟S13中所計(jì)算出的分別由投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的第1圖案M1的影像的相對(duì)的位置偏移量，對(duì)各投影光學(xué)單元PL1～PL5進(jìn)行調(diào)整(步驟S14)。亦即，根據(jù)相對(duì)的位置偏移量，計(jì)算出各投影光學(xué)單元PL1～PL5所具備的調(diào)整機(jī)構(gòu)的修正量。繼而，根據(jù)計(jì)算出的調(diào)整機(jī)構(gòu)的修正量，驅(qū)動(dòng)各投影光學(xué)單元PL1～PL5的調(diào)整機(jī)構(gòu)，調(diào)整由各投影光學(xué)單元PL1～PL5所投影的影像的位置。
其次，根據(jù)步驟S12中所計(jì)算出的基于光罩M的變形量的各投影光學(xué)單元PL1～PL5所具備的調(diào)整機(jī)構(gòu)的修正量，一面驅(qū)動(dòng)各投影光學(xué)單元PL1～PL5的調(diào)整機(jī)構(gòu)，一面進(jìn)行第1圖案M1的曝光(步驟S15)。亦即，將非連續(xù)地配置于Y方向(規(guī)定方向)上的第1圖案M1的放大像，經(jīng)過(guò)投影光學(xué)單元PL1～PL5而投影曝光至平板P上，并且使光罩平臺(tái)(光罩M)及平板平臺(tái)(平板P)與投影光學(xué)單元PL1～PL5在X方向(與規(guī)定方向交叉的方向)上進(jìn)行相對(duì)的掃描而進(jìn)行掃描曝光。
此時(shí)，由于投影光學(xué)單元PL1～PL5具有放大倍率，故光罩平臺(tái)以及平板平臺(tái)以投影光學(xué)單元PL1～PL5的投影倍率之比在X方向上受到掃描。亦即，于該實(shí)施形態(tài)中，由于投影光學(xué)單元PL1～PL5的投影倍率為2.4倍，故平板平臺(tái)的掃描速度為光罩平臺(tái)的掃描速度的2.4倍。而且，如圖3所示，使第1圖案M1的放大像P1～P5投影曝光至平板P上，且是隨著重復(fù)曝光的區(qū)域P11～P14而連續(xù)形成的。
其次，于步驟S10中，根據(jù)所輸入的曝光信息，選擇第1圖案M1或第2圖案M2(步驟S16)。于該實(shí)施形態(tài)中，選擇的是第2圖案M2。
其次，為檢測(cè)分別由投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的第2圖案M2的影像的相對(duì)的位置偏移(連接誤差)，使用空間像計(jì)測(cè)裝置24來(lái)計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像(步驟S17)。首先，使光罩平臺(tái)(光罩M)與投影光學(xué)單元PL1～PL5相對(duì)地移動(dòng)，以使第2圖案M2與投影光學(xué)單元PL1～PL5相對(duì)向。具體而言，使光罩平臺(tái)在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)規(guī)定量，以使照明光學(xué)系統(tǒng)IL照亮第2圖案M2，亦即，使第2圖案M2位于照明區(qū)域I1～I(xiàn)5中。在光罩平臺(tái)移動(dòng)的同時(shí)，使平板平臺(tái)移動(dòng)規(guī)定量，藉此將平板平臺(tái)配置于空間像計(jì)測(cè)裝置24可計(jì)測(cè)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像的位置處。繼而，計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像。根據(jù)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的計(jì)測(cè)結(jié)果，計(jì)算出分別由投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的第2圖案M2的影像的相對(duì)的位置偏移(連接誤差)量。
其次，根據(jù)步驟S17中所計(jì)算出的分別由投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的第2圖案M2的影像的相對(duì)的位置偏移量，對(duì)各投影光學(xué)單元PL1～PL5進(jìn)行調(diào)整(步驟S18)。亦即，根據(jù)相對(duì)的位置偏移量，計(jì)算出各投影光學(xué)單元PL1～PL5所具備的調(diào)整機(jī)構(gòu)的修正量，根據(jù)所計(jì)算出的調(diào)整機(jī)構(gòu)的修正量，驅(qū)動(dòng)各投影光學(xué)單元PL1～PL5的調(diào)整機(jī)構(gòu)，調(diào)整由各投影光學(xué)單元PL1～PL5所投影的影像的位置。
其次，進(jìn)行第2圖案M2的曝光(步驟S19)。繼而，根據(jù)步驟S12中所計(jì)算出的基于光罩M的變形量的各投影光學(xué)單元PL1～PL5所具備的調(diào)整機(jī)構(gòu)的修正量，一面驅(qū)動(dòng)各投影光學(xué)單元PL1～PL5的調(diào)整機(jī)構(gòu)，一面進(jìn)行第2圖案M2的曝光。亦即，將于Y方向(規(guī)定方向)上非連續(xù)地配置的第2圖案M2的放大像，經(jīng)過(guò)投影光學(xué)單元PL1～PL5后投影曝光至平板P上，并且使光罩平臺(tái)(光罩M)及平板平臺(tái)(平板P)與投影光學(xué)單元PL1～PL5在X方向(與規(guī)定方向交叉的方向)上進(jìn)行相對(duì)的掃描而進(jìn)行掃描曝光。
與步驟S15中的第1圖案M1的曝光同樣，光罩平臺(tái)以及平板平臺(tái)以投影光學(xué)單元PL1～PL5的投影倍率之比在X方向上受到掃描，使第2圖案M2的放大像P1～P5投影曝光至平板P上，且使其隨著重復(fù)曝光的區(qū)域P11～P14而連續(xù)形成。
另外，于步驟S13及步驟S17中，計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的空間像，但亦可計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)及+X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0、m1的空間像。此時(shí)，使用該計(jì)測(cè)結(jié)果，于曝光前或曝光時(shí)藉由驅(qū)動(dòng)各投影光學(xué)單元PL1～PL5的調(diào)整機(jī)構(gòu)來(lái)修正由各投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的影像的相對(duì)的位置偏移量。與僅計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0的情形相比較，由于計(jì)測(cè)形成于光罩M上的-X方向側(cè)及+X方向側(cè)的兩側(cè)的位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m0、m1，故可更高精度地計(jì)測(cè)由各投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的影像的相對(duì)的位置偏移。
