專利名稱：復(fù)合微粒、分散液及其制造方法、噴墨記錄體及制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及陽(yáng)離子性顏料和陰離子性化合物的復(fù)合微粒、該復(fù)合微粒的分散液、該分散液的制造方法、以及噴墨記錄體和噴墨記錄體的制造方法。
背景技術(shù)：
從微細(xì)的噴頭噴出墨并在記錄體上形成圖像的噴墨記錄方式，由于記錄時(shí)噪聲小、容易彩色化、可以進(jìn)行高速記錄、以及比其他打印裝置便宜等原因，所以廣泛應(yīng)用于終端用打印機(jī)、傳真機(jī)、繪圖儀、或帳票打印等。
作為噴墨記錄方式所使用的噴墨記錄體，多數(shù)是以利用染料系油墨的打印為對(duì)象。該染料系油墨由于紫外線照射或者與氧、臭氧接觸，而導(dǎo)致染料變色等耐氣候性、褪色性劣化，所以存在打印物經(jīng)過(guò)一段時(shí)間后變色或褪色等缺點(diǎn)。當(dāng)在戶外使用打印物時(shí)，這種問(wèn)題尤其明顯。
因此，在噴墨記錄方式中，也要使用耐氣候性優(yōu)良的顏料系油墨。但是，存在這樣的問(wèn)題由于顏料粒子通常是具有10～500nm粒徑的粒子，用手指等摩擦打印后的記錄部分時(shí)，顏料粒子容易脫落而掉色，即耐摩擦性低。
為解決該使用顏料系油墨時(shí)的耐摩擦性的問(wèn)題，提出了一種將陽(yáng)離子性微粒使用于噴墨記錄體的墨接受層的方案，其中陽(yáng)離子性微粒是在氧化物粒子表面載有陽(yáng)離子性化合物的微粒(專利文獻(xiàn)1)。
專利文獻(xiàn)1日本特開2000-037946號(hào)公報(bào)但是，對(duì)于專利文獻(xiàn)1所述的陽(yáng)離子性微粒，因?yàn)樵谄浞稚⒁褐屑尤腙庪x子性化合物后產(chǎn)生凝聚等，所以與陰離子性化合物一起使用較困難。因此，例如為形成噴墨記錄體的光澤層而使用含有該陽(yáng)離子性微粒的涂布液時(shí)，作為脫模劑只能選擇陽(yáng)離子性脫模劑。這樣一來(lái)，專利文獻(xiàn)1所述的陽(yáng)離子性微粒對(duì)可與其共存使用的成分具有限制。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的目的在于提供可共存成分的選擇范圍寬且通用性高的復(fù)合微粒及其分散液、以及該分散液的制造方法。本發(fā)明的另一目的在于提供一種通過(guò)使用這種復(fù)合微粒而具有高品質(zhì)的噴墨記錄體及噴墨記錄體的制造方法。
為達(dá)成上述目的，本發(fā)明采用以下構(gòu)成。
(1)一種復(fù)合微粒，其特征在于，包括陽(yáng)離子性微粒，分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位為正；以及陰離子性化合物，承載在該陽(yáng)離子性微粒的表面上；并且該復(fù)合微粒分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位為負(fù)。
(2)在(1)記載的復(fù)合微粒中，陰離子性化合物為羧酸系化合物。
(3)在(1)或(2)記載的復(fù)合微粒中，陽(yáng)離子性微粒是在二氧化硅微粒的表面附有陽(yáng)離子性化合物的陽(yáng)離子性二氧化硅。
(4)一種將(1)至(3)中任一項(xiàng)所記載的復(fù)合微粒分散于水系分散介質(zhì)中而形成的分散液。
(5)在(4)記載的分散液中，上述復(fù)合微粒的ξ電位為-10～-150mV。
(6)一種分散液的制造方法，用于制造(4)或(5)記載的分散液，該分散液的制造方法包括如下工序凝聚工程，使陽(yáng)離子性微粒和陰離子性化合物在水系分散介質(zhì)中混合并形成凝聚物；以及粉碎工序，利用機(jī)械裝置在上述分散介質(zhì)中粉碎該凝聚物。
(7)一種噴墨記錄體，其特征在于，設(shè)置有包含(1)至(3)中任一項(xiàng)所記載的復(fù)合微粒的涂層。
(8)在(7)所記載的噴墨記錄體中，包含所述復(fù)合微粒的涂層由包含分散液的涂布液形成，該分散液是將所述復(fù)合微粒分散于水中而形成的。
(9)在(7)或(8)所記載的噴墨記錄體中，包含上述復(fù)合微粒的涂層設(shè)置在最外層。
(10)在(9)所記載的噴墨記錄體中，包含上述復(fù)合微粒的涂層包含陰離子性脫模劑。
(11)在(7)至(10)中任一項(xiàng)所述的噴墨記錄體中，在非透氣性或低透氣性的支持體上設(shè)置墨接受層而形成的基材的所述墨接受層上，設(shè)置有包含上述復(fù)合微粒的涂層。
(12)一種噴墨記錄體的制造方法，其特征在于包括如下工序向在支持體上設(shè)置墨接受層而形成的基材的上述墨接受層上，提供含有(1)至(3)中任一項(xiàng)所記載的復(fù)合微粒及陰離子性脫模劑的涂布液；使所述基材在光澤輥和壓輥之間通過(guò)，且使所述涂布液與光澤輥接觸，進(jìn)行壓榨涂布，形成光澤層；以及在所述光澤層處于濕潤(rùn)狀態(tài)或半干燥狀態(tài)時(shí)，從光澤輥上剝離該光澤層。
對(duì)于(1)至(3)所記載的復(fù)合微粒，具有在使用陽(yáng)離子性微粒的顏料系油墨時(shí)耐摩擦性強(qiáng)的性質(zhì)，同時(shí)可與陰離子性化合物共存，故通用性高。
對(duì)于(4)、(5)所記載的分散液，具有在使用陽(yáng)離子性微粒的顏料系油墨時(shí)耐摩擦性高的性質(zhì)，而且，因?yàn)榫哂凶鳛殛庪x子性微粒的分散液的性質(zhì)，所以即使添加陰離子性化合物也不會(huì)凝聚，故通用性高。
根據(jù)(6)所記載的分散液的制造方法，可得到上述通用性高的分散液。
根據(jù)(7)至(11)所記載的噴墨記錄體，因?yàn)槭褂蒙鲜鐾ㄓ眯愿叩膹?fù)合微粒，所以可自由調(diào)整涂層的組成。因此，容易得到具有期望性能的涂層，可具有高品質(zhì)。
根據(jù)(12)所記載的噴墨記錄體的制造方法，可得到高品質(zhì)的噴墨記錄體。


圖1是表示本發(fā)明噴墨記錄體的制造方法的一個(gè)實(shí)施方式的示意圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的復(fù)合微粒是在陽(yáng)離子性微粒的表面承載有陰離子性化合物的復(fù)合微粒。該復(fù)合微粒在分散于水中形成分散液時(shí)的ξ(Zeta)電位為負(fù)。
(陽(yáng)離子性微粒)構(gòu)成本發(fā)明的復(fù)合微粒的陽(yáng)離子性微粒在分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位(或ξ電勢(shì))為正。
作為陽(yáng)離子性微粒，可適當(dāng)?shù)厥褂娩X氧化物、鋁氧化物的水合物、陽(yáng)離子性二氧化硅。
因?yàn)殇X氧化物、鋁氧化物的水合物存在作為膠溶劑使用的乙酸氣味等使用上的問(wèn)題，所以尤其優(yōu)選陽(yáng)離子性二氧化硅。
(陽(yáng)離子性二氧化硅)陽(yáng)離子性二氧化硅是在二氧化硅微粒的表面附有陽(yáng)離子性化合物的陽(yáng)離子性的微粒。二氧化硅微粒本來(lái)為陰性，但是，通過(guò)在水系分散介質(zhì)中在陽(yáng)離子性化合物存在下利用機(jī)械裝置進(jìn)行粉碎處理，可形成陽(yáng)離子性的分散液(參照日本專利特開2004-050811號(hào)公報(bào)等)。
作為二氧化硅微粒，優(yōu)選氣相法二氧化硅、濕法二氧化硅等合成二氧化硅，尤其是作為噴墨紙，從得到光澤性考慮，優(yōu)選濕法二氧化硅。
作為承載在二氧化硅微粒上的陽(yáng)離子性化合物，可使用陽(yáng)離子性聚合物、水溶性多價(jià)金屬化合物或者硅烷偶聯(lián)劑。在這些陽(yáng)離子性化合物中，尤其優(yōu)選陽(yáng)離子性聚合物和水溶性多價(jià)金屬化合物。
作為本發(fā)明中使用的陽(yáng)離子性聚合物，列舉有聚乙烯聚胺和聚丙烯聚胺等聚烯聚胺類及其衍生物類、具有二級(jí)氨基、三級(jí)氨基及/或四級(jí)氨基的丙烯酸類樹脂、聚乙烯胺、聚乙烯脒、五元環(huán)脒類、例如二氰二酰胺-福爾馬林縮聚物等二氰系列陽(yáng)離子樹脂、二氰二酰胺-二乙烯三胺縮聚物等聚胺系列陽(yáng)離子樹脂、氯甲代氧丙環(huán)-二甲胺加成聚合物、二甲基二烯丙基氯化銨-SO2共聚物、二烯丙基銨-SO2共聚物、二甲基二烯丙基氯化銨聚合物、烯丙基銨鹽的聚合物、二烷基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯四級(jí)銨鹽聚合物、丙烯酰胺-二烯丙基胺鹽共聚物等。
其中，從分散性考慮，優(yōu)選陽(yáng)離子性聚合物，尤其是具有一級(jí)、二級(jí)、三級(jí)胺基的陽(yáng)離子樹脂的分散性良好，因此優(yōu)選。形成五元環(huán)的脒化合物最佳。
陽(yáng)離子性聚合物的分子量沒(méi)有特殊限定，但從分散性和分散穩(wěn)定性考慮，優(yōu)選1萬(wàn)～10萬(wàn)。更優(yōu)選2萬(wàn)～7萬(wàn)。分子量過(guò)于小時(shí)，分散性不好，而分子量過(guò)于大時(shí)，則分散穩(wěn)定性可能較差。
二氧化硅微粒和陽(yáng)離子性聚合物的質(zhì)量比沒(méi)有特殊限定，但優(yōu)選100∶1～30，更優(yōu)選100∶2～15。若陽(yáng)離子性聚合物的含有量過(guò)少，則分散液系統(tǒng)整體的陽(yáng)離子性弱，或者分散液系統(tǒng)整體沒(méi)有陽(yáng)離子性。即，分散在離子交換水中形成分散液時(shí)的ξ電位小于等于10mV。此時(shí)，即使分散，也可能會(huì)在短時(shí)間內(nèi)再凝聚。
另一方面，若陽(yáng)離子性聚合物的含有量過(guò)多，則在使用于噴墨記錄體時(shí)，未承載在顏料上的陽(yáng)離子性聚合物有可能以單體存在，即作為雜質(zhì)存在。
作為本發(fā)明使用的水溶性多價(jià)金屬化合物，可列舉鈣、鋇、錳、銅、鈷、鎳、鋁、鐵、鋅、鋯、鈦、鉻、鎂、鎢、鉬的化合物，并可作為這些金屬的水溶性鹽使用。另外，所謂水溶性是指常溫常壓下在水中可溶解1質(zhì)量％以上。
例如，具體列舉有乙酸鈣、氯化鈣、甲酸鈣、硫酸鈣、乙酸鋇、硫酸鋇、磷酸鋇、氯化錳、乙酸錳、甲酸錳二水合物、硫酸錳銨六水合物、氯化銅、氯化銨銅(II)二水合物、硫酸銅、氯化鈷、硫氰酸鈷、硫酸鈷、硫酸鎳六水合物、氯化鎳六水合物、乙酸鎳四水合物、硫酸鎳銨六水合物、酰胺硫酸鎳四水合物、硫酸鋁、亞硫酸鋁、硫代硫酸鋁、聚氯化鋁、硝酸鋁九水合物、氯化鋁六水合物、聚乙酸鋁、以及聚乳酸鋁、溴化亞鐵、氯化亞鐵、氯化鐵、硫酸亞鐵、硫酸鐵、溴化鋅、氯化鋅、硝酸鋅六水合物、硫酸鋅、乙酸鋯、硝酸鋯、堿式碳酸鋯、氫氧化鋯、碳酸鋯銨、碳酸鋯鉀、硫酸鋯、氟化鋯、氯化鋯、氯化鋯八水合物、氧氯化鋯、烴基氯化鋯、氯化鈦、硫酸鈦、乙酸鉻、硫酸鉻、硫酸鎂、氯化鎂六水合物、檸檬酸鎂九水合物、磷鎢酸鈉、檸檬酸鈉鎢、12-磷鎢酸n水合物、12-鎢硅酸26水合物、氯化鉬、12-磷鉬酸n水合物等。
其中，尤其優(yōu)選聚氯化鋁、聚乙酸鋁、以及聚乳酸鋁等聚合鋁鹽。
具體可列舉多木化學(xué)社制造的Tachybin(タキバイン)#1500或PAC250A等、淺田化學(xué)社制造的聚氫氧化鋁(Paho)、以及理研g(shù)reen社(理研グリ一ン社)制造的Puracemu(ピユラケム)WT等。在日本專利特公平3-24907號(hào)、特公平3-42591號(hào)、特公2000-37946號(hào)、特公2002-86893號(hào)、特公2003-276315號(hào)公報(bào)等中也記載了上述堿式聚氫氧化鋁化合物。
上述水溶性多價(jià)金屬鹽化合物的添加量相對(duì)無(wú)機(jī)微粒優(yōu)選0.1～10％質(zhì)量的范圍。
二氧化硅微粒和水溶性多價(jià)金屬鹽化合物的質(zhì)量比沒(méi)有特殊限定，但優(yōu)選100∶0.1～15的范圍。若水溶性多價(jià)金屬鹽化合物的含有量過(guò)少，則分散液系統(tǒng)整體的陽(yáng)離子性弱，或者分散液系統(tǒng)整體沒(méi)有陽(yáng)離子性。即，分散在離子交換水中形成分散液時(shí)的ξ電位小于等于10mV。此時(shí)，即使分散，也會(huì)在短時(shí)間內(nèi)再次凝聚。
