專(zhuān)利名稱(chēng)：一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃。

背景技術(shù)：
目前，鍍膜玻璃由于其優(yōu)良的性能已經(jīng)在各個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，然而，其在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過(guò)程中，基片膜層容易劃傷、磨損，并且，銀層容易氧化，另外，鍍膜玻璃在進(jìn)行各種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層等處理后，物理化學(xué)性能容易發(fā)生改變，針對(duì)此問(wèn)題，目前國(guó)內(nèi)大部分玻璃深加工企業(yè)使用PE有機(jī)貼膜保護(hù)基片膜層，它可以起到一定的保護(hù)效果。
然而，使用基片時(shí)，需人工揭膜，該保護(hù)膜不能重復(fù)利用且不易降解，批量使用會(huì)造成大量的固體廢物，而這對(duì)環(huán)境造成了嚴(yán)重的負(fù)面影響。
因此，找到一種合適的環(huán)保材料替代PE有機(jī)保護(hù)膜對(duì)于本領(lǐng)域而言已經(jīng)勢(shì)在必行。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，以克服現(xiàn)有PE有機(jī)保護(hù)膜需人工揭膜，不易降解而造成大量的固體廢物的缺陷。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提出一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，包括玻璃基片；功能膜層，鍍制于玻璃基片表面；以及類(lèi)金剛石膜層，鍍制于功能膜層表面。
其中，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽(yáng)光控制膜層。
其中，較佳地，該功能薄膜最外層為Si3N4層、Ti3N4層、TiO2層、SnO2層、SiO2層、ZnO層或SnZnO3層，該功能膜層的內(nèi)層可以包括TiO2層、NiCr層、Ag層、Cu層、SiO2層、ZnO層、SnZnO3層等常規(guī)的膜層材料。
其中，該功能膜層最外層的厚度較佳為10～120nm。
其中，該類(lèi)金剛石膜層較佳為C膜層或CN4膜層。
其中，該類(lèi)金剛石膜層的厚度較佳為5～40nm，更佳為10～30nm，最佳為15～20nm。
本實(shí)用新型所提供的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，由于類(lèi)金剛石薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，該膜層可避免PE有機(jī)貼膜的一系列問(wèn)題，該薄膜對(duì)基片膜層起到很好的保護(hù)效果，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過(guò)程中，可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。并且，鍍制該膜層的基片仍可進(jìn)行各種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層、合中空玻璃等。另外，該薄膜可通過(guò)鋼化、半鋼化或彎鋼化等熱處理方式去除，去除后基片恢復(fù)原有膜層結(jié)構(gòu)及性能。

圖1為本實(shí)用新型類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例1的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例2的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例3的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例4的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中，附圖標(biāo)記 100玻璃基片200功能膜層 300類(lèi)金剛石膜層 0玻璃基片 1功能膜層 2Si3N4層 3、6、9、12類(lèi)金剛石膜層 4功能膜層5SiO2層 7功能膜層，包括Cr層、SnZnO3層 8TiO2層10功能膜層 11SnZnO3層 具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型闡述了一種鍍膜玻璃的保護(hù)方法，即在鍍膜玻璃的外表面鍍制一層類(lèi)金剛石薄膜，類(lèi)金剛石(diamond-like carbon，簡(jiǎn)稱(chēng)DLC)薄膜的碳原子鍵主要以sp2和sp3兩種雜化方式存在，石墨是無(wú)定形碳中含sp3鍵的亞穩(wěn)態(tài)結(jié)構(gòu)，它的光學(xué)透過(guò)率、硬度、折射率與金剛石十分接近，其化學(xué)惰性和抗腐蝕能力用于基片的最外層，可以起到防潮和防化學(xué)試劑腐蝕的作用。