另外，于該實(shí)施形態(tài)中，以形成有用以投影曝光至同一平板P上的不同曝光區(qū)域的第1圖案M1及第2圖案M2的光罩M為例進(jìn)行了說(shuō)明，但亦可于光罩M上形成用以投影曝光至不同平板上的不同的圖案作為第1圖案M1及第2圖案M2。而且，亦可于光罩M上形成第1層圖案作為第1圖案M1，形成第2層圖案作為第2圖案M2。上述情形下，可減少光罩的更換，高效地進(jìn)行曝光。
根據(jù)該實(shí)施形態(tài)的曝光裝置及曝光方法，可經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)單元PL1～PL5，而將設(shè)于光罩M上的圖案的放大像投影曝光至平板P上，故可防止光罩M相對(duì)于平板P的大型化。而且，由于具備以對(duì)應(yīng)于多個(gè)投影光學(xué)單元PL1～PL5的放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案M1、以及至少一部分設(shè)于第1圖案M1之間的第2圖案M2或位置檢測(cè)用標(biāo)記m，并將第1圖案M1或第2圖案M2的放大像投影曝光至平板P上，故可提高光罩M的利用效率。
例如，對(duì)于通常的液晶裝置的曝光中，如圖5所示般使8張?jiān)D案曝光于平板P上的情形、如圖6所示般使6張?jiān)D案曝光于平板P上的情形進(jìn)行說(shuō)明。通常，經(jīng)過(guò)4～5層(layer)的濺鍍、光阻劑涂布、曝光、顯影、蝕刻的步驟而生成液晶面板。此處，設(shè)有5層時(shí)，必需5片光罩(光罩)。而且，圖5所示的8張圖案、圖6所示的6張圖案分別需要5片光罩，故合計(jì)必需10片光罩。光罩的成本高，制造10片光罩在成本方面負(fù)擔(dān)較大。
此處，如該實(shí)施形態(tài)的曝光裝置一般，將投影光學(xué)系統(tǒng)PL的投影倍率設(shè)為2倍或2倍以上。繼而，例如，如圖2所示，于光罩M的第1圖案M1的區(qū)域上繪制8張曝光步驟用圖案，于第2圖案M2的區(qū)域上繪制6張曝光步驟用圖案，藉此，8張、6張這2個(gè)曝光步驟中所必需的光罩片數(shù)為5片，也就是說(shuō)，可使之為先前的光罩片數(shù)的1/2。
而且，通常為8張的情形時(shí)藉由進(jìn)行4次掃描(4次scan)而進(jìn)行曝光，于6張的情形時(shí)藉由進(jìn)行6次掃描(6次scan)而進(jìn)行曝光。進(jìn)行6次掃描的6張圖案區(qū)域(1張的區(qū)域)小于進(jìn)行4次掃描的8張圖案區(qū)域(圖5的斜線(xiàn)部)。因此，如圖7所示，分成光罩M的第1圖案M1的區(qū)域與第2圖案M2的區(qū)域，將非連續(xù)地配置的3個(gè)第1圖案M1作為6張用圖案，將非連續(xù)地配置的4個(gè)第2圖案M2作為8張用圖案。此時(shí)，于平板P上，如圖8所示使第1圖案M1曝光，如圖9所示使第2圖案M2曝光，故可于1片光罩上形成不同大小的6張圖案區(qū)域以及8張圖案區(qū)域，從而可提高光罩的圖案區(qū)域的使用效率。
而且，例如，于先前的6張圖案的裝置中，于光罩上繪制相當(dāng)于1張的區(qū)域的圖案，而將圖6中以虛線(xiàn)所示的區(qū)域A的圖案繪制于光罩M上作為第1圖案M1，將圖6中以一點(diǎn)鎖線(xiàn)所示的區(qū)域B的圖案繪制于光罩M上作為第2圖案M2。于平板P上，進(jìn)行連續(xù)曝光以合成區(qū)域A與區(qū)域B，藉此無(wú)需進(jìn)行6次掃描，以4次掃描即可完成曝光，從而可提高處理量(throughput)。
以下，對(duì)此時(shí)的曝光動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。首先，將光罩M的第1圖案M1曝光于平板P的區(qū)域A(參閱圖6)上，使平板平臺(tái)(平板P)在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)規(guī)定量。此時(shí)，藉由使光罩平臺(tái)(光罩M)在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)規(guī)定量，而自第1圖案M1切換至第2圖案M2。繼而，將第2圖案M2曝光于平板P的虛線(xiàn)內(nèi)的區(qū)域C(參閱圖6)上。同樣，將第1圖案M1曝光于區(qū)域D(參閱圖6)上，將第2圖案M2曝光于區(qū)域B(參閱圖6)上。于使平板平臺(tái)(平板P)在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)的期間，可使光罩平臺(tái)(光罩M)步進(jìn)移動(dòng)，以此來(lái)切換第1圖案M1與第2圖案M2，故不會(huì)導(dǎo)致處理的延遲，而可進(jìn)行4次掃描曝光。
另外，于該實(shí)施形態(tài)中，以步進(jìn)掃描方式的曝光裝置為例進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明亦可適用于步進(jìn)-重復(fù)方式的曝光裝置、往復(fù)曝光方式的曝光裝置中。于步進(jìn)-重復(fù)方式的曝光裝置中，例如，如圖10所示，于光罩M′上形成第1圖案M3及第2圖案M4。繼而，例如，如圖11所示，將所選擇的第1圖案M3或第2圖案M4的放大像分別投影曝光至平板P′上的區(qū)域P3上。
而且，于該實(shí)施形態(tài)中，于1片光罩M上設(shè)有第1圖案M1及第2圖案M2，但是亦可以將第1圖案以及第2圖案劃分設(shè)置于分散配置的多個(gè)光罩上，并將上述多個(gè)光罩支持于光罩平臺(tái)上。亦即，如圖12所示，例如，將3片光罩M5、M6、M7排列配置于光罩平臺(tái)上。第1圖案M8分散配置于光罩M5、M6、M7上，且形成于各光罩M5、M6、M7上的第1圖案M8分別藉由投影光學(xué)單元PL1～PL5中的至少1個(gè)而進(jìn)行放大投影曝光。同樣，第2圖案M9亦分散地配置于光罩M5、M6、M7上，且形成于各光罩M5、M6、M7上的第2圖案M9分別藉由投影光學(xué)單元PL1～PL5中的至少1個(gè)而進(jìn)行放大投影曝光。此時(shí)，由于可防止光罩的大型化，故可抑制光罩的成本。
而且，于該實(shí)施形態(tài)中，以形成有第1圖案M1、第2圖案M2及位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m、m0、m1的光罩M為例進(jìn)行了說(shuō)明，但如圖13所示，亦可使用形成有第1圖案M1及位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的光罩M10。此時(shí)，由于一部分位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m形成于第1圖案M1之間，故亦可高精度地檢測(cè)光罩M10的變形。
而且，于該實(shí)施形態(tài)中，藉由使光罩M在Y方向上步進(jìn)移動(dòng)而切換第1圖案M1與第2圖案M2，但亦可不使光罩M(光罩平臺(tái))步進(jìn)移動(dòng)，而使光罩M以可旋轉(zhuǎn)180度的方式搭載從而來(lái)切換第1圖案M1與第2圖案M2。而且，藉由預(yù)先挪動(dòng)將光罩載置于光罩平臺(tái)上的位置，亦可進(jìn)行第1圖案M1與第2圖案M2的切換。