另一方面，若陽(yáng)離子性化合物的含有量過(guò)多，則在使用于噴墨記錄體時(shí)，未承載在顏料上的水溶性多價(jià)金屬鹽化合物有可能以單體存在，即作為雜質(zhì)存在。
作為本發(fā)明中使用的硅烷偶聯(lián)劑，在日本專利特開2000-233572號(hào)公報(bào)中已有記載，可以使用其中的陽(yáng)離子性物質(zhì)。硅烷偶聯(lián)劑的添加量相對(duì)無(wú)機(jī)微粒優(yōu)選0.1～10質(zhì)量％的范圍。
在陽(yáng)離子性化合物存在的條件下利用機(jī)械裝置粉碎處理二氧化硅微粒時(shí)，作為分散介質(zhì)是使用水系分散介質(zhì)(或稱水分散介質(zhì))。并且，在本發(fā)明中，所謂水系分散介質(zhì)是指水或以水為主體的分散介質(zhì)。在水系分散介質(zhì)中可以含有少量的有機(jī)溶劑(乙醇等低級(jí)醇或乙酸乙酯等低沸點(diǎn)溶劑)。此時(shí)，有機(jī)溶劑相對(duì)全部分散介質(zhì)優(yōu)選小于等于20質(zhì)量％，更優(yōu)選小于等于10質(zhì)量％。
在陽(yáng)離子性化合物存在的條件下利用機(jī)械裝置粉碎處理二氧化硅微粒時(shí)，作為機(jī)械裝置可以使用有孔玻璃珠碾磨機(jī)、超音波均化器、壓力式均化器、液流沖擊式均化器、超微粒化裝置、Ultimaizer(アルテイマイザ一)、高速旋轉(zhuǎn)輾磨機(jī)、滾筒輾磨機(jī)、容器驅(qū)動(dòng)介質(zhì)輾磨機(jī)、介質(zhì)攪拌輾磨機(jī)、噴射輾磨機(jī)、砂輪機(jī)。
其中，優(yōu)選使用有孔玻璃珠碾磨機(jī)、超音波均化器、壓力式均化器、液流沖擊式均化器、超微?；b置、Ultimaizer。為了將混入的雜質(zhì)控制在最小限度，優(yōu)選使用液流沖擊式均化器、超微?；b置、Ultimaizer。
(鋁氧化物)作為鋁氧化物(氧化鋁)，公知有大約八種變化形態(tài)。即，一般已知有通過(guò)加熱三水鋁礦、三羥鋁石或勃姆石等氫氧化鋁，在χ→κ→α、γ→δ→θ→α、η→θ→α、ρ→η→θ→α或者偽γ→θ→α的狀態(tài)中經(jīng)過(guò)各種中間氧化鋁，轉(zhuǎn)變?yōu)棣?氧化鋁，由此晶粒生長(zhǎng)(例如參照日本非專利文獻(xiàn)電氣化學(xué)(電気化學(xué))、28卷，p302，船木·清水(船木·清水)；關(guān)于氧化鋁水合物及氧化鋁、氧化鋁水合物的熱變化例(アルミナ水和物およびアルミナについて、アルミナ水和物の熱變化例))。
另外，還可知道利用氯化鋁、硫酸鋁、硝酸鋁等鋁鹽的熱分解，從無(wú)定形氧化鋁經(jīng)過(guò)γ-、δ-或θ-等中間氧化鋁轉(zhuǎn)變?yōu)棣?氧化鋁(例如參照日本非專利文獻(xiàn)礦物學(xué)雜志(鉱物學(xué)雑誌)19卷1號(hào)p21、p41)。成為分散質(zhì)的氧化鋁實(shí)際上是包括從γ、η、δ、ρ、χ、θ、κ以及α-鋁中選出的一個(gè)或多個(gè)結(jié)晶的氧化鋁。
在本發(fā)明中，作為噴墨紙，從透明性、光澤性、墨吸收性的均衡性考慮，優(yōu)選至少含有α、δ、θ、γ結(jié)晶。
鋁氧化物可通過(guò)在水系分散介質(zhì)中利用機(jī)械裝置進(jìn)行粉碎處理而形成分散液。作為機(jī)械裝置，可采用與上述的在陽(yáng)離子性化合物存在的條件下利用機(jī)械裝置粉碎處理二氧化硅微粒時(shí)相同的裝置。
最好在分散介質(zhì)中添加乙酸、硝酸、乳酸、鹽酸等酸。由此，可高效地進(jìn)行分散。如日本專利特開平7-89717號(hào)公報(bào)所述，尤其優(yōu)選在酸存在的條件下，使其與陽(yáng)離子交換樹脂接觸而進(jìn)行分散。
(鋁氧化物的水合物)作為鋁氧化物的水合物(氧化鋁的水合物)，可列舉三水鋁礦型、勃姆石型、偽勃姆石型、三羥鋁石型、水鋁石型各種結(jié)晶型物質(zhì)。在本發(fā)明中，作為噴墨紙，從透明性、光澤性、墨吸收性的均衡性考慮，優(yōu)選三水鋁礦型、勃姆石型、偽勃姆石型。
鋁氧化物的水合物可通過(guò)在水系分散介質(zhì)中進(jìn)行分散、粉碎、散凝處理而形成分散液。
(陰離子性化合物)作為構(gòu)成本發(fā)明的復(fù)合微粒的陰離子性化合物，可列舉羧酸系化合物、磺酸系化合物、磷酸系化合物、酯系化合物或者這些化合物的鹽。其中優(yōu)選羧酸系化合物，更優(yōu)選聚合物或其鹽。
構(gòu)成本發(fā)明的復(fù)合微粒的陰離子性化合物既可以是單獨(dú)的化合物，也可以是兩種以上化合物的混合物。
作為羧酸系化合物，可以是碳原子數(shù)大于等于6且小于等于30的脂肪酸、二聚酸等及其鈉鹽、鉀鹽這樣的金屬鹽類、其銨鹽、胺鹽。
作為具體例，列舉有草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、蘋果酸、酒石酸、環(huán)丙烷二羧酸等脂肪族飽和二羧酸；馬來(lái)酸、富馬酸、檸康酸、衣康酸等脂肪族不飽和二羧酸；酞酸、間苯二甲酸、對(duì)苯二酸、羧苯基乙酸、羧苯基丙酸、苯二乙酸等芳香族二羧酸；均丙三羧酸、偏苯三酸等三價(jià)以上的聚羧酸等。
作為衣康酸或其鹽的具體例，列舉有純藥社生產(chǎn)的ジュリマAC-70N。
作為羧酸的聚合物或其鹽，可以是丙烯酸均聚物、丙烯酸-馬來(lái)酸共聚物、α-羥基丙烯酸均聚物、C5烯烴-馬來(lái)酸共聚物、異丁烯-馬來(lái)酸共聚物等、以及其堿金屬鹽或銨鹽、胺鹽，其中優(yōu)選丙烯酸均聚物、丙烯酸-馬來(lái)酸共聚物。
具體列舉有花王社生產(chǎn)的ポイズ540、ポイズ530、ポイズ521、ポイズ520；日本パ一オキサイド社生產(chǎn)的ペ一ルプラツク250、ペ一ルプラツク1200、ペ一ルプラツク5000；日本ゼオン社生產(chǎn)的タインフロ一540、タインフロ一542、タインフロ一543、タインフロ一560、タインフロ一640、タインフロ一750；東亞合成社生產(chǎn)的アロンT-40(M)；クラレ社生產(chǎn)的イソバン06、イソバン04、イソバン600；以及日本觸媒社生產(chǎn)的アクアリツクDL 100等。
作為磺酸系化合物的具體例，例如列舉有二苯醚磺酸、正丁基苯磺酸等烷基苯磺酸、烷基磺酸、正戊基苯磺酸、正辛基苯磺酸、正十二烷基苯磺酸、正十八烷基苯磺酸、正二丁基苯磺酸、烷基萘磺酸、異丙基萘磺酸、十二烷基萘磺酸、二壬基萘磺酸、二壬基萘二磺酸、以及可通過(guò)公知的方法使無(wú)取代喹吖啶酮、二甲基喹吖啶酮、二氯喹吖啶酮等與濃硫酸等反應(yīng)而合成的喹吖啶酮磺酸類等。另外，還可列舉這些物質(zhì)的鈉鹽、鉀鹽等金屬鹽類、以及這些物質(zhì)的銨鹽等。
作為磺酸的聚合物或其鹽，有苯乙烯磺酸聚合物及其堿金屬鹽或銨鹽、胺鹽，具體列舉有ライオン社生產(chǎn)的ポリテイ一PS-1900、日本專利特開2000-226416號(hào)公報(bào)記載的具有磺酸基的聚合物。
作為酯系化合物的具體例，列舉有烷基硫酸酯、聚氧化烯烷基硫酸酯、聚氧化烯烷基苯醚硫酸、三苯乙烯化苯酚硫酸酯、聚氧化烯二苯乙烯化苯酚硫酸酯、乙酸乙烯酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸十二酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸-N，N-二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸十二酯、甲基丙烯酸-N，N-二甲基氨基乙酯、富馬酸甲酯、富馬酸乙酯、富馬酸丙酯、富馬酸丁酯、富馬酸二甲酯、富馬酸二乙酯、富馬酸二丙酯、富馬酸二丁酯、馬來(lái)酸甲酯、馬來(lái)酸乙酯、馬來(lái)酸丙酯、馬來(lái)酸丁酯、馬來(lái)酸二甲酯、馬來(lái)酸二乙酯、馬來(lái)酸二丙酯、馬來(lái)酸二丁酯、烷基磷酸酯、聚氧化烯磷酸酯等。另外，還可列舉這些物質(zhì)的鈉鹽、鉀鹽這樣的金屬鹽類、以及這些物質(zhì)的銨鹽等。
(質(zhì)量比等)本發(fā)明的復(fù)合粒子在分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電勢(shì)為負(fù)。陽(yáng)離子性微粒和陰離子性化合物的質(zhì)量比沒(méi)有特殊限定，優(yōu)選100∶1～50的范圍，更優(yōu)選100∶2～30。
若陰離子性化合物的含量過(guò)少，則分散液系統(tǒng)整體的陰離子性弱，或分散液系統(tǒng)整體不呈現(xiàn)陰離子性。即，分散在離子交換水中成為分散液時(shí)的ξ電勢(shì)大于-10mV。此時(shí)，即使分散，也有可能在短時(shí)間內(nèi)再凝聚。
另一方面，若陰離子性化合物的含量過(guò)多，則在使用于噴墨記錄體時(shí)，未承載在顏料上的陰離子性化合物有可能作為單體存在，即作為雜質(zhì)存在。
陽(yáng)離子性微粒的平均粒徑(在為二次粒子時(shí)指二次粒徑)優(yōu)選10～800nm，更優(yōu)選15～500nm。另外，復(fù)合微粒的平均粒徑(在為二次粒子時(shí)指二次粒徑)優(yōu)選10～1000nm，更優(yōu)選15～800nm。
本發(fā)明的復(fù)合粒子最好以分散液的形態(tài)使用。不過(guò)，也可以除去分散介質(zhì)，以粉體的形態(tài)使用。
〔分散液〕本發(fā)明的分散液是將本發(fā)明的復(fù)合微粒分散在水系分散介質(zhì)中得到的。分散液中的復(fù)合微粒的ξ電勢(shì)優(yōu)選-10～-150mV，更優(yōu)選-20～-120mV。
由于負(fù)值的絕對(duì)值大于等于10mV，故更加易于與陰離子性化合物共存。
〔分散液制備方法〕根據(jù)本發(fā)明的分散液制備方法，其特征在于包括凝聚工序，使陽(yáng)離子性微粒和陰離子性化合物在水系分散介質(zhì)中混合并形成凝聚物；以及粉碎工序，在所述分散介質(zhì)中利用機(jī)械裝置粉碎該凝聚物。
(凝聚工序)在凝聚工序中，將陽(yáng)離子性微粒和陰離子性化合物在水系分散介質(zhì)中混合。具體而言，是在陰離子性化合物中添加陽(yáng)離子性微粒的分散液、或在陽(yáng)離子性微粒的分散液中添加陰離子性化合物的工序。
(粉碎工序)在粉碎工序中，在水系分散介質(zhì)中利用機(jī)械裝置粉碎在凝聚工序中形成的凝聚物。作為機(jī)械裝置，可采用與上述在陽(yáng)離子性化合物存在下利用機(jī)械裝置對(duì)二氧化硅微粒進(jìn)行粉碎處理時(shí)相同的裝置。
〔噴墨記錄體〕本發(fā)明的噴墨記錄體(噴墨記錄介質(zhì))的具體構(gòu)成沒(méi)有特殊限定，例如可以在支持體(載體)上形成一層或多層墨接受層。還可以在墨接受層上再形成光澤層。
本發(fā)明的噴墨記錄體設(shè)置有包含本發(fā)明的復(fù)合微粒的涂層。該包含本發(fā)明的復(fù)合微粒的涂層可以是上述墨接受層的全部或一部分，也可以是光澤層。其中，優(yōu)選在最表層(記錄面?zhèn)?設(shè)置該涂層，尤其優(yōu)選作為光澤層設(shè)置。
對(duì)于包含本發(fā)明復(fù)合微粒的涂層的涂料，具有在使用陽(yáng)離子性微粒的顏料系油墨時(shí)耐摩擦性強(qiáng)的性質(zhì)，而且也可與陰離子性化合物共存，在利用多層同時(shí)涂布裝置、例如具有多個(gè)涂布液供給口的多層式槽形模涂布機(jī)、多層式滑板(slide bead)涂布機(jī)及多層式幕簾模(curtain die)涂布機(jī)進(jìn)行涂布時(shí)，可在不與具有陰離子性微粒的涂層的涂料之間產(chǎn)生凝聚而導(dǎo)致涂布不良的情況下進(jìn)行涂布，因此，可利用任意的涂布方法自由設(shè)計(jì)成對(duì)應(yīng)各種要求的涂層。
其中，當(dāng)將該涂層形成在最表層時(shí)，可得到使用顏料系油墨時(shí)耐摩擦性優(yōu)良的噴墨記錄體。
另外，如果最表層是光澤層，則可與陰離子性的脫模劑共存，從而在形成光澤層時(shí)也可具有優(yōu)異的脫模性，可容易地形成高品質(zhì)的光澤層。