此外，該薄膜具有較低的成膜溫度、原子光滑表面以及較大的硬度，因此，類(lèi)金剛石薄膜易于均勻而大面積濺射沉積，鍍制成膜后具有較高的穩(wěn)定性，可滿足工業(yè)化生產(chǎn)。鍍膜玻璃的外表面鍍制一層類(lèi)金剛石薄膜后，在耐磨性、防劃傷、延緩氧化時(shí)間等方面保護(hù)原有膜層結(jié)構(gòu)。并且該膜層可通過(guò)厚度的調(diào)節(jié)，控制顏色值變化，使玻璃整體外觀顏色不受影響。膜層鍍制后，在運(yùn)輸過(guò)程中可省去玻璃之間的保護(hù)措施，如珍珠棉、瓦楞紙等。
基于上述，本實(shí)用新型提供了一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，圖1為本實(shí)用新型類(lèi)金剛石鍍膜玻璃的簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，該類(lèi)金剛石鍍膜玻璃包括玻璃基片100；功能膜層200，鍍制于玻璃基片表面；以及類(lèi)金剛石膜層300，鍍制于功能膜層表面。
其中，該功能膜層200為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽(yáng)光控制膜層。
較佳地，該功能薄膜最外層為Si3N4層、Ti3N4層、TiO2層、SnO2層、SiO2層、ZnO層或SnZnO3層。并且，最佳為最外層物質(zhì)為Si3N4，因?yàn)槠滗摶?，?lèi)金剛石層即可以去除，其表面沒(méi)有任何的顏色差異，也沒(méi)有膜層之間的相互侵入，并且Si3N4層與C層之間的附著力較強(qiáng)。
較佳地，該功能膜層200最外層的厚度為10～120nm。
其中，該類(lèi)金剛石膜層300鍍制于鍍膜玻璃的最外層，該膜層材料為C或CN4，且更優(yōu)選為C。
其中，該類(lèi)金剛石膜層300優(yōu)選厚度為5-40nm，更優(yōu)選厚度為10-30nm，最優(yōu)選厚度為15-20nm。
其中，該CN4膜層優(yōu)選厚度為5-40nm，更優(yōu)選厚度為10-30nm，最優(yōu)選厚度為15-20nm。
本實(shí)用新型在鍍膜玻璃的外表面鍍制一層類(lèi)金剛石薄膜，在耐磨性、防劃傷、延緩氧化時(shí)間等方面保護(hù)原有膜層結(jié)構(gòu)，其可以通過(guò)鍍制類(lèi)金剛石層以及未鍍金剛石層的鍍膜玻璃經(jīng)鹽霧、研磨、室外暴露等方式所測(cè)試的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較說(shuō)明。
下表中可以顯示鍍制石墨層通過(guò)Abraser研磨機(jī)研磨前后的透過(guò)率變化，其中 1為未鍍制類(lèi)金剛石膜層普通可鋼化低輻射鍍膜玻璃； 2為鍍制類(lèi)金剛石膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
表1研磨前后數(shù)值比較 從表1中我們可以看出，無(wú)論是50轉(zhuǎn)還是200轉(zhuǎn)，鍍制類(lèi)金剛石膜層都遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于未鍍制類(lèi)金剛石膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
表2為鍍制不同厚度μ的類(lèi)金剛石膜層，比較其耐磨性，其中 1μ＝35nm 2μ＝20nm 3μ＝15nm 4μ＝6nm 表2不同厚度的耐磨性能比較 從表2中，我們可以看出，并不是膜層越厚，其耐磨性就越好。樣片1中，類(lèi)金剛石膜層厚度為35nm時(shí)，其耐磨性在200轉(zhuǎn)的時(shí)候就表現(xiàn)的相對(duì)較差，當(dāng)類(lèi)金剛石膜層厚度為15～20nm時(shí)，其效果反而可以達(dá)到比較好的效果。因此類(lèi)金剛石膜層要想達(dá)到最佳效果，并且綜合考慮材料利用率，厚度最優(yōu)選為15～20nm。
下表是通過(guò)加速氧化鹽霧箱放置，進(jìn)一步驗(yàn)證類(lèi)金剛石膜層在抗氧化能力方面的效果。
表3不同厚度的類(lèi)金剛石膜氧化時(shí)間 從表3中也可以看出，具有類(lèi)金剛石膜層的基片，其抗氧化能力明顯增強(qiáng)。另外，對(duì)于具有類(lèi)金剛石膜層的玻璃基片而言，并不是類(lèi)金剛石膜層越厚，其抗氧化性能效果最好，而厚度為15nm～20nm的類(lèi)金剛石薄膜，在抗氧化性能方面達(dá)到了最佳的效果。
上述三個(gè)表格，可以得出，類(lèi)金剛石膜層厚度最優(yōu)選15-20nm。