而且，于使2個(gè)光罩圖案重迭曝光于同一平板上、從而經(jīng)由進(jìn)行2重曝光來(lái)提高圖案的解像力的技術(shù)中，將圖案劃分并繪制于1個(gè)光罩上，并使所劃分的圖案2重曝光于同一平板上，藉此，僅以1個(gè)光罩即可提高圖案的解像力。
而且，于該實(shí)施形態(tài)中，于平板平臺(tái)PS上具備空間像計(jì)測(cè)裝置24，但亦可將用以計(jì)測(cè)位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m、m0、m1的至少1個(gè)計(jì)測(cè)系統(tǒng)設(shè)置于光罩平臺(tái)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL側(cè)、或者光罩平臺(tái)的照明光學(xué)系統(tǒng)IL側(cè)。計(jì)測(cè)系統(tǒng)可分別與投影光學(xué)單元PL1～PL5相對(duì)應(yīng)而設(shè)，或者亦可針對(duì)2個(gè)或2個(gè)以上的投影光學(xué)單元而設(shè)置1個(gè)計(jì)測(cè)系統(tǒng)。此時(shí)，于掃描曝光中，實(shí)時(shí)地預(yù)知位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記m的位置并進(jìn)行計(jì)測(cè)，實(shí)時(shí)地驅(qū)動(dòng)各投影光學(xué)單元PL1～PL5的調(diào)整機(jī)構(gòu)，藉此可調(diào)整像位置，故無(wú)須于曝光前計(jì)測(cè)光罩M的變形、以及由各投影光學(xué)單元PL1～PL5所形成的影像的相對(duì)的位置偏移，從而可提高處理量。
而且，于該實(shí)施形態(tài)中，表示了第1圖案M1由投影光學(xué)系統(tǒng)PL合成并對(duì)1個(gè)圖案進(jìn)行曝光的情況，亦可設(shè)計(jì)第1圖案，以使所合成的圖案成為2個(gè)圖案。另外，當(dāng)然，此時(shí)2個(gè)圖案分離的部分無(wú)須作為疊印(overlap)部分而重復(fù)曝光。
而且，當(dāng)于第1圖案區(qū)域中設(shè)置作為第1圖案的元件圖案，而于第2圖案區(qū)域中僅設(shè)置位置計(jì)測(cè)用標(biāo)記時(shí)，可使第1圖案區(qū)域的各圖案的間距與投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率小于2.4倍，可設(shè)定1.1～1.2倍或1.1～1.2倍以上的倍率。
而且，當(dāng)然，于對(duì)圖案區(qū)域進(jìn)行劃分，于光罩上設(shè)置有第1圖案區(qū)域、第2圖案區(qū)域、第3圖案區(qū)域時(shí)，投影光學(xué)系統(tǒng)的倍率必然成為大于3倍的3.3～3.6倍或3.3～3.6倍以上的倍率。
其次，參閱圖14～圖29，對(duì)本發(fā)明的其它實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。首先，對(duì)當(dāng)投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5為正立系的光學(xué)系統(tǒng)時(shí)所使用的正立像用光罩進(jìn)行說(shuō)明。如圖14所示，光罩M具備奇數(shù)列圖案區(qū)域M1(此處為5個(gè)圖案區(qū)域)、及偶數(shù)列圖案區(qū)域M2(此處為5個(gè)圖案區(qū)域)。此處，奇數(shù)列圖案區(qū)域M1是指，例如，如同圖所示般，于非掃描方向(Y方向)上自上方開(kāi)始計(jì)數(shù)的第奇數(shù)個(gè)，即第1個(gè)、第3個(gè)、第5個(gè)、第7個(gè)、第9個(gè)圖案區(qū)域，偶數(shù)列圖案是指，同樣于非掃描方向(Y方向)上自上方開(kāi)始計(jì)數(shù)的第偶數(shù)個(gè)，即第2個(gè)、第4個(gè)、第6個(gè)、第8個(gè)、第10個(gè)圖案區(qū)域。
于奇數(shù)列圖案區(qū)域M1的相鄰接的至少一對(duì)端部、或者偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的相鄰接的至少一對(duì)端部上，形成有具備相同圖案的共通區(qū)域。此處，共通區(qū)域分別形成于相鄰接的一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1或者相鄰接的一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的相鄰接的一側(cè)。例如，如圖14所示，分別形成有共通區(qū)域opa、opb、opc、opd、ope、opf、opg、oph。而且，偶數(shù)列圖案區(qū)域M2中的至少一部分，配置于相鄰接的至少一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1之間。由于其它部分與圖2大致相同，故省略其說(shuō)明。
其次，對(duì)當(dāng)投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5為倒立系的光學(xué)系統(tǒng)時(shí)所使用的倒立像用光罩進(jìn)行說(shuō)明。如圖15所示，光罩M與圖14同樣，具備奇數(shù)列圖案區(qū)域M1(此處為5個(gè)圖案區(qū)域)、及偶數(shù)列圖案區(qū)域M2(此處為5個(gè)圖案區(qū)域)。此處，奇數(shù)列圖案區(qū)域是指，例如，如同圖所示，于非掃描方向(Y方向)上自上方開(kāi)始計(jì)數(shù)的第奇數(shù)個(gè)，即第1個(gè)、第3個(gè)、第5個(gè)、第7個(gè)、第9個(gè)圖案區(qū)域，偶數(shù)列圖案是指，同樣于非掃描方向(Y方向)上自上方開(kāi)始計(jì)數(shù)的第偶數(shù)個(gè)，即第2個(gè)、第4個(gè)、第6個(gè)、第8個(gè)、第10個(gè)圖案區(qū)域。
于奇數(shù)列圖案區(qū)域M1的相鄰接的至少一對(duì)端部、或者偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的相鄰接的至少一對(duì)端部上，形成有具備相同圖案的共通區(qū)域。此處，共通區(qū)域分別形成于相鄰接的一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1或者相鄰接的一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的相反側(cè)(與相鄰接的一側(cè)相反的一側(cè))。例如，如圖15所示，分別形成有共通區(qū)域opa、opb、opc、opd、ope、opf、opg、oph。而且，偶數(shù)列圖案區(qū)域M2中的至少一部分配置于相鄰接的至少一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1之間。由于其它部分與圖2大致相同，因此省略其說(shuō)明。
另外，奇數(shù)列圖案區(qū)域M1與偶數(shù)列圖案區(qū)域M2亦可構(gòu)成為分別具有1個(gè)圖案區(qū)域。