將本發(fā)明的復(fù)合微粒用在光澤層上時(shí)的較佳構(gòu)成是在支持體上設(shè)置有墨接受層的基材上形成光澤層。此時(shí)，也可在支持體和墨接受層之間設(shè)置含交聯(lián)劑層。下面對(duì)該較佳構(gòu)成進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
(支持體)作為支持體(載體)優(yōu)選使用非透氣性支持體或低透氣性支持體，以得到與銀鹽照片相當(dāng)?shù)墓鉂?。作為支持體使用非透氣性支持體或低透氣性支持體時(shí)，可防止墨中的溶劑浸透，所以可抑制起皺。結(jié)果是，可使打印物的外觀良好，且可防止因起皺的記錄體與記錄頭接觸而導(dǎo)致記錄用紙的污損和破裂、或引起記錄頭故障。
與此相反，若使用紙基材等透氣性支持體，則在打印時(shí)，因墨中含有的水分等溶劑的影響，支持體有時(shí)會(huì)伸展、打折而起皺，但本發(fā)明中的支持體即使是透氣性支持體也沒(méi)有問(wèn)題。
所謂低透氣性支持體或非透氣性支持體是指透氣度大于等于500秒、優(yōu)選大于等于1000秒的支持體。透氣性一般由作為評(píng)價(jià)紙、無(wú)紡布等的多孔性的項(xiàng)目而公知的透氣度表示。透氣度用100ml空氣通過(guò)面積為645mm2的試驗(yàn)片所需的時(shí)間來(lái)表示，在JIS P 8117(紙及紙板的透氣度試驗(yàn)方法)中予以規(guī)定。
作為具體的低透氣性支持體或非透氣性支持體，例如列舉有玻璃紙、聚乙烯、聚丙烯、軟質(zhì)聚氯乙烯、硬質(zhì)聚氯乙烯、聚酯等薄膜類。還列舉有利用聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴包覆紙等基材表面的樹脂包覆紙、金屬箔、將聚丙烯延伸并實(shí)施特殊加工而成的合成紙等薄片類。支持體根據(jù)在其上形成的墨接受層和光澤層的形成方法、或根據(jù)使用用途等，從上述列舉的物質(zhì)中適當(dāng)?shù)丶右赃x擇。
為了形成照片風(fēng)格的噴墨記錄體，在上述支持體中優(yōu)選合成紙、樹脂包覆紙，尤其是包括混入有氧化鈦的樹脂包覆紙、所謂的RC紙的支持體，因?yàn)樗纬傻耐庥^與照片打印紙相同，故優(yōu)選使用。
作為合成紙，優(yōu)選對(duì)含有碳酸鈣等無(wú)機(jī)顏料的聚丙烯樹脂進(jìn)行擠壓、雙軸拉伸而得到的合成紙，尤其優(yōu)選表面具有沒(méi)有凹凸的表皮層的合成紙。
在支持體是用聚乙烯層包覆基材的樹脂包覆紙時(shí)，聚乙烯層的涂布量?jī)?yōu)選3～50g/m2，更優(yōu)選5～30g/m2。若聚乙烯層的涂布量不到3g/m2，則在包覆樹脂時(shí)，聚乙烯孔等缺陷容易增多，很多時(shí)候難于進(jìn)行厚度控制，也很難得到平滑性。相反地，若聚乙烯層的涂布量超過(guò)50g/m2，雖然成本增加，但得到的效果較小，因此不經(jīng)濟(jì)。
另外，為了提高與墨接受層之間的粘合性，最好在樹脂層表面上實(shí)施電暈放電處理、或設(shè)置增粘涂層。
另外，作為樹脂包覆紙的基材使用紙時(shí)，作為紙基材最好使用以木材紙漿為主要材料制成的物質(zhì)。木材紙漿可適當(dāng)使用各種化學(xué)紙漿、機(jī)械紙漿、再生紙漿等，為了調(diào)節(jié)紙力、平滑性、造紙適合性等，這些紙漿可利用打漿機(jī)調(diào)節(jié)打漿度。打漿度沒(méi)有特殊限定，一般最好在250～550ml(CSFJIS-P-8121)左右。另外，也可使用所謂的ECF、TCF紙漿等游離氯紙漿。而且，可根據(jù)需要在木材紙漿中添加顏料。作為顏料最好使用滑石、碳酸鈣、粘土、高嶺土、煅燒高嶺土、硅石、沸石等。通過(guò)添加顏料，可提高不透明性和平滑度，但若過(guò)度添加，則有時(shí)會(huì)導(dǎo)致紙力降低，因此，顏料的添加量?jī)?yōu)選為木材紙漿的1～20質(zhì)量％左右。
支持體可以利用螢光染料、螢光顏料等螢光增白劑來(lái)調(diào)整色調(diào)，也可以設(shè)置防靜電層。另外，支持體可以是透明的，也可以是不透明的。
(墨接受層)墨接受層是形成在支持體上的層，是主要用于固定墨中的染料和顏料的色素、吸收油墨中的溶劑的層。
墨接受層可以為一層，也可以為多層。優(yōu)選墨接受層的至少一層含有顏料等微粒和粘合劑。
作為微粒例如列舉有膠態(tài)二氧化硅、無(wú)定形二氧化硅、氧化鈦、硫酸鋇、高嶺土、粘土、煅燒粘土、氧化鋅、氫氧化鋁、碳酸鈣、緞光白、硅酸鋁、氧化鋁、膠態(tài)二氧化硅、沸石(天然沸石、合成沸石)、海泡石、蒙脫石、合成蒙脫石、硅酸鎂、碳酸鎂、氧化鎂、硅藻土、苯乙烯類塑料顏料、水滑石、尿素樹脂類塑料顏料、苯代三聚氰二胺類塑料顏料等透明或白色的微粒等，可以使用一種或一種以上。
作為粘合劑例如列舉有聚乙烯醇(PVA)、陽(yáng)離子改性PVA、甲硅烷基改性PVA等改性PVA等PVA類；聚乙烯縮醛、聚乙烯亞胺、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺等水溶性樹脂；酪蛋白、大豆蛋白、合成蛋白質(zhì)類、淀粉、羧甲基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物；或者例如(甲基)丙烯酸酯聚合物(共聚物)、苯乙烯樹脂、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯聚合物(共聚物)、甲基丙烯酸甲脂-丁二烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚醚類聚氨酯樹脂、聚酯類聚氨酯樹脂、聚碳酸酯類聚氨酯樹脂、環(huán)氧類樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸聚合物(共聚物)、密胺類樹脂、尿素類樹脂或烯烴類樹脂等在一般涂布紙領(lǐng)域公知公用的各種粘合劑。另外，也可使用在溫度敏感點(diǎn)以下的溫度區(qū)域顯示親水性、在高于溫度敏感點(diǎn)的溫度區(qū)域顯示疏水性的溫度敏感性高分子化合物等。這些物質(zhì)也可以適當(dāng)?shù)夭⒂谩?br> 另外，在墨接受層中最好包含陽(yáng)離子性化合物。作為陽(yáng)離子性化合物例如列舉有1)聚乙烯聚胺、聚丙烯聚胺等聚烷撐聚胺類或其衍生物；2)具有第二級(jí)氨基、第三級(jí)氨基和第四級(jí)銨基的丙烯酸酯聚合物；3)聚乙烯胺及聚乙烯脒類；4)以二氰基二酰胺·福爾馬林共聚物為代表的二氰基類陽(yáng)離子性化合物；5)以二氰基二酰胺·聚乙烯胺共聚物為代表的聚胺類陽(yáng)離子性化合物；6)表氯醇·二甲基胺共聚物；7)二甲基烯丙基氯化銨-SO2共聚物；8)二烯丙基氯化銨-SO2共聚物；9)二烯丙基二甲基氯化銨聚合物；10)二烯丙基二甲基氯化銨-丙烯酰胺共聚物；11)丙烯胺鹽的共聚物；12)(甲基)丙烯酸二烷基氨基乙酯四級(jí)鹽共聚物；13)丙烯酰胺·二丙烯胺共聚物；14)具有五元環(huán)脒結(jié)構(gòu)的陽(yáng)離子樹脂等公知的陽(yáng)離子性化合物等。
其中，具有五元環(huán)脒結(jié)構(gòu)的聚乙烯胺共聚物四級(jí)銨鹽酸鹽、聚丙烯胺的一部分或全部鹽酸鹽、氨基的一部分被甲氧羰基改性的聚丙烯胺的一部分或全部鹽酸鹽，由于墨吸收性、光澤性、圖像的鮮明性優(yōu)異，因此優(yōu)選使用。
另外，當(dāng)墨接受層的粘合劑使用PVA類時(shí)，可以在墨接受層中適當(dāng)?shù)靥砑咏宦?lián)劑。由此，可增加墨接受層的涂布量。
作為PVA類交聯(lián)劑，例如列舉有硼化合物、鋯化合物、鋁化合物、鉻化合物等多價(jià)金屬化合物、環(huán)氧化合物、縮水甘油化合物、二酰肼化合物、醛化合物、胺化合物、羥甲基化合物等。在這些交聯(lián)劑中，從增粘或凝膠化進(jìn)程迅速的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選硼化合物，更優(yōu)選硼酸及/或硼砂。
作為硼酸列舉有正硼酸、偏硼酸、次硼酸、四硼酸、五硼酸等。在硼酸中，優(yōu)選正硼酸和四硼酸二鈉。所謂硼砂是鈉的含水硼酸鹽礦物質(zhì)，其組成為Na2B4O7·10H2O。實(shí)質(zhì)上，Na2B4O7(四硼酸二鈉)為交聯(lián)劑成分。
另外，根據(jù)需要，在墨接受層中可以適當(dāng)添加在涂布紙制造時(shí)通常使用的各種顏料、分散劑、增粘劑、紫外線吸收劑、防氧化劑等保存性提高劑、表面活性劑、消泡劑、著色劑、螢光增白劑、防靜電劑、防腐劑等各種助劑。
(含交聯(lián)劑層)當(dāng)墨接受層的粘合劑使用PVA類時(shí)，可以在支持體和墨接受層之間設(shè)置含有交聯(lián)劑、增粘劑及表面活性劑的含交聯(lián)劑層。由此，可增加墨接受層的涂布量。
作為PVA類的交聯(lián)劑，與上述添加在墨接受層中的情況相同，列舉有硼化合物、鋯化合物、鋁化合物、鉻化合物等多價(jià)金屬化合物、環(huán)氧化合物、縮水甘油化合物、二酰肼化合物、醛化合物、胺化合物、羥甲基化合物等。在這些交聯(lián)劑中，從增粘或凝膠化進(jìn)程迅速方面來(lái)說(shuō)，優(yōu)選硼化合物，更優(yōu)選硼酸及/或硼砂。
作為硼酸列舉有正硼酸、偏硼酸、次硼酸、四硼酸、五硼酸等。在硼酸中，優(yōu)選使用正硼酸和四硼酸二鈉。
增粘劑用于在添加后增大含交聯(lián)劑層用的涂布液的粘度，并沒(méi)有特殊限定，例如列舉有明膠、生物膠、纖維素衍生物、古阿膠類、藻酸鈉、聚丙烯酸等。
作為生物膠例如列舉有黃原膠、文萊膠、結(jié)冷膠等。作為纖維素衍生物例如列舉有陽(yáng)離子化纖維素、羧甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羥丙基纖維素、乙基纖維素等。作為古阿膠類例如列舉有古阿膠、羥丙基化古阿膠、陽(yáng)離子化古阿膠等。
纖維素衍生物在增粘效果比較高、凝膠化強(qiáng)度比較低這樣的平衡方面較為優(yōu)異，因此優(yōu)選。從含交聯(lián)劑層用的涂布液的粘度調(diào)制比較容易方面考慮，纖維素衍生物的聚合度優(yōu)選500～2000，更優(yōu)選800～1800。
利用增粘劑，可以將含交聯(lián)劑層用的涂布液的粘度調(diào)整為規(guī)定范圍。作為含交聯(lián)劑層用涂布液的粘度的規(guī)定范圍優(yōu)選4～500mPa·s。
含交聯(lián)劑層中的增粘劑含量沒(méi)有特殊限定，但在添加少量即達(dá)到規(guī)定粘度時(shí)，因粘度調(diào)節(jié)困難而不佳。另一方面，若增粘劑的添加量過(guò)多，則會(huì)妨礙交聯(lián)劑的效果，故不佳。因此，最好相對(duì)交聯(lián)劑含有1～100質(zhì)量％范圍內(nèi)的增粘劑。換言之，最好使用含量在1～100質(zhì)量％范圍內(nèi)的增粘劑達(dá)到規(guī)定粘度。
由于含交聯(lián)劑層包含表面活性劑，因此可抑制在支持體表面進(jìn)行涂布時(shí)產(chǎn)生排斥，可將涂布面形成為均勻的含交聯(lián)劑層。
作為表面活性劑列舉有陰離子系表面活性劑、陽(yáng)離子系表面活性劑、非離子系表面活性劑。
作為陰離子系表面活性劑列舉有硫酸酯鹽類、磺酸鹽類、磷酸酯鹽類等。作為陽(yáng)離子系表面活性劑例如列舉有胺鹽類、四級(jí)銨鹽類等。作為非離子系表面活性劑例如列舉有炔烴乙二醇類、聚乙二醇類、多元醇類等。其中，乙炔乙二醇類表面活性劑因表面活性效果高且具有消泡性，故優(yōu)選使用。
含交聯(lián)劑層中的表面活性劑含量?jī)?yōu)選為交聯(lián)劑的0.001～10質(zhì)量％。若表面活性劑含量不到0.001質(zhì)量％或超過(guò)10質(zhì)量％，則在涂布支持體表面時(shí)會(huì)產(chǎn)生涂布液的排斥，故不佳。