另外，本實(shí)用新型上述類(lèi)金剛石鍍膜玻璃可通過(guò)以下方法制備，該方法包括以下步驟 步驟1提供玻璃基片； 步驟2在玻璃基片表面沉積功能膜層； 步驟3在該功能膜層表面沉積一類(lèi)金剛石膜層。
其中，該步驟2及步驟3中，對(duì)于沉積工藝和沉積工藝的工藝參數(shù)沒(méi)有具體的限制，其中，能夠沉積各膜層的多種已知的沉積方法都可以選用，例如，化學(xué)氣相沉積及陰極電弧蒸鍍方式沉積等，在本實(shí)用新型中實(shí)施例以磁控濺射方法沉積所有膜層。同時(shí)，對(duì)于可形成本實(shí)用新型的包括磁控濺射在內(nèi)的多種已知的沉積方法，本領(lǐng)域技術(shù)人員是完全有能力根據(jù)目標(biāo)膜層的組成和厚度選擇合適的沉積工藝參數(shù)。其中工藝參數(shù)包括例如磁控濺射中可能涉及到的濺射氣氛、濺射真空度、靶材材質(zhì)、濺射功率以及濺射時(shí)間等。因此，在本說(shuō)明書(shū)中給出的有關(guān)沉積工藝及其參數(shù)的選擇均為示例性的，并不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。
并且，本實(shí)用新型所優(yōu)選的磁控濺射沉積方式，該磁控濺射沉積在真空級(jí)數(shù)為10-6～10-3mbar級(jí)的工作氣氛下，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下以及在8KW的濺射功率下進(jìn)行。
其中，步驟2中，該膜層可為可鋼化的低輻射鍍膜玻璃膜層、不可鋼化的低輻射鍍膜玻璃膜層或陽(yáng)光控制鍍膜玻璃膜層。
其中，該功能膜層為單層時(shí)，其膜層物質(zhì)較佳為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3；該功能膜層為多層時(shí)，該功能膜層的內(nèi)層可以包括TiO2層、NiCr層、Ag層、Cu層、SiO2層、ZnO層、SnZnO3層等常規(guī)的膜層材料，其最外層的物質(zhì)較佳為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3，最佳為Si3N4。并且，于步驟2的磁控濺射沉積過(guò)程中，沉積該功能膜層或者該功能薄膜最外層所使用的靶材為Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn，并且，該功能膜層最外層的沉積厚度較佳為10～120nm。
其中，該類(lèi)金剛石膜層的材料為C或CN4，于步驟3中，磁控濺射沉積該類(lèi)金剛石膜層的靶材為純度為99.99％的石墨靶材，濺射得到C或CN4膜層，作為鍍膜玻璃的最外層，具有防劃傷、疏油、防水等特點(diǎn)，在后續(xù)加工中，膜層結(jié)構(gòu)可得到很好的保護(hù)。并且，沉積該類(lèi)金剛石膜層的沉積的厚度較佳為5～40nm，更佳為10-30nm，最佳為15-20nm。
本實(shí)用新型所提供的類(lèi)金剛石保護(hù)膜層，可以通過(guò)650度以上的熱處理去除，更優(yōu)選為670度以上，最優(yōu)選為690度以上。經(jīng)過(guò)熱處理后，類(lèi)金剛石膜層可以揮發(fā)去除，基片恢復(fù)原有膜層結(jié)構(gòu)及性能。該特點(diǎn)可用于可鋼化低輻射鍍膜玻璃及可鋼化陽(yáng)光控制鍍膜玻璃膜層的保護(hù)。
另外，該膜層也可以應(yīng)用在不可熱處理的低輻射鍍膜玻璃中，提高磨蹭結(jié)構(gòu)的耐磨性，防止劃傷，延緩銀層氧化時(shí)間。
本實(shí)用新型的由類(lèi)金剛石層做最外層保護(hù)的鍍膜玻璃，其基片可以是任何鍍膜玻璃玻璃，例如單銀、雙銀以及三銀玻璃，可鋼化或不可鋼化的低輻射鍍膜玻璃，也可以是陽(yáng)光控制型鍍膜玻璃，換句話講，該基片可以直接為上述各種鍍膜玻璃，并在該鍍膜玻璃表面直接鍍制類(lèi)金剛石薄膜，以制備該類(lèi)金剛石鍍膜玻璃。即，類(lèi)金剛石薄膜的制備方法，包括步驟 1、提供玻璃基片。該基片可以為低輻射鍍膜玻璃、陽(yáng)光控制鍍膜玻璃以及相關(guān)的各種鍍膜玻璃； 2、在該基片上，沉積一層類(lèi)金剛石薄膜。
其中，本實(shí)用新型的一個(gè)優(yōu)選方式是鍍膜玻璃的功能膜層沉積SnZnO3層、ZnAl層、NiCr層、Ag層，最外層為Si3N4，Ti3N4，TiO2，SnO2，SiO2，ZnO等物質(zhì)，一個(gè)最優(yōu)選方式是其原鍍膜玻璃的最外層是Si3N4。因?yàn)槠滗摶?，?lèi)金剛石層即可以去除，其表面沒(méi)有任何的顏色差異，也沒(méi)有膜層之間的相互侵入，并且Si3N4層與C層之間的附著力較強(qiáng)。
下面以磁控濺射方式為例說(shuō)明制備類(lèi)金剛石薄膜的方法。