于上述正立像的光罩以及倒立像的光罩的說(shuō)明中，所謂鄰接，無(wú)須使奇數(shù)列圖案區(qū)域M1與偶數(shù)列圖案區(qū)域M2相接，亦可為隔開(kāi)規(guī)定的距離。于相鄰接的一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1或者相鄰接的一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域M2中，以至少一對(duì)共通區(qū)域opa、opb、opc、opd、ope、opf、opg、oph互相重迭而形成1個(gè)目標(biāo)圖案的方式，使共通區(qū)域的全部或一部分重迭而轉(zhuǎn)印曝光。另外，一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1與一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域M2，亦可為使相鄰接的至少一對(duì)共通區(qū)域相互重迭而形成1個(gè)目標(biāo)圖案的圖案，而無(wú)須使形成于一對(duì)共通區(qū)域上的圖案完全相同。例如，一對(duì)共通區(qū)域中，奇數(shù)列圖案區(qū)域M1的共通區(qū)域中的任一個(gè)、或者偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的共通區(qū)域中的任一個(gè)，亦可具有完全不使用的多余圖案。
而且，光罩M的圖案在非掃描方向(Y方向)上的奇數(shù)列圖案區(qū)域M1及偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的寬度并無(wú)特別限定，亦可設(shè)為35mm～175mm。
圖16表示使用圖14或圖15所示的光罩M的奇數(shù)列圖案區(qū)域M1，將圖案曝光轉(zhuǎn)印至平板P上的情形，圖17表示使用圖14或圖15所示的光罩M的偶數(shù)列圖案區(qū)域M2，將圖案曝光轉(zhuǎn)印至平板P上的情形。如圖16或圖17所示，曝光區(qū)域R1～R5由寬度Sr的部分及寬度Tr的部分構(gòu)成，于平板P上，各寬度Tr的部分成為相鄰接的曝光區(qū)域彼此的共通區(qū)域。于該實(shí)施形態(tài)中，曝光區(qū)域R1～R5在非掃描方向Y上的寬度，由將圖14以及圖15所示的寬度Si的部分及寬度Ti的部分乘以投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5的倍率后而獲得的寬度Sr的部分以及寬度Tr的部分所構(gòu)成，將曝光區(qū)域R1～R5在非掃描方向Y上的寬度平均化后而獲得的有效曝光寬度為(Tr+Sr)，其與曝光區(qū)域R1～R5的間距間隔Lr相等。即，當(dāng)曝光區(qū)域R1～R5的間距間隔Lr與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5在非掃描方向Y上的排列間距相等時(shí)，若規(guī)定曝光區(qū)域R1～R5的間距間隔Lr與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5的倍率，則可求得光罩M的圖案M1、M2的圖案間距Lm。
因此，雖無(wú)特別限定，但例如，將本實(shí)施形態(tài)的投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5的放大倍率設(shè)為2倍，將有效曝光寬度設(shè)為350mm時(shí)，圖案間距Lm為175mm。此處，由于曝光區(qū)域R1～R5的間距間隔Lr與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5在非掃描方向Y上的排列間距相等，因此，本實(shí)施形態(tài)的圖案間距Lm的最小間距亦與投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5在非掃描方向Y上的排列間距相關(guān)?？紤]到保持投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5的固持器(holder)的厚度等，于非掃描方向Y上，例如若將投影光學(xué)系統(tǒng)彼此不接觸的寬度設(shè)為70mm，將投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5的放大倍率設(shè)為2倍，則圖案間距Lm為35mm。
另一方面，非掃描方向Y上的共通區(qū)域的寬度并無(wú)特別限定，但可設(shè)為可目測(cè)的寬度，亦可設(shè)為圖案間距Lm的2成或2成以下。因此，例如若將本實(shí)施形態(tài)的圖案間距Lm設(shè)為175mm，則共通區(qū)域的寬度可設(shè)為1mm～35mm。
而且，于本實(shí)施形態(tài)的光罩M中，為了防止因形成于光罩上的周邊或一部分上的多余圖案的曝光、或因自平板P泄漏的光而導(dǎo)致的誤曝光等，例如，亦可利用遮光薄板等，于奇數(shù)列圖案區(qū)域M1與偶數(shù)列圖案區(qū)域M2以及共通區(qū)域的周邊或一部分上形成遮光帶。
而且，如圖18所示，光罩M具備:多個(gè)第1位置檢測(cè)用標(biāo)記m11，相對(duì)于奇數(shù)列圖案區(qū)域M1而以規(guī)定的位置關(guān)系所形成；以及多個(gè)第2位置檢測(cè)用標(biāo)記m21，相對(duì)于偶數(shù)列圖案區(qū)域M2而以規(guī)定的位置關(guān)系所形成。此處，第1位置檢測(cè)用標(biāo)記m11與第2位置檢測(cè)用標(biāo)記m21，是用以將光罩M定位于裝置上的定位標(biāo)記、或者用以對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5進(jìn)行配置調(diào)整的定位標(biāo)記。另外，第1位置檢測(cè)用標(biāo)記m11與第2位置檢測(cè)用標(biāo)記m21，亦可為用以檢測(cè)整個(gè)光罩M上的變形的定位標(biāo)記、用以檢測(cè)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1的繪制誤差或偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的繪制誤差的定位標(biāo)記、用以檢測(cè)分別由投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5所形成的奇數(shù)列圖案區(qū)域M1或者偶數(shù)列圖案區(qū)域M2的影像的相對(duì)的位置偏移(連接誤差)的定位標(biāo)記等。于圖18中，多個(gè)第1位置檢測(cè)用標(biāo)記m11在沿掃描方向X的方向上，配置于相對(duì)于多個(gè)奇數(shù)列圖案區(qū)域M1而隔開(kāi)規(guī)定距離(作為一列，與非掃描方向Y上自上方開(kāi)始的第1個(gè)奇數(shù)列圖案M1的距離為Y11)的位置上，多個(gè)第2位置檢測(cè)用標(biāo)記m21在沿掃描方向X的方向上，配置于相對(duì)于偶數(shù)列圖案區(qū)域M2而隔開(kāi)規(guī)定距離(作為一列，與非掃描方向Y上自上開(kāi)始的第2個(gè)偶數(shù)列圖案M2的距離為Y21)的位置上。