只要不妨礙交聯(lián)劑的效果，在含交聯(lián)劑層中可適當(dāng)含有通常在涂布紙領(lǐng)域中公知公用的各種粘合劑，例如聚乙烯縮醛、聚乙烯亞胺、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺等水溶性樹脂；酪蛋白、大豆蛋白、合成蛋白質(zhì)類、淀粉、羧甲基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生物；或者(甲基)丙烯酸酯聚合物(共聚物)、苯乙烯樹脂、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯聚合物(共聚物)、甲基丙烯酸甲脂-丁二烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚醚類聚氨酯樹脂、聚酯類聚氨酯樹脂、聚碳酸酯類聚氨酯樹脂、環(huán)氧類樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸聚合物(共聚物)、密胺類樹脂、尿素類樹脂或烯烴類樹脂等。另外，根據(jù)需要，也可添加通常在涂布紙制造中使用的各種顏料、分散劑、紫外線吸收劑、防氧化劑等保存性提高劑、消泡劑、著色劑、螢光增白劑、防靜電劑、防腐劑等各種助劑。
(光澤層)在光澤層中含有本發(fā)明的復(fù)合微粒及陰離子性脫模劑。陰離子性脫模劑的含量相對(duì)微粒100質(zhì)量份優(yōu)選為1～15質(zhì)量份。通過(guò)將含量設(shè)定在該范圍內(nèi)，則在形成光澤層時(shí)更易于從光澤輥上剝離。
作為微粒，在不損害本發(fā)明效果的范圍內(nèi)可以含有其他陰離子性微粒。例如列舉有膠態(tài)二氧化硅、氣相法二氧化硅、高嶺土、煅燒高嶺土等透明或白色顏料。其中，膠態(tài)二氧化硅、氣相法二氧化硅因可得到良好的光澤，故優(yōu)選使用。
作為陰離子性脫模劑列舉有硬脂酸、油酸、棕櫚酸等脂肪酸等、以及這些物質(zhì)的堿金屬鹽或銨鹽、胺鹽。
其中，優(yōu)選使用下式(1)所表示的化合物。
化學(xué)式1 式(1)中，R1表示碳原子數(shù)為8～28的烷基或鏈烯基，例如列舉有油基、十八烷基、十二烷基、十六烷基、十四烷基等。其中，從長(zhǎng)時(shí)間保持脫模性方面考慮，優(yōu)選使用油基、十八烷基。
R2～R5表示H或碳原子數(shù)為1～4的烷基(即甲基、乙基、丙基、丁基)，其中，優(yōu)選H。另外，R2～R5可以相同也可以不同，但優(yōu)選R2～R4全部相同。
上述式(1)表示的脫模劑是脫模性尤其好且不會(huì)妨礙墨吸收性的較佳的脫模劑。
作為式(1)的具體例，列舉有油酸銨、硬脂酸銨、月桂酸銨、棕櫚酸銨、肉豆蔻酸銨、油酸四甲基銨、硬脂酸四甲基銨、月桂酸四甲基銨、棕櫚酸四甲基銨、肉豆蔻酸四甲基銨、油酸四乙基銨、硬脂酸四乙基銨、月桂酸四乙基銨、棕櫚酸四乙基銨、肉豆蔻酸四乙基銨、油酸四正丁基銨、硬脂酸四正丁基銨、月桂酸四正丁基銨、棕櫚酸四正丁基銨、肉豆蔻酸四正丁基銨等。
其中，從脫模性特別優(yōu)良方面考慮，優(yōu)選使用油酸銨。
只要不妨礙墨吸收性，則在光澤層中可適當(dāng)含有通常在涂布紙領(lǐng)域中公知公用的各種添加劑、粘合劑，例如聚乙烯醇(PVA)、陽(yáng)離子改性PVA、甲硅烷基改性PVA等改性PVA等PVA類；羧酸系化合物、磺酸系化合物、磷酸系化合物、酯系化合物、或這些物質(zhì)的鹽等陰離子性化合物；聚乙烯縮醛、聚乙烯亞胺、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺等水溶性樹脂；酪蛋白、大豆蛋白、合成蛋白質(zhì)類、氧化淀粉、酯化淀粉等淀粉類；羧甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、羥丙基纖維素、乙基纖維素等纖維素衍生物；古阿膠類、(甲基)丙烯酸酯聚合物(共聚物)、苯乙烯樹脂、苯乙烯-(甲基)丙烯酸酯聚合物(共聚物)、甲基丙烯酸甲脂-丁二烯共聚物、苯乙烯-丁二烯共聚物、聚醚類聚氨酯樹脂、聚酯類聚氨酯樹脂、聚碳酸酯類聚氨酯樹脂、環(huán)氧類樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-(甲基)丙烯酸聚合物(共聚物)、密胺類樹脂、尿素類樹脂或烯烴類樹脂等。
在各種添加劑中，羧酸系化合物、磺酸系化合物、磷酸系化合物、酯系化合物、或這些物質(zhì)的鹽等陰離子性化合物、酪蛋白、大豆蛋白、合成蛋白質(zhì)類、氧化淀粉、酯化淀粉等淀粉類、纖維素衍生物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物從鏡面輥上脫模的脫模性好，故優(yōu)選。
另外，根據(jù)需要，也可以添加紫外線吸收劑、防氧化劑等保存性提高劑、表面活性劑、消泡劑、防靜電劑、防腐劑、著色劑、螢光增白劑、分散劑、增粘劑等各種助劑。
〔噴墨記錄體的制造方法〕下面，參照?qǐng)D1對(duì)在支持體上設(shè)置有墨接受層的基材上形成包含本發(fā)明復(fù)合微粒的光澤層的噴墨記錄體的制造方法進(jìn)行說(shuō)明。在該構(gòu)成的噴墨記錄體的制造方法中，首先準(zhǔn)備在支持體11上設(shè)置墨接受層12而成的基材10。
(基材的制作)為了得到在支持體11上設(shè)置有墨接受層12的基材10，將在溶劑中分散上述墨接受層成分而得的涂布液涂布在支持體上，并使其干燥。作為墨接受層12用涂布液的溶劑沒(méi)有特殊限定，考慮到涂布適合性等方面而優(yōu)選水。
墨接受層12的總計(jì)涂布量?jī)?yōu)選5～70g/m2，更優(yōu)選10～50g/m2，最優(yōu)選15～40g/m2。另外，涂層的總計(jì)厚度可為7～105μm，優(yōu)選15～75μm，更優(yōu)選22～60μm。若涂布量不到5g/m2，則有可能不能充分形成光澤層，而且，有時(shí)會(huì)導(dǎo)致墨吸收性降低、記錄適合性差；另一方面，若涂布量超過(guò)70g/m2，則涂層的強(qiáng)度降低，在進(jìn)行記錄用紙的剪裁加工時(shí)，或在打印機(jī)中輸送記錄介質(zhì)時(shí)，有可能會(huì)引起故障。
涂布工序可以進(jìn)行一次，也可以進(jìn)行多次。若進(jìn)行多次涂布工序，則墨接受層也可形成多層。另外，通過(guò)將涂布液分多次涂布，可抑制裂紋的產(chǎn)生，且可較多地涂布涂布液，可增大墨接受層的墨吸收容量。
在墨接受層12的粘合劑為PVA類時(shí)，通過(guò)向墨接受層12中添加交聯(lián)劑，可抑制裂紋產(chǎn)生，且可增加墨接受層12的涂布量，增大墨接受層12的墨吸收容量。
此時(shí)，若預(yù)先在墨接受層12用涂布液中混合交聯(lián)劑，則隨著時(shí)間的經(jīng)過(guò)，由于PVA類與交聯(lián)劑反應(yīng)而引起涂布液的粘度上升，有可能不能形成干凈的墨接受層。因此，在墨接受層12用涂布液中添加交聯(lián)劑時(shí)，最好預(yù)先將涂布液分成包含PVA類成分的液體和包含交聯(lián)劑成分的液體至少這兩種液體，也可根據(jù)需要分成多種液體，并在涂布時(shí)連續(xù)混合地供給、涂布涂布液。
為了以連續(xù)混合方式均勻地進(jìn)行混合，可以一邊將各液體向容器(釜體)供給一邊利用攪拌機(jī)進(jìn)行攪拌，但因攪拌強(qiáng)度不同，有時(shí)會(huì)在涂布液中卷入空氣而產(chǎn)生氣泡，從而導(dǎo)致墨接受層產(chǎn)生裂紋。為了在涂布液中不產(chǎn)生氣泡的狀態(tài)下均勻地進(jìn)行混合，最好使用串聯(lián)型的旋轉(zhuǎn)式攪拌機(jī)等動(dòng)態(tài)連續(xù)混合機(jī)、靜態(tài)攪拌機(jī)等靜態(tài)連續(xù)混合機(jī)等混合機(jī)。
另外，通過(guò)將墨接受層12形成為多層，且在多層之間涂布交聯(lián)劑水溶液，從而也可在墨接受層12中添加交聯(lián)劑。
作為墨接受層12的涂布裝置可使用刮刀涂布機(jī)、氣刀涂布機(jī)、輥式涂布機(jī)、刮棒涂布機(jī)、凹版涂布機(jī)、噴射涂布機(jī)、模具涂布機(jī)、幕簾涂布機(jī)、リンプ涂布機(jī)、滑板涂布機(jī)、多層式槽形模涂布機(jī)、多層式滑模(slide die)涂布機(jī)及多層式簾模涂布機(jī)等各種公知的涂布裝置。尤其是模具涂布機(jī)、幕簾涂布機(jī)、滑板涂布機(jī)、多層式槽形模涂布機(jī)、多層式滑模涂布機(jī)及多層式簾模涂布機(jī)，由于涂布量的均勻性優(yōu)異，故對(duì)以高精細(xì)記錄為目的的光澤型噴墨記錄體來(lái)說(shuō)，是優(yōu)選的涂布方法。
作為涂膜的干燥方法沒(méi)有特殊限定，可適當(dāng)采用一直以來(lái)公知公用的熱風(fēng)干燥、氣體加熱器干燥、高頻干燥、電加熱器干燥、紅外形加熱器干燥、激光干燥、電子線干燥等各種加熱干燥方式。
另外，在墨接受層12的粘合劑為PVA類時(shí)，也可在支持體11和墨接受層12之間形成含交聯(lián)劑層。由此，可抑制裂紋產(chǎn)生，且可增加墨接受層12的涂布量，增大墨接受層12的墨吸收容量。
為了在支持體11和墨接受層12之間形成含交聯(lián)劑層，而在形成墨接受層12之前，將在溶劑中分散或溶解上述含交聯(lián)劑層的含有成分而得的涂布液涂布在支持體上，并使其干燥。作為含交聯(lián)劑層用涂布液的溶劑沒(méi)有特殊限定，考慮到涂布適合性等方面，優(yōu)選使用水。
含交聯(lián)劑層的涂布量?jī)?yōu)選為0.1～3.0g/m2。若涂布量不到0.1g/m2，則有可能不能充分形成含交聯(lián)劑層，而且，作為交聯(lián)劑的效果較弱，因此有時(shí)不能增加墨接受層12的涂布量。另一方面，若涂布量超過(guò)3.0g/m2，則在含交聯(lián)劑層上涂布墨接受層12的涂布液時(shí)，墨接受層12的涂布液在涂布之后由于交聯(lián)而馬上增粘，有可能導(dǎo)致涂布難以進(jìn)行。
作為含交聯(lián)劑層的涂布裝置，可使用刮刀涂布機(jī)、氣刀涂布機(jī)、輥式涂布機(jī)、刮棒涂布機(jī)、凹版涂布機(jī)、噴射式涂布機(jī)、模具涂布機(jī)、幕簾涂布機(jī)、リンプ涂布機(jī)、滑板涂布機(jī)、多層式槽形模涂布機(jī)、多層式滑模涂布機(jī)及多層式簾模涂布機(jī)等各種公知的涂布裝置。
作為涂膜的干燥方法沒(méi)有特殊限定，可適當(dāng)采用一直以來(lái)公知公用的熱風(fēng)干燥、氣體加熱器干燥、高頻干燥、電加熱器干燥、紅外線加熱器干燥、激光干燥、電子線干燥等各種加熱干燥方式。
(光澤層的形成)接著，在基材10的墨接受層12上形成光澤層30。為了在基材10上形成光澤層30，將在溶劑中分散上述光澤層成分后得到的涂布液壓榨涂布在基材10上。作為光澤層30用的涂布液的溶劑沒(méi)有特殊限定，但基于涂布適合性的原因，優(yōu)選水。
涂布液的壓榨涂布如此進(jìn)行在涂布在墨接受層12上的涂布液處于濕潤(rùn)狀態(tài)或半干燥狀態(tài)時(shí)，使基材10在光澤輥21和壓輥22之間通過(guò)，進(jìn)行壓榨涂布。
從干燥條件等的干燥性、對(duì)墨接受層12的接合性、光澤層表面的光澤性考慮，光澤輥21的表面溫度優(yōu)選40～130℃的范圍，更優(yōu)選70～120℃的范圍。光澤輥21的表面溫度不足40℃時(shí)，噴墨記錄體的表面強(qiáng)度有可能降低，或者墨接受層12的粘合劑難以軟化，對(duì)墨接受層12的接合性劣化。在超過(guò)130℃時(shí)，墨接受層12的粘合劑的成膜過(guò)快，因此可能會(huì)降低墨吸收性，或者涂布液沸騰，導(dǎo)致光澤面劣化。
從耐熱性高、得到優(yōu)良的鏡面性考慮，光澤輥21優(yōu)選為金屬輥。并且，表面的平均線中心粗細(xì)優(yōu)選為小于等于10μm。
壓輥22的材質(zhì)沒(méi)有特殊限制，但從利用光澤輥進(jìn)行加熱的方面考慮，優(yōu)選耐熱樹脂。
利用壓輥22進(jìn)行壓榨的優(yōu)選方式為光澤輥21和壓輥22之間的線壓最好為50～3500N/cm，更好為200～3000N/cm。當(dāng)光澤輥21和壓輥22之間的線壓不足50N/cm時(shí)，則有可能線壓難以均勻，光澤性降低，或者光澤層相對(duì)墨接受層12的接合性降低，表面產(chǎn)生裂紋；而當(dāng)線壓超過(guò)3500N/cm時(shí)，因?yàn)橐赃^(guò)度的壓力進(jìn)行壓榨，所以會(huì)破壞墨接受層12和光澤層的間隙，因此可能會(huì)降低墨吸收性。