首先，提供玻璃基片，并可選的對(duì)玻璃基片進(jìn)行拋光和清洗，拋光和清洗的具體方式是為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的，這里不作具體說(shuō)明。
其次，將玻璃基片裝入磁控濺射室，準(zhǔn)備磁控濺射室，磁控濺射室的本底真空度優(yōu)選為10-6-10-5mbar級(jí)的工作氣氛。
然后，在玻璃基片上濺射所需要的功能膜層，包括可鋼化與不可鋼化的低輻射膜層與陽(yáng)光控制膜層，其中該膜層最外層物質(zhì)的靶材優(yōu)選為Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn，更優(yōu)選為Si. 最后，在該功能膜層上鍍制類(lèi)金剛石薄膜，沉積該膜層所使用的靶材優(yōu)選為石墨，其純度為99.99％。
對(duì)于該類(lèi)金剛石薄膜，可滿足如下加工要求，在經(jīng)過(guò)如下的加工處理后，其各項(xiàng)性能保持不變 1)濺射沉積類(lèi)金剛石膜層后的基片可以滿足機(jī)械或人工切割，粗磨或精磨等加工，其玻璃光學(xué)性能基本不變，并且表面無(wú)任何劃傷膜層侵蝕等缺陷，其保護(hù)效果不受影響。
2)濺射沉積類(lèi)金剛石膜層后的基片可以滿足膜面朝向輥道行走，其玻璃光學(xué)性能基本不變，并且表面無(wú)任何劃傷、輥道印等痕跡，仍具備膜面保護(hù)性能。
3)濺射沉積類(lèi)金剛石膜層后的基片可以滿足鋼化、半鋼化及彎鋼化等熱加工，此時(shí)類(lèi)金剛石薄膜經(jīng)過(guò)熱處理后自行揮發(fā)，基片原有膜層結(jié)構(gòu)不變，原來(lái)的物理化學(xué)性能保持不變，可進(jìn)行各種后續(xù)加工，如夾層，中空等。
在本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施方式中，類(lèi)金剛石薄膜可在普通鍍膜玻璃上使用，并在切片、磨邊等工藝后膜層狀況良好，光學(xué)性能和熱學(xué)性能基本保持不變。
在本實(shí)用新型中，鍍膜玻璃的光學(xué)性能均為美國(guó)Hunter Lab公司生產(chǎn)的Color Quest XE光學(xué)儀器測(cè)定，顏色參數(shù)為按國(guó)際慣例對(duì)色度空間的定義。對(duì)于本實(shí)用新型中類(lèi)金剛石膜層厚度的測(cè)定使用的儀器為中科院半導(dǎo)體所臺(tái)階測(cè)試儀。
下面將通過(guò)具體的實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本實(shí)用新型的膜面保護(hù)玻璃，需要說(shuō)明的是，雖然在實(shí)施例中的膜層厚度和光學(xué)參數(shù)為一數(shù)值范圍，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解，該范圍僅僅是由于膜層不可避免的不均勻性和誤差而產(chǎn)生的。
實(shí)施例1 本實(shí)用新型采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級(jí)數(shù)保證為10-3mbar級(jí)的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過(guò)兩個(gè)月)建筑級(jí)浮法原片鍍制。
如圖2，在玻璃基片0上鍍制多層功能膜層1，包括SnZnO3層、ZnAl層、NiCr層、Ag層等膜層，并在外層2鍍制Si3N4，形成Si3N4層，其濺射厚度可為10-120nm。
類(lèi)金剛石膜層3在Si3N4層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類(lèi)金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表4沉積C層顏色值的變化 表5沉積C層研磨前后透過(guò)率變化
表6鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 表7鋼化前后顏色值比較 實(shí)施例2 本實(shí)用新型采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級(jí)數(shù)保證為10-3mbar級(jí)的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過(guò)兩個(gè)月)建筑級(jí)浮法原片鍍制。
如圖3，在玻璃基片0上，鍍制一層或者多層功能膜層4，包括SnO2層、SiO2層、TiO2層，在外層5鍍制SiO2層，其濺射厚度可為20-110nm。
最外層保護(hù)膜層，即類(lèi)金剛石膜層6在SiO2層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類(lèi)金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表8沉積C層前后顏色值的變化 表9沉積C層研磨前后透過(guò)變化