另外，于該圖18中，pm是表示各圖案區(qū)域M1、M2的非掃描方向Y上的中心的標(biāo)記。而且，第1位置檢測(cè)用標(biāo)記m11以及第2位置檢測(cè)用標(biāo)記m21的位置并無(wú)特別限定，但如圖18所示，可配置于非掃描方向Y的兩端部(于圖18中為上側(cè)端部及下側(cè)端部)。然而，上述第1位置檢測(cè)用標(biāo)記m11及第2位置檢測(cè)用標(biāo)記m21亦可配置于圖案區(qū)域M1、M2之間的部分或其它部分上。
以下，參照?qǐng)D19所示的流程圖，對(duì)上述正立像用光罩M的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。該制造方法大致由圖案資料采集步驟S1、圖案資料劃分步驟(第1步驟、第2步驟)S2、共通區(qū)域附加步驟(第3步驟)S3、圖案資料生成步驟(第3步驟)S4、及圖案繪制步驟(第4步驟)S5構(gòu)成。
首先，于圖案資料采集步驟S1中，獲取與應(yīng)曝光轉(zhuǎn)印至平板P上的一層上的元件圖案相對(duì)應(yīng)的第1圖案資料，并且獲取與應(yīng)曝光轉(zhuǎn)印至平板P上的其它層上的元件圖案相對(duì)應(yīng)的第2圖案資料。此處，于曝光轉(zhuǎn)印至同一平板P上的不同曝光區(qū)域的情形時(shí)，第1圖案資料與第2圖案資料亦可為與形成在各曝光區(qū)域上的元件圖案相對(duì)應(yīng)的第1及第2圖案資料，而于曝光轉(zhuǎn)印至不同的平板P上的情形時(shí)，第1圖案資料與第2圖案資料亦可為與形成于各平板P上的元件圖案相對(duì)應(yīng)的第1及第2圖案資料。上述圖案資料是以投影光學(xué)系統(tǒng)PL1～PL5的投影倍率的倒數(shù)縮小的資料。其次，于圖案資料劃分步驟S2中，如圖20及圖21所示，分別劃分第1圖案資料PD1及第2圖案資料PD2，生成第1劃分資料群a1、b1、c1以及第2劃分資料群a2、b2、c2。此處，第1圖案群資料a1、b1、c1是應(yīng)形成于光罩M上的奇數(shù)列圖案區(qū)域M1上的圖案，第2劃分資料群a2、b2、c2是應(yīng)形成于光罩M上的偶數(shù)列圖案區(qū)域M2上的圖案。
當(dāng)圖案資料劃分步驟S2中的圖案劃分完成時(shí)，于共通區(qū)域附加步驟S3中，如圖22及圖23所示，于至少一對(duì)第1劃分資料群或至少一對(duì)第2劃分資料群的端部，附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料，繼而，于圖案資料生成步驟S4中，制作與形成于光罩上的全部圖案相對(duì)應(yīng)的奇數(shù)列圖案繪制資料及偶數(shù)列圖案繪制資料。
對(duì)于第1劃分資料群而附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料時(shí)，如圖22所示，藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第1劃分資料A1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1側(cè)的端部)的部分opa的資料，附加于第1劃分資料B1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料A1側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第1劃分資料B1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料C1側(cè)的端部)的部分opc的資料，附加于第1劃分資料C1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1側(cè)的端部)。但是，亦可藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第1劃分資料B1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料A1側(cè)的端部)的部分opa的資料，附加于第1劃分資料A1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第1劃分資料C1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1側(cè)的端部)的部分opc的資料，附加于第1劃分資料B1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料C1側(cè)的端部)。
而且，對(duì)于第2劃分資料群而附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料時(shí)，如圖23所示，藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第2劃分資料A2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2側(cè)的端部)的部分opb的資料，附加于第2劃分資料B2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料A2側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第2劃分資料B2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料C2側(cè)的端部)的部分opd的資料，附加于第2劃分資料C2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2側(cè)的端部)。但是，亦可藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第2劃分資料B2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料A2側(cè)的端部)的部分opb的資料，附加于第2劃分資料A2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第2劃分資料C2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2側(cè)的端部)的部分opd的資料，附加于第2劃分資料B2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料C2側(cè)的端部)。
當(dāng)奇數(shù)列圖案繪制資料與偶數(shù)列圖案繪制資料的制作完成時(shí)，于圖案繪制步驟S5中，按照上述資料，使用EB曝光裝置等，將整個(gè)圖案繪制于光罩基板(blanks)上，藉此制造出光罩M。此時(shí)，如圖24所示交替繪制有第1劃分資料群A1、B1、C1以及第2劃分資料群A2、B2、C2。
倒立像用光罩M的制造方法中，圖案資料采集步驟S1、圖案資料劃分步驟S2、圖案生成步驟S4、以及圖案繪制步驟S5均與上述相同，但共通區(qū)域附加步驟S3中對(duì)于與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料的附加處理不同。