光澤層的涂布量按照干燥質(zhì)量?jī)?yōu)選0.01～3g/m2，更優(yōu)選0.03～2g/m2，最優(yōu)選0.05～1g/m2。當(dāng)涂布量不足0.01g/m2時(shí)，難以形成充分的光澤層，所以光澤度容易降低。另外，當(dāng)涂布量超過(guò)3g/m2時(shí)，雖然容易得到光澤度，但墨吸收性、記錄濃度容易降低。
另外，在光澤層中使用膠態(tài)二氧化硅、氧化鋁等一次粒子作為微粒時(shí)，墨吸收速度溶劑容易降低，因此光澤層的厚度優(yōu)選為0.02～4μm，更優(yōu)選為0.05～2μm。另外，兼顧墨吸收容量和墨吸收速度考慮，光澤層的厚度優(yōu)選為小于等于墨接受層12整體厚度的1/10，更優(yōu)選為小于等于1/20。
另外，壓榨涂布用圖1所示的方法進(jìn)行。即，將光澤輥21和壓輥22左右并列配置，在光澤輥21和壓輥22的切線的上部形成涂布液貯存部，使基材10縱向通過(guò)，但是，例如也可以將光澤輥和壓輥上下并列配置，在墨接受層上供給涂布液，使層壓體橫向通過(guò)。
另外，墨接受層、光澤層等涂層的形成方法不限定于上述的涂布涂布液的方法。例如，也可以按照日本專利特開平11-254817號(hào)公報(bào)的記載，以干式涂布混合有粉末狀涂層成分的物質(zhì)，再將其加熱熔融后定影而形成。
以下列舉實(shí)施例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，當(dāng)然并不限定于這些實(shí)施例。另外，實(shí)施例中的“份”和“％”只有沒(méi)有特別說(shuō)明，分別表示質(zhì)量份和質(zhì)量％。
(紙支持體的制作)將CSF(JIS P 8121)打漿至250mL的針葉樹木材牛皮紙漿(NBKP)和CSF打漿至250mL的闊葉樹木材牛皮紙漿(LBKP)以質(zhì)量比為2∶8的比例混合，調(diào)制濃度為0.5％的紙漿生料。在該紙漿生料中相對(duì)紙漿絕干質(zhì)量添加陽(yáng)離子化淀粉2.0％、烷基烯酮二聚物0.4％、陰離子化聚丙烯酰胺樹脂0.1％、聚酰胺聚胺氯甲代氧丙環(huán)樹脂0.7％，充分?jǐn)嚢瑁{(diào)制抄紙用紙漿生料。用長(zhǎng)網(wǎng)造紙機(jī)對(duì)上述組成的紙漿生料進(jìn)行造紙，將得到的濕紙幅通過(guò)干燥機(jī)、施膠壓榨機(jī)、壓光機(jī)，制造基重為180g/m2、密度為1.0g/cm3的原紙。在上述施膠壓榨工序中使用的施膠壓榨液是將羧基改性聚乙烯醇和氯化鈉以2∶1的質(zhì)量比混合，將其加入水中并加熱溶解，調(diào)制為5％的濃度而得到的，將該施膠壓榨液涂布在未施膠壓榨的原紙的雙面，使總涂布量為25ml/m2，從而制造施膠壓榨原紙。
(聚烯烴樹脂組合物1的調(diào)制)將長(zhǎng)鏈型低密度聚乙烯樹脂(密度為0.926g/cm3、熔融指數(shù)(melt index)為20g/10分)35份、低密度聚乙烯樹脂(密度為0.919g/cm3、熔融指數(shù)為2g/10分)50份、アナタ一ゼ型二氧化鈦(商品名A-220、石原產(chǎn)業(yè)社制造)15份、硬脂酸鋅0.1份、抗氧化劑(商品名Irganox1010、チバガイギ一社制造)0.03份、群青(商品名青口群青NO.2000、第一化成社制造)0.09份、熒光增白劑(商品名UVITEX OB、チバガイギ一社制造)0.3份混合，調(diào)制聚烯烴樹脂組合物1。
(聚烯烴樹脂組合物2的調(diào)制)將高密度聚乙烯樹脂(密度為0.954g/cm3、熔融指數(shù)(meltindex)為20g/10分)65份、低密度聚乙烯樹脂(密度為0.919g/cm3、熔融指數(shù)為2g/10分)35份混合并熔融，調(diào)制聚烯烴樹脂組合物2。
(包覆有樹脂的支持體的制作)在所述紙支持體的雙面實(shí)施電暈放電處理后，用具有T型模的熔融擠壓機(jī)(熔融溫度為320℃)涂布用班伯里密煉機(jī)混合分散過(guò)的聚烯烴樹脂組合物1，使紙支持體的毛毯面?zhèn)鹊耐坎剂繛?5g/m2，用鏡面冷卻輥對(duì)毛毯面?zhèn)冗M(jìn)行冷卻凝固，用粗面冷卻輥對(duì)線纜面?zhèn)冗M(jìn)行冷卻凝固，制造平滑度(王研式、J.TAPPI No.5)為6000秒、不透明度(JIS P8138)為93％的包覆有樹脂的支持體。
(第二墨接受層用涂布液的調(diào)制)將包括濕法非晶形二氧化硅(商品名Sylojet703A、GRACEDavison社制造)100份、聚乙烯醇(商品名PVA-145、聚合度4500、皂度99％、クラレ社制造)的7％水溶液51份、水6份的組合物混合并攪拌，調(diào)制第二墨接受層用涂布液。
(第二墨接受層的涂布)將第二墨接受層用涂布液用模具涂布機(jī)涂布在包覆有樹脂的支持體上并干燥，且使干燥涂布量為20g/m2，由此設(shè)置第二墨接受層。厚度為30μm。
(第一墨接受層用涂布液A的調(diào)制)反復(fù)進(jìn)行以下工序的組合利用高速攪拌機(jī)在離子交換水中分散粉碎氣相法二氧化硅(商品名レオロシ一ルQS-30、平均一次粒徑為9nm、比表面積為300m2/g、トクヤマ社制造)的工序、以及接著使用超微?；b置(商品名ナノマイザ一、ナノマイザ一社制造)進(jìn)行粉碎分散的工序，將得到的分散液分級(jí)，調(diào)整平均二次粒徑為80nm的1％分散液。相對(duì)該分散液的二氧化硅固體成分換算100份，作為陽(yáng)離子性化合物添加具有五元環(huán)脒結(jié)構(gòu)的聚乙烯胺共聚物氯化銨鹽(商品名ハイマツクスSC-700M、分子量3萬(wàn)、ハイモ社制造)11份(固體成分換算)，得到增粘的凝聚體分散液。再次利用高速攪拌機(jī)分散該增粘的凝聚體分散液，并使用超微?；b置反復(fù)進(jìn)行粉碎分散，調(diào)制平均二次粒徑為200的10％陽(yáng)離子化二氧化硅分散液。接著，在該陽(yáng)離子化二氧化硅分散液100份中混合包括聚乙烯醇(商品名PVA-145、聚合度4500、皂化度99％、クラレ社制造)的7％水溶液26份、水22份的組合物并攪拌，調(diào)制第一墨接受層用涂布液A。
(第一墨接受層的涂布)在第二墨接受層上用刮棒涂布機(jī)以20g/m2涂布0.5％硼砂水后，用模具涂布機(jī)涂布第一墨接受層用涂布液A并干燥，使得干燥涂布量為10g/m2，從而設(shè)置第一墨接受層。厚度為18μm。
(陽(yáng)離子性顏料分散液1的調(diào)制)將聚氯化鋁50％水溶液(商品名タキバイン#1500、多木化學(xué)社制造)40份用離子交換水400份稀釋并攪拌，升溫至30℃。接著，將分散在陰離子性一次粒子中的膠態(tài)二氧化硅(商品名カタロイドSI-50、平均一次粒徑25nm、觸媒化成工業(yè)社制造)用離子交換水700份稀釋后，以每1分鐘8份的比例添加到所述聚氯化鋁水溶液中同時(shí)攪拌。添加后，將溫度保持為35℃，攪拌1小時(shí)。接著，使用對(duì)置碰撞型粉碎分散裝置Ultimaizer系統(tǒng)(型號(hào)HJP-25005、スギノマシン社制造)，以200MPa的壓力反復(fù)粉碎分散作業(yè)，然后加入離子交換水，調(diào)制平均粒徑為35nm的16％陽(yáng)離子性顏料分散液1。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為1％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為52.9mV。
(復(fù)合微粒分散液A的調(diào)制)將所述陽(yáng)離子性顏料分散液1用離子交換水稀釋為10％，在陰離子性化合物丙烯酸-馬來(lái)酸共聚物的鈉鹽(商品名ポイズ520、花王社制造)為5％的水溶液83份中邊攪拌邊添加該分散液459份，再添加14份的離子交換水后，用高速攪拌機(jī)(轉(zhuǎn)速1500rpm)分散30分左右。使用對(duì)置碰撞型粉碎分散裝置Ultimaizer系統(tǒng)(型號(hào)HJP-25005、スギノマシン社制造)，以150MPa的壓力反復(fù)對(duì)該分散液進(jìn)行粉碎分散作業(yè)，調(diào)制平均粒徑為40nm的9％復(fù)合微粒分散液A。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、MalvernInstruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為40.0mV。
(光澤層用涂布液A的調(diào)制)將含有復(fù)合微粒分散液A 163份、油酸銨(商品名DEF-116T、日新化學(xué)研究所社制造)2份、炔烴鄰二醇(アセレチングリコ一ル)的環(huán)氧乙烷添加物(商品名オルフインE1004、日信化學(xué)社制造)7份、水827份的組合物混合并攪拌，調(diào)制光澤層用涂布液A。
(噴墨記錄體的制作)在墨接受層設(shè)置在包覆有樹脂的支持體上的基材上，使用圖1的裝置涂布光澤層用涂布液A，同時(shí)以線壓2000N/cm壓接于表面溫度為100℃的鍍鉻上光鏡面鼓，直接利用鏡面輥脫模，用干燥機(jī)干燥，設(shè)置光澤層，由此制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液B外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制)將所述陽(yáng)離子性顏料分散液1用離子交換水稀釋為10％，在陰離子性化合物丙烯酸均聚物的鈉鹽(商品名ポイズ530、花王社制造)為5％的水溶液65份中添加該分散液467份同時(shí)攪拌，再添加23份的離子交換水后，用高速攪拌機(jī)(轉(zhuǎn)速1500rpm)分散30分左右。使用對(duì)置碰撞型粉碎分散裝置Ultimaizer系統(tǒng)(型號(hào)HJP-25005、スギノマシン社制造)，以150MPa的壓力反復(fù)對(duì)該分散液進(jìn)行粉碎分散作業(yè)，調(diào)制平均粒徑為40nm的9％復(fù)合微粒分散液B。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、MalvernInstruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-54.7mV。
(光澤層用涂布液B的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液B外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液B。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液C外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(陽(yáng)離子性顏料分散液2的調(diào)制)將分散在陰離子性一次粒子中的膠態(tài)二氧化硅(商品名カタロイドSI-50、平均一次粒徑25nm、觸媒化成工業(yè)社制造)用離子交換水稀釋為20％，將該分散液500份添加到陽(yáng)離子性化合物二烯丙基銨類聚合物(商品名PAS-H-10L、分子量大約20萬(wàn)、四級(jí)銨、日東紡社制造)為5％的水溶液100份中同時(shí)攪拌，再添加18份的離子交換水后，用高速攪拌機(jī)(轉(zhuǎn)速1500rpm)分散30分左右。使用對(duì)置碰撞型粉碎分散裝置Ultimaizer系統(tǒng)(型號(hào)HJP-25005、スギノマシン社制造)，以150MPa的壓力反復(fù)對(duì)該分散液進(jìn)行粉碎分散作業(yè)，調(diào)制平均粒徑為30nm的17％陽(yáng)離子性顏料分散液2。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、MalvernInstruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為1％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為55.1mV。
(復(fù)合微粒分散液C的調(diào)制)除了取代陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用陽(yáng)離子性顏料分散液2外，用與實(shí)施例2的復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制同樣的方法調(diào)制平均粒徑為35nm的9％復(fù)合微粒分散液C。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-49.4mV。
(光澤層用涂布液C的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液C外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液C。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液D外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(復(fù)合微粒分散液D的調(diào)制)除了取代陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用分散在陽(yáng)離子性一次粒子中的膠態(tài)二氧化硅(商品名スノ一テツクスAK-L、平均一次粒徑45nm、日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)社制造)外，用與實(shí)施例2的復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制同樣的方法調(diào)制平均粒徑為50nm的9％復(fù)合微粒分散液D。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、MalvernInstruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-53.7mV。
(光澤層用涂布液D的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液D外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液D。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液E外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(復(fù)合微粒分散液E的調(diào)制)除了取代陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用分散在陽(yáng)離子性一次粒子中的膠態(tài)二氧化硅(商品名Sylojet4000C、平均一次粒徑35nm、GRACEDavison社制造)外，用與實(shí)施例2的復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制同樣的方法調(diào)制平均粒徑為40nm的9％復(fù)合微粒分散液E。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-55.2mV。
(光澤層用涂布液E的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液E外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液E。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液F外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(復(fù)合微粒分散液F的調(diào)制)除了取代陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用分散在陽(yáng)離子性一次粒子中的膠態(tài)二氧化硅(商品名Sylojet4001、平均一次粒徑35nm、GRACE Davison社制造)外，用與實(shí)施例2的復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制同樣的方法調(diào)制平均粒徑為40nm的9％復(fù)合微粒分散液F。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-45.5mV。
(光澤層用涂布液F的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液F外，用與實(shí)施例1的光澤層用涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液F。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液G外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(陽(yáng)離子性顏料分散液3的調(diào)制)在離子交換水3175份中加入0.2％的鹽酸水溶液500份并攪拌，同時(shí)加入γ結(jié)晶的氧化鋁粉狀體(商品名AKP-G015、平均一次粒徑15nm、平均粒徑2.4μm、住友化學(xué)社制造)500份并分散，然后邊攪拌邊升溫至80℃。接著，邊攪拌邊緩緩添加強(qiáng)酸性陽(yáng)離子交換樹脂(商品名バイオレツクスMS2-501、バイオレツト社制造)2500份，保持為80℃，同時(shí)攪拌10小時(shí)。接著，再冷卻至室溫后，除去離子交換樹脂，再進(jìn)行濃縮，調(diào)制平均粒徑為110nm的12％陽(yáng)離子性顏料分散液3。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.05％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為52.1mV。
(復(fù)合微粒分散液G的調(diào)制)取代陽(yáng)離子性顏料分散液1的10％分散液467份而使用陽(yáng)離子性顏料分散液3的10％分散液455份，取代陰離子性化合物丙烯酸均聚物的鈉鹽為5％的水溶液65份而使用91份，取代離子交換水23份而使用10份，除此以外，用與實(shí)施例2的復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制同樣的方法調(diào)制平均粒徑為120nm的9％復(fù)合微粒分散液G。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.05％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-43.7mV。
(光澤層用涂布液G的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液G外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液G。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液H外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(復(fù)合微粒分散液H的調(diào)制)將偽勃姆石溶膠(商品名カタロイドAS-3、平均一次粒徑9nm、平均粒徑200nm、觸媒化成工業(yè)社制造)463份添加到陰離子性化合物丙烯酸均聚物的鈉鹽為5％的水溶液59份中并攪拌，再添加49份的離子交換水后，用高速攪拌機(jī)(轉(zhuǎn)速1500rpm)分散30分左右，調(diào)制平均粒徑為300nm的7％復(fù)合微粒分散液H。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.05％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-39.3mV。
(光澤層用涂布液H的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用210份復(fù)合微粒分散液H外、取代水827份而使用781份以外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液H。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液I外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(復(fù)合微粒分散液I的調(diào)制)使用對(duì)置碰撞型粉碎分散裝置Ultimaizer系統(tǒng)(型號(hào)HJP-25005、スギノマシン社制造)，以200MPa的壓力反復(fù)對(duì)復(fù)合微粒分散液H進(jìn)行粉碎分散作業(yè)，調(diào)制平均粒徑為110nm的7％復(fù)合微粒分散液I。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.05％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-48.1mV。
(光澤層用涂布液I的調(diào)制)除了取代使用210份復(fù)合微粒分散液H而使用210份復(fù)合微粒分散液I外，用與實(shí)施例8的光澤層涂布液H的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液I。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液J外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(陽(yáng)離子性顏料分散液4的調(diào)制)使用對(duì)置碰撞型粉碎分散裝置Ultimaizer系統(tǒng)(型號(hào)HJP-25005、スギノマシン社制造)，以200MPa的壓力反復(fù)對(duì)θ結(jié)晶為60％、γ結(jié)晶為20％、δ結(jié)晶為20％的氣相法氧化鋁溶膠(商品名CAB-O-SPERSE PG 003、平均一次粒徑20nm、平均粒徑150nm、CABOT社制造)進(jìn)行粉碎分散作業(yè)，調(diào)制平均粒徑為100nm的40％陽(yáng)離子性顏料分散液4。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.05％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為61.5mV。
(復(fù)合微粒分散液J的調(diào)制)除了取代陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用陽(yáng)離子性顏料分散液4以外，用與實(shí)施例2的復(fù)合微粒分散液B的調(diào)制同樣的方法調(diào)制平均粒徑為105nm的9％復(fù)合微粒分散液J。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將該分散液用離子交換水稀釋為0.05％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-58.6mV。
(光澤層用涂布液J的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用163份復(fù)合微粒分散液J外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液J。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液K外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液K的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用122份復(fù)合微粒分散液C和41份復(fù)合微粒分散液G外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液K。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液L外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液L的調(diào)制)除了取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用122份復(fù)合微粒分散液F和41份復(fù)合微粒分散液G外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液L。