亦即，當(dāng)圖案資料劃分步驟S2的圖案劃分完成時(shí)，如圖25及圖26所示，于至少一對(duì)第1劃分資料群或至少一對(duì)第2劃分資料群的端部，附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料。
對(duì)于第1劃分資料群而附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料時(shí)，如圖25所示，藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第1劃分資料A1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1的相反側(cè)的端部)的部分opa的資料，附加于第1劃分資料B1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料A1的相反側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第1劃分資料B1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料C1的相反側(cè)的端部)的部分opc的資料，附加于第1劃分資料C1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1的相反側(cè)的端部)。但是，亦可藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第1劃分資料B1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料A1的相反側(cè)的端部)的部分opa的資料，附加于第1劃分資料A1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1的相反側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第1劃分資料C1的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料B1的相反側(cè)的端部)的部分opc的資料，附加于第1劃分資料B1相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第1劃分資料C1的相反側(cè)的端部)。
而且，對(duì)于第2劃分資料群而附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料時(shí)，如圖26所示，藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第2劃分資料A2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2的相反側(cè)的端部)的部分opb的資料，附加于第2劃分資料B2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料A2的相反側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第2劃分資料B2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料C2的相反側(cè)的端部)的部分opd的資料，附加于第2劃分資料C2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2的相反側(cè)的端部)。但是，亦可藉由如下方式而進(jìn)行:將相當(dāng)于第2劃分資料B2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料A2的相反側(cè)的端部)的部分opb的資料，附加于第2劃分資料A2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2的相反側(cè)的端部)，將相當(dāng)于第2劃分資料C2的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料B2的相反側(cè)的端部)的部分opd的資料，附加于第2劃分資料B2相應(yīng)的端部(此處為相鄰接的第2劃分資料C2的相反側(cè)的端部)。
當(dāng)藉由圖案資料生成步驟S4而完成奇數(shù)列圖案繪制資料與偶數(shù)列圖案繪制資料的制作時(shí)，于圖案繪制步驟S5中，根據(jù)上述資料，使用EB曝光裝置等，將整個(gè)圖案繪制于光罩基板(blanks)上，藉此制造出光罩M。此時(shí)，如圖27所示交替繪制有第1劃分資料群A1、B1、C1及第2劃分資料群A2、B2、C2。
另外，于上述圖案資料劃分步驟S2中，對(duì)與元件圖案相對(duì)應(yīng)的圖案進(jìn)行劃分，于其后實(shí)施共通區(qū)域附加步驟S3，但亦可對(duì)與在至少一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域中具有共通區(qū)域的全部奇數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，以生成第1劃分資料群(第1步驟)，并且，對(duì)與在至少一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域中具有共通區(qū)域的全部偶數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，以生成第2劃分資料群(第2步驟)，并使用上述第1劃分資料群及第2劃分資料群，將上述全部奇數(shù)列圖案及上述全部偶數(shù)列圖案繪制于光罩M上(第3步驟)。此時(shí)的奇數(shù)列圖案相關(guān)的第1圖案資料PD1如圖28所示，偶數(shù)列圖案相關(guān)的第2圖案資料PD2如圖29所示。于上述圖中，opa、opb、opc、opd為共通區(qū)域。
以上所說(shuō)明的實(shí)施形態(tài)地目的在于使讀者容易理解本發(fā)明，并非為了限定本發(fā)明。因此，上述實(shí)施形態(tài)中所揭示的各要素亦包含屬于本發(fā)明的技術(shù)性范圍內(nèi)的所有設(shè)計(jì)變更或其等價(jià)物。而且，亦可對(duì)上述實(shí)施形態(tài)的各構(gòu)成要素等進(jìn)行任意組合等。
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉本專(zhuān)業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)來(lái)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種曝光方法，是分別經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，將設(shè)于第1物體上的圖案投影曝光于第2物體上的曝光方法，其特征在于其包括以下步驟:
將具有以對(duì)應(yīng)于上述放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域、以及至少一部分設(shè)于上述第1圖案區(qū)域之間的第2圖案區(qū)域的上述第1物體，配置于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的第1面?zhèn)?；以?br> 使上述第1圖案區(qū)域及上述第2圖案區(qū)域中的上述第1圖案區(qū)域的放大像，分別經(jīng)由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)而投影曝光至配置于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的第2面?zhèn)鹊纳鲜龅?物體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于其中所述的第1圖案區(qū)域是具有元件圖案的區(qū)域，上述第2圖案區(qū)域具有位置檢測(cè)用的圖案，用于檢測(cè)上述第1物體的變形、或者上述第1圖案區(qū)域的圖案繪制誤差。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光方法，其特征在于其中所述的第1圖案區(qū)域是具有第1元件圖案的區(qū)域，上述第2圖案區(qū)域是具有第2元件圖案的區(qū)域，
選擇上述第1圖案區(qū)域與上述第2圖案區(qū)域中的至少一個(gè)，使該所選擇的圖案區(qū)域的放大像經(jīng)由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)而投影曝光至上述第2物體上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光方法，其特征在于其中所述的選擇上述第1圖案區(qū)域與上述第2圖案區(qū)域中的至少一個(gè)時(shí)，使上述第1物體與上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)移動(dòng)，以使上述第1圖案區(qū)域及上述第2圖案區(qū)域中至少一個(gè)與上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)相對(duì)向。
5.根據(jù)權(quán)利要求3至4中任一權(quán)利要求所述的曝光方法，其特征在于其中位于上述第1物體上的上述第1圖案區(qū)域以及上述第2圖案區(qū)域的各個(gè)上述放大像，形成于相同的上述第2物體上。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光方法，其特征在于其中所述的位于上述第1物體上的上述第1圖案區(qū)域以及上述第2圖案區(qū)域的各個(gè)上述放大像，形成于上述第2物體上的不同區(qū)域上，或者形成于至少一部分重復(fù)的區(qū)域上。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至4中任一權(quán)利要求所述的曝光方法，其特征在于其中位于上述第1物體上的上述第1圖案區(qū)域以及上述第2圖案區(qū)域的各個(gè)影像，形成于不同的上述第2物體上。
8.根據(jù)權(quán)利要求3至4中任一權(quán)利要求所述的曝光方法，其特征在于其中投影曝光步驟中，包括輸入用以選擇上述第1物體的上述第1圖案區(qū)域及上述第2圖案區(qū)域的曝光信息的步驟，
于上述投影曝光步驟中，根據(jù)上述曝光信息進(jìn)行投影曝光。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的曝光方法，其特征在于其中所述的投影光學(xué)系統(tǒng)具有大于2倍的投影倍率。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的曝光方法，其特征在于其中非連續(xù)地配置的上述第1圖案區(qū)域的放大像，分別經(jīng)由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，投影曝光至上述第2物體上，以連續(xù)地形成在上述第2物體上。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的曝光方法，其特征在于其中使非連續(xù)地配置于規(guī)定方向上的上述第1圖案區(qū)域的上述放大像，經(jīng)由與該第1圖案區(qū)域相對(duì)應(yīng)的上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)而投影曝光至上述第2物體上，并且使上述第1物體及上述第2物體與上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，在與上述規(guī)定方向交叉的方向上進(jìn)行相對(duì)的掃描以進(jìn)行掃描曝光。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于其中所述的第1物體與上述第2物體，以上述投影光學(xué)系統(tǒng)的投影倍率之比，在與上述規(guī)定方向交叉的方向上分別受到掃描。
13.根據(jù)權(quán)利要求11至12中任一權(quán)利要求所述的曝光方法，其特征在于其中所述的第2物體于上述規(guī)定方向上步進(jìn)移動(dòng)。
14.一種曝光裝置，是分別經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，而將設(shè)于第1物體上的圖案投影曝光至第2物體上的曝光裝置，其特征在于其包括:
第1保持裝置，上述第1保持裝置將具有設(shè)于上述第1物體上且非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域、以及至少一部分設(shè)于上述第1圖案區(qū)域之間的第2圖案區(qū)域的上述第1物體支持于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的第1面上；以及
第2保持裝置，上述第2保持裝置于上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的第2面上保持上述第2物體，以分別經(jīng)由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)而投影上述第1圖案區(qū)域及上述第2圖案區(qū)域中的上述第1圖案區(qū)域的放大像。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的曝光裝置，其特征在于其中所述的第1圖案區(qū)域是具有元件圖案的區(qū)域，上述第2圖案區(qū)域是具有位置檢測(cè)用圖案的區(qū)域，
此曝光裝置具備檢測(cè)上述位置檢測(cè)用圖案的檢測(cè)機(jī)構(gòu)。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的曝光裝置，其特征在于其中所述的第1圖案區(qū)域是具有第1元件圖案的區(qū)域，上述第2圖案區(qū)域是具有第2元件圖案的區(qū)域，
此曝光裝置具備切換機(jī)構(gòu)，該切換機(jī)構(gòu)選擇地切換上述第1圖案區(qū)域與上述第2圖案區(qū)域，以使上述第2圖案區(qū)域的放大像藉由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)而投影至上述第2物體上。