除了取代第一墨接受層用涂布液A而使用下述第一墨接受層用涂布液B外，用與實(shí)施例6同樣的方法制作噴墨記錄體。第一墨接受層的干燥涂布量為10g/m2，厚度為18μm。
(第一墨接受層用涂布液B的調(diào)制)將氣相法二氧化硅(商品名アエロジル300、平均一次粒徑為7nm、比表面積為300m2/g、日本アエロジル社制造)100份、50摩爾％甲氧基羰基改性聚烯丙基銨鹽酸鹽(質(zhì)量平均分子量大約為1.5萬(wàn))的20％水溶液50份、離子交換水497份混合。由此得到的混合物利用攪拌裝置分散后，使用超微?；b置進(jìn)行粉碎分散處理。接著，在得到的處理液中混合包括聚乙烯醇(商品名PVA-145、クラレ社制造、皂化度為99％、平均聚合度為4500)的7％水溶液283份、水368份的組合物并攪拌，由此調(diào)制第一墨接受層用涂布液B。
除了取代第一墨接受層用涂布液A而使用下述第一墨接受層用涂布液C外，用與實(shí)施例6同樣的方法制作噴墨記錄體。第一墨接受層的干燥涂布量為10g/m2，厚度為17μm。
(第一墨接受層用涂布液C的調(diào)制)將氣相法二氧化硅(商品名アエロジル300、平均一次粒徑為7nm、比表面積為300m2/g、日本アエロジル社制造)100份、50摩爾％甲氧基羰基改性聚烯丙基銨鹽酸鹽(質(zhì)量平均分子量大約為1.5萬(wàn))的20％水溶液50份、離子交換水497份混合。由此得到的混合物利用攪拌裝置分散后，使用超微粒化裝置進(jìn)行粉碎分散處理。接著，在得到的處理液中混合包括聚乙烯醇(商品名PVA-245、クラレ社制造、皂化度為88％、平均聚合度為4500)的7％水溶液346份、水349份的組合物并攪拌，由此調(diào)制第一墨接受層用涂布液C。
(含交聯(lián)劑層用涂布液的調(diào)制)在50℃的溫水874份中添加陽(yáng)離子化纖維素(商品名ポイズC-150L、花王社制造、平均聚合度為1500)1份并攪拌，溶解后添加50份硼砂并攪拌，使其溶解。再混合炔烴鄰二醇的環(huán)氧乙烷添加物(商品名オルフインE1004、日信化學(xué)社制造)的0.1％水溶液75份并攪拌，從而調(diào)制含交聯(lián)劑層用涂布液。
(含交聯(lián)劑層的涂布)用刮棒涂布機(jī)在包覆有樹脂的支持體上涂布含交聯(lián)劑層用涂布液并干燥，使得干燥涂布量為1.2g/m2，從而設(shè)置含交聯(lián)劑層。
(第一墨接受層用涂布液D的調(diào)制)將氣相法二氧化硅(商品名アエロジル300、平均一次粒徑為7nm、比表面積為300m2/g、日本アエロジル社制造)100份、50摩爾％甲氧基羰基改性聚烯丙基銨鹽酸鹽(質(zhì)量平均分子量大約為1.5萬(wàn))的20％水溶液50份、離子交換水497份混合。由此得到的混合物利用攪拌裝置分散后，使用超微?；b置進(jìn)行粉碎分散處理。接著，在得到的處理液中混合包括聚乙烯醇(商品名PVA-245、クラレ社制造、皂化度為88％、平均聚合度為4500)的8％水溶液302份、水9份的組合物并攪拌，從而調(diào)制第一墨接受層用涂布液D。
(第一墨接受層的涂布)在設(shè)置有含交聯(lián)劑層、包覆有樹脂的支持體上，用模具涂布機(jī)涂布第一墨接受層用涂布液D并干燥，使得干燥涂布量為30g/m2，從而設(shè)置第一墨接受層。厚度為51μm。
(噴墨記錄體的制作)在包覆有樹脂的支持體上依次設(shè)置有含交聯(lián)劑層和墨接受層的基材上，使用圖1的裝置涂布上述光澤層用涂布液F，同時(shí)以線壓2000N/cm壓接于表面溫度為100℃的鍍鉻上光鏡面鼓，直接利用鏡面輥脫模，用干燥機(jī)干燥后設(shè)置光澤層，由此制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(第一墨接受層用涂布液E的微粒成分液的調(diào)制)將氣相法二氧化硅(商品名アエロジル300、平均一次粒徑為7nm、比表面積為300m2/g、日本アエロジル社制造)100份、50摩爾％甲氧基羰基改性聚烯丙基銨鹽酸鹽(質(zhì)量平均分子量大約為1.5萬(wàn))的20％水溶液50份、離子交換水497份混合。由此得到的混合物利用攪拌裝置分散后，使用超微?；b置進(jìn)行粉碎分散處理。接著，在得到的處理液中混合水76份并攪拌，從而調(diào)制第一墨接受層用涂布液E的微粒成分液。
(第一墨接受層用涂布液E的PVA類成分液的調(diào)制)將包括聚乙烯醇(商品名PVA-235、クラレ社制造、皂化度為88％、聚合度3500)的7％水溶液346份、水68份的組合物混合并攪拌，從而調(diào)制第一墨接受層用涂布液E的PVA類成分液。
(第一墨接受層用涂布液E的交聯(lián)劑成分液的調(diào)制)在50℃的溫水101份中添加硼酸2份并攪拌，使其溶解，調(diào)制第一墨接受層用涂布液E的交聯(lián)劑成分液。
(第一墨接受層用涂布液E的調(diào)制)將第一墨接受層用涂布液E的微粒成分液、第一墨接受層用涂布液E的PVA類成分液、第一墨接受層用涂布液E的交聯(lián)劑成分液按下列的質(zhì)量比率連續(xù)供給靜態(tài)攪拌機(jī)進(jìn)行混合，調(diào)制第一墨接受層用涂布液E。靜態(tài)攪拌機(jī)連接使用了兩根18元件(element)。
(各成分液的質(zhì)量比率)第一墨接受層用涂布液E的微粒成分液7第一墨接受層用涂布液E的PVA類成分液 4第一墨接受層用涂布液E的交聯(lián)劑成分液 1(第一墨接受層的涂布)在包覆有樹脂的支持體上，用刮棒涂布機(jī)涂布第一墨接受層用涂布液E并干燥，且使干燥涂布量為23g/m2，由此設(shè)置第一墨接受層。厚度為39μm。
(噴墨記錄體的制作)在包覆有樹脂的支持體上設(shè)置有墨接受層的基材上，使用圖1的裝置涂布所述光澤層用涂布液F，同時(shí)以線壓2000N/cm壓接于表面溫度為100℃的鍍鉻上光鏡面鼓，直接利用鏡面輥脫模，用干燥機(jī)干燥后設(shè)置光澤層，由此制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
除取代第一墨接受層用涂布液D而使用下述第一墨接受層涂布液E外，用與實(shí)施例15同樣的方法制作噴墨記錄體。第一墨接受層的干燥涂布量為32g/m2，厚度為54μm。
除了取代光澤層用涂布液F而使用下述光澤層用涂布液X外，用與實(shí)施例6、實(shí)施例15或?qū)嵤├?6中任一實(shí)施例同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(酪蛋白溶液的調(diào)制)在50℃的溫水226份中混合氨水溶液4份并攪拌，然后再混合酪蛋白(商品名クラチツクカゼイン、ニュ一ジ一ランド生產(chǎn))40份并攪拌，從而調(diào)制酪蛋白溶液。
(光澤層用涂布液X的調(diào)制)。
將含有復(fù)合微粒分散液F446份、油酸銨(商品名DEF-116T、日新化學(xué)研究所社制造)5份、炔烴鄰二醇的環(huán)氧乙烷添加物(商品名オルフインE1004、日信化學(xué)社制造)20份、上述酪蛋白溶液27份、水250份的組合物混合并攪拌，調(diào)制光澤層用涂布液X。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液M外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液M的調(diào)制)取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用以陰離子性一次粒子的狀態(tài)分散的膠態(tài)二氧化硅(商品名スノ一テツクスOL、平均一次粒徑45nm、日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)社制造)70份，取代使用水827份而使用921份，除此之外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液M。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述膠態(tài)二氧化硅用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為-51.9mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液N外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液N的調(diào)制)取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用以陰離子性一次粒子的狀態(tài)分散的膠態(tài)二氧化硅(商品名スノ一テツクスOL、平均一次粒徑45nm、GRACE Davison社制造)37份，取代水827份而使用954份，除此以外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液N。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述膠態(tài)二氧化硅用離子交換水稀釋為0.5％后，測(cè)量的結(jié)果是ξ電位為-51.6mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液O外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液O的調(diào)制)取代使用163份復(fù)合微粒分散液A而使用以陰離子性一次粒子的狀態(tài)分散的膠態(tài)二氧化硅(商品名カタロイドSI-45P、平均一次粒徑為45nm、觸媒化成工業(yè)社制造)36份，取代水827份而使用955份，除此以外，用與實(shí)施例1的光澤層涂布液A的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液O。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述膠態(tài)二氧化硅用離子交換水稀釋為0.5％后，測(cè)量的結(jié)果是ξ電位為-45.1mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液P外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液P的調(diào)制)將含有89份陽(yáng)離子性顏料分散液1、硬脂酰三甲基氯化氨(商品名コ一タミン、花王社制造)3份、炔烴鄰二醇的環(huán)氧乙烷添加物(商品名オルフインE1004、日信化學(xué)社制造)7份、水901份的組合物混合并攪拌，調(diào)制光澤層用涂布液P。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液Q外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液Q的調(diào)制)除了取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用84份陽(yáng)離子性顏料分散液2、取代水901份而使用906以外，用與比較例4的光澤層用涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液Q。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液R外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液R的調(diào)制)取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用以陽(yáng)離子性一次粒子的狀態(tài)分散的膠態(tài)二氧化硅(商品名スノ一テツクスAK-L、平均一次粒徑45nm、日產(chǎn)化學(xué)工業(yè)社制造)68份，取代水901份而使用922份，除此以外，用與比較例4的光澤層用涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液R。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述膠態(tài)二氧化硅用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為51.1mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液S外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液S的調(diào)制)除了取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用以陽(yáng)離子性一次粒子的狀態(tài)分散的膠態(tài)二氧化硅(商品名Sylojet4000C、平均一次粒徑35nm、GRACE Davison社制造36份，取代水901份而使用955份，除此以外，用與比較例4的光澤層涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液S。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述膠態(tài)二氧化硅用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為49.9mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液T外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液T的調(diào)制)取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用以陽(yáng)離子性一次粒子的狀態(tài)分散的膠態(tài)二氧化硅(商品名Sylojet4001、平均一次粒徑35nm、GRACE Davison社制造)36份，取代水901份而使用955份，除此以外，用與比較例4的光澤層涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液T。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述膠態(tài)二氧化硅用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為46.3mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液U外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液U的調(diào)制)取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用119份陽(yáng)離子分散液3，取代水901份而使用871份，除此以外，用與比較例4的光澤層涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液U。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液V外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液V的調(diào)制)取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用178份陽(yáng)離子性偽勃姆石溶膠(商品名カタロイドAS-3、平均一次粒徑9nm、平均粒徑200nm、觸媒化成工業(yè)社制造)，取代水901份而使用812份，除此以外，用與比較例4的光澤層涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液V。使用ξ電位測(cè)量裝置(型號(hào)ZETASIZER 2000、Malvern Instruments社制造)將上述偽勃姆石溶膠用離子交換水稀釋為0.5％后，進(jìn)行測(cè)量，結(jié)果是ξ電位為36.2mV。
除了取代光澤層用涂布液A而使用下述光澤層用涂布液W外，用與實(shí)施例1同樣的方法制作噴墨記錄體。光澤層的厚度為0.2μm。
(光澤層用涂布液W的調(diào)制)取代使用89份陽(yáng)離子性顏料分散液1而使用36份陽(yáng)離子顏料分散液4，取代水901份而使用955份，除此以外，用與比較例4的光澤層用涂布液P的調(diào)制同樣的方法調(diào)制光澤層用涂布液W。
關(guān)于上述各實(shí)施例及比較例，對(duì)脫模性、20度表面光澤度、75度表面光澤度、墨吸收性、打印濃度、顏料墨耐摩擦性進(jìn)行評(píng)價(jià)的結(jié)果如表1所示。按照下列方法進(jìn)行各評(píng)價(jià)。
(脫模性)在形成光澤層時(shí)，對(duì)從鏡面輥脫模的脫模性進(jìn)行功能評(píng)價(jià)。
○沒(méi)有問(wèn)題，可連續(xù)操作。
△在操作中途鏡面輥產(chǎn)生污垢的頻率高，實(shí)用上有問(wèn)題。
×在操作中途鏡面輥產(chǎn)生污垢的頻率非常高，實(shí)用上有問(wèn)題。
(20度表面光澤度)用JIS Z 8741所記載的方法對(duì)噴墨記錄體的20度表面光澤度進(jìn)行測(cè)量。
(75度表面光澤度)用JIS Z 8142所記載的方法對(duì)噴墨記錄體的75度表面光澤度進(jìn)行測(cè)量。
(墨吸收性)墨吸收性是使用染料噴墨打印機(jī)PIXUS iP4100(佳能公司制造)在噴墨記錄體上進(jìn)行藍(lán)色Beta(ベタ)打印，通過(guò)目視觀察該Beta打印部的墨吸收性，進(jìn)行功能評(píng)價(jià)。
◎Beta打印部上看不出斑點(diǎn)，狀態(tài)良好△Beta打印部上稍微能看出斑點(diǎn)，但實(shí)用上沒(méi)問(wèn)題。
×Beta打印部上多少能看出斑點(diǎn)，根據(jù)使用狀況存在問(wèn)題。
(打印濃度)打印濃度是使用染料噴墨打印機(jī)PM-G820(精工愛普生公司制造)和染料噴墨打印機(jī)PIXUS iP8600(佳能公司制造)，用各打印機(jī)在噴墨記錄體上進(jìn)行黑色Beta打印，放置24小時(shí)后，使用グレタグマクベス反射濃度計(jì)(グレタグマクベス社制造、RD-19I)測(cè)量該Beta打印部的打印濃度，算出5點(diǎn)測(cè)定的平均打印濃度。
(顏料墨耐摩擦性)顏料墨耐摩擦性是使用顏料噴墨打印機(jī)PX-G920(精工愛普生公司制造)，在噴墨記錄體上進(jìn)行黑色Beta打印，打印后馬上手指擦該Beta打印部五次，進(jìn)行功能評(píng)價(jià)。
◎Beta打印部上的墨不脫落，狀態(tài)良好
△Beta打印部上的墨大多數(shù)不脫落，實(shí)用上沒(méi)問(wèn)題。
×Beta打印部上的墨容易脫落，實(shí)用上有問(wèn)題。
表1

如表1所示，實(shí)施例的噴墨記錄體在形成光澤層時(shí)，從鏡面輥上脫模的脫模性均優(yōu)良，同時(shí)顏料的耐摩擦性也良好，而且其他的打印適合性也良好。
與此相反，對(duì)于在光澤層上使用陰離子顏料的比較例1～比較例3，顏料的耐摩擦性存在問(wèn)題。另外，對(duì)于在光澤層上使用陽(yáng)離子顏料的比較例4～比較例11，因?yàn)橹荒苁褂藐?yáng)離子性的脫模劑，所以在形成光澤層時(shí)，從鏡面輥上脫模的脫模性存在問(wèn)題。
符號(hào)說(shuō)明1噴墨記錄體 10基材11支持體 12墨接受層21光澤輥 22壓輥30光澤層
權(quán)利要求
1.一種復(fù)合微粒，其特征在于，包括陽(yáng)離子性微粒，分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位為正；以及陰離子性化合物，承載在所述陽(yáng)離子性微粒的表面上；并且所述復(fù)合微粒分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位為負(fù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合微粒，其特征在于所述陰離子性化合物為羧酸系化合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合微粒，其特征在于所述陽(yáng)離子性微粒是在二氧化硅微粒的表面上承載有陽(yáng)離子性化合物的陽(yáng)離子性二氧化硅。
4.一種分散液，其特征在于是將權(quán)利要求1所述的復(fù)合微粒分散于水系分散介質(zhì)中而形成的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分散液，其特征在于所述復(fù)合微粒的ξ電位為-10～-150mV。
6.一種分散液的制造方法，用于制造權(quán)利要求4所述的分散液，其特征在于包括如下工序凝聚工序，在水系分散介質(zhì)中混合陽(yáng)離子性微粒和陰離子性化合物使其形成凝聚物；以及粉碎工序，利用機(jī)械裝置在所述分散介質(zhì)中粉碎所述凝聚物。
7.一種噴墨記錄體，其特征在于設(shè)置有含有權(quán)利要求1所述的復(fù)合微粒的涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴墨記錄體，其特征在于含有所述復(fù)合微粒的涂層是由含有分散液的涂布液形成的，且所述涂布液是將所述復(fù)合微粒分散于水中而形成的。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴墨記錄體，其特征在于含有所述復(fù)合微粒的涂層設(shè)置在最外層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的噴墨記錄體，其特征在于含有所述復(fù)合微粒的涂層含有陰離子性脫模劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴墨記錄體，其特征在于在非透氣性或低透氣性的支持體上設(shè)置墨接受層而形成的基材的所述墨接受層上，設(shè)置有含有所述復(fù)合微粒的涂層。
12.一種噴墨記錄體的制造方法，其特征在于包括如下工序向在非透氣性或低透氣性的支持體上設(shè)置墨接受層而形成的基材的所述墨接受層上，供給含有權(quán)利要求1所述的復(fù)合微粒及陰粒子性脫模劑的涂布液；在所述涂布液與光澤輥接觸的狀態(tài)下使所述基材在光澤輥和壓輥之間通過(guò)，進(jìn)行壓榨涂布，形成光澤層；以及在所述光澤層處于濕潤(rùn)狀態(tài)或半干燥狀態(tài)時(shí)，從光澤輥上剝離所述光澤層。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提供可共存成分的選擇范圍寬且通用性高的復(fù)合微粒及其分散液、以及該分散液的制造方法。并提供通過(guò)使用這種復(fù)合微粒而具有高品質(zhì)的噴墨記錄體及噴墨記錄體的制造方法。在噴墨記錄體的涂層中混合復(fù)合微粒，該復(fù)合微粒包括在分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位為正的陽(yáng)離子性微粒和承載在該陽(yáng)離子性微粒的表面上的陰離子性化合物，并且，該復(fù)合微粒在分散于水中形成分散液時(shí)的ξ電位為負(fù)。
文檔編號(hào)B41M5/50GK1891764SQ200610090480
公開日2007年1月10日 申請(qǐng)日期2006年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月29日
發(fā)明者鈴木茂, 石田立治 申請(qǐng)人:王子制紙株式會(huì)社