17.根據(jù)權(quán)利要求14至16中任一權(quán)利要求所述的曝光裝置，其特征在于其中所述的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)具有大于2倍的投影倍率。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的曝光裝置，其特征在于其中所述的非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域，劃分設(shè)置于分散配置的多個(gè)光罩上，且上述多個(gè)光罩由上述第1物體支持。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的曝光裝置，其特征在于其中所述的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)具備調(diào)整機(jī)構(gòu)，該調(diào)整機(jī)構(gòu)根據(jù)上述第1圖案區(qū)域的位置信息，調(diào)整上述第2物體上的影像位置。
20.一種光罩，是形成有原案的光罩，該原案是用以使圖案曝光于間隔具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)的感光物體上，其特征在于其包括:
多個(gè)第1圖案區(qū)域，上述多個(gè)第1圖案區(qū)域以對(duì)應(yīng)于上述放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置，且用以分別藉由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)而形成放大像；以及
第2圖案區(qū)域，上述第2圖案區(qū)域至少一部分設(shè)于上述多個(gè)第1圖案區(qū)域之間，且藉由上述多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)中的至少1個(gè)而形成放大像。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的光罩，其特征在于其中形成于上述多個(gè)第1圖案區(qū)域上的圖案，以成為上述感光物體上連續(xù)的圖案的方式而形成。
22.根據(jù)權(quán)利要求20至21中任一權(quán)利要求所述的光罩，其特征在于其中所述的形成于上述多個(gè)第1圖案區(qū)域上的圖案，具備至少一部分重復(fù)的區(qū)域，且以成為上述感光物體上連續(xù)的圖案的方式而形成。
23.一種包括圖案區(qū)域的光罩，上述圖案區(qū)域包含奇數(shù)列圖案區(qū)域及偶數(shù)列圖案區(qū)域，
于上述奇數(shù)列圖案區(qū)域中相鄰接的至少一對(duì)端部、或上述偶數(shù)列圖案區(qū)域中相鄰接的至少一對(duì)端部上，含有具備相同圖案的共通區(qū)域，
上述偶數(shù)列圖案區(qū)域中至少一部分，配置于相鄰接的至少一對(duì)上述奇數(shù)列圖案區(qū)域之間。
24.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光罩，其特征在于其中所述的共通區(qū)域分別形成于一對(duì)上述奇數(shù)列圖案區(qū)域相鄰接的一側(cè)、或者一對(duì)上述偶數(shù)列圖案區(qū)域相鄰接的一側(cè)。
25.根據(jù)權(quán)利要求23所述的光罩，其特征在于其中所述的共通區(qū)域分別形成于一對(duì)上述奇數(shù)列圖案區(qū)域相鄰接的一側(cè)、或者一對(duì)上述偶數(shù)列圖案區(qū)域相鄰接的一側(cè)的相反側(cè)。
26.根據(jù)權(quán)利要求23至25中任一權(quán)利要求所述的光罩，其特征在于其中所述的共通區(qū)域的寬度在1mm～35mm的范圍內(nèi)。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的光罩，其特征在于其中所述的奇數(shù)列圖案區(qū)域以及上述偶數(shù)列圖案區(qū)域的寬度在35mm～175mm的范圍內(nèi)。
28.根據(jù)權(quán)利要求27所述的光罩，其特征在于其中所述的共通區(qū)域與上述圖案區(qū)域的周?chē)哂姓诠鈳А?br> 29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的光罩，其特征在于其包括:
第1位置檢測(cè)用標(biāo)記，與上述奇數(shù)列圖案區(qū)域具有規(guī)定的位置關(guān)系；以及
第2位置檢測(cè)用標(biāo)記，與上述偶數(shù)列圖案區(qū)域具有規(guī)定的位置關(guān)系。
30.一種光罩的制造方法，根據(jù)權(quán)利要求29所述的光罩的制造方法，其特征在于其包括:
第1步驟，對(duì)與上述光罩上的奇數(shù)列圖案區(qū)域中所形成的全部奇數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第1劃分資料群；
第2步驟，對(duì)與上述光罩上的偶數(shù)列圖案區(qū)域中所形成的全部偶數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第2劃分資料群；
第3步驟，于至少一對(duì)上述第1劃分資料群或者至少一對(duì)上述第2劃分資料群的端部，附加與共通區(qū)域相對(duì)應(yīng)的圖案資料，制作與上述光罩上形成的全部圖案相對(duì)應(yīng)的奇數(shù)列圖案繪制資料及偶數(shù)列圖案繪制資料；以及
第4步驟，使用上述奇數(shù)列圖案繪制資料及上述偶數(shù)列圖案繪制資料，于上述光罩上繪制上述全部圖案。
31.一種光罩的制造方法，根據(jù)權(quán)利要求29所述的光罩的制造方法，其特征在于其包括:
第1步驟，對(duì)與至少一對(duì)奇數(shù)列圖案區(qū)域中具有共通區(qū)域的全部奇數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第1劃分資料群；
第2步驟，對(duì)與至少一對(duì)偶數(shù)列圖案區(qū)域中具有共通區(qū)域的全部偶數(shù)列圖案相對(duì)應(yīng)的圖案資料進(jìn)行劃分，生成第2劃分資料群；以及
第3步驟，使用上述第1劃分資料群及上述第2劃分資料群，于上述光罩上繪制上述全部奇數(shù)列圖案及上述全部偶數(shù)列圖案。
全文摘要
本發(fā)明是分別經(jīng)由具有放大倍率的多個(gè)投影光學(xué)系統(tǒng)，將光罩(M)的圖案(M1、M2)投影曝光于基板上的曝光方法，此曝光方法是將具有以對(duì)應(yīng)于上述放大倍率的位置關(guān)系而非連續(xù)地配置的第1圖案區(qū)域(M1)、以及至少一部分設(shè)于第1圖案區(qū)域(M1)之間的第2圖案區(qū)域(M2)的光罩(M)，配置于投影光學(xué)系統(tǒng)的物體面?zhèn)?，使?圖案區(qū)域(M1)與第2圖案區(qū)域(M2)中的其中一個(gè)圖案區(qū)域的放大像分別投影曝光至配置于投影光學(xué)系統(tǒng)的像面?zhèn)鹊幕迳现螅瑢⒘硪粋€(gè)圖案區(qū)域的放大像投影曝光于該基板上。
文檔編號(hào)G03F1/68GK101375372SQ200780003500
公開(kāi)日2009年2月25日 申請(qǐng)日期2007年2月8日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月16日
發(fā)明者加藤正紀(jì) 申請(qǐng)人:株式會(huì)社尼康