表10鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 表11鋼化前后顏色值比較 實(shí)施例3 本實(shí)用新型采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級(jí)數(shù)保證為10-3mbar級(jí)的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過(guò)兩個(gè)月)建筑級(jí)浮法原片鍍制。
如圖4，在玻璃基片0上，鍍制一層或者多層功能膜層7，包括Cr層、SnZnO3層，其玻璃功能膜層的外層8是TiO2層，其濺射厚度可為10-100nm。
最外層保護(hù)膜層，即類(lèi)金剛石膜層9在TiO2層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類(lèi)金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表12沉積C層前后顏色值的變化 表13沉積C層研磨前后透過(guò)變化
表14鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 實(shí)施例4 本實(shí)用新型采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級(jí)數(shù)保證為10-3mbar級(jí)的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過(guò)兩個(gè)月)建筑級(jí)浮法原片鍍制。
如圖5，在玻璃基片0上，鍍制一層或者多層功能膜層10，包括SnZnO3層、NiCr層、Ag層，其玻璃功能膜層外層鍍制SnZnO3，形成SnZnO3層11，其濺射厚度可為10-120nm。
最外層保護(hù)膜層，即類(lèi)金剛石膜層12在SnZnO3層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類(lèi)金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表15沉積C層前后顏色值的變化 表16沉積C層研磨前后透過(guò)變化
表17鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 表18鋼化前后顏色值比較 本實(shí)用新型的效果 本實(shí)用新型所提供的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，該類(lèi)金剛石薄膜鍍制在基片最外層，由于類(lèi)金剛石薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，該薄膜對(duì)于低輻射鍍膜玻璃以及陽(yáng)光控制型鍍膜玻璃等基片膜層起到很好的保護(hù)效果，具體表現(xiàn)在該類(lèi)金剛石薄膜可提高基片的耐磨性，延緩氧化時(shí)間，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過(guò)程中，可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。并且，鍍制該膜層的基片仍可進(jìn)行各種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層、合中空玻璃等，不影響基片原有的物化性能。另外，該薄膜可通過(guò)鋼化、半鋼化或彎鋼化等熱處理方式揮發(fā)去除，去除后基片恢復(fù)原有膜層結(jié)構(gòu)及性能。與常規(guī)的PE有機(jī)貼膜保護(hù)方式比較，該膜層具有良好的環(huán)保性，在鍍膜玻璃行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用前景。
當(dāng)然，本實(shí)用新型還可有其他多種實(shí)施例，在不背離本實(shí)用新型精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本實(shí)用新型作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本實(shí)用新型所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，包括
玻璃基片；
功能膜層，鍍制于玻璃基片表面；以及
類(lèi)金剛石膜層，鍍制于功能膜層表面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽(yáng)光控制膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層為Si3N4層、Ti3N4層、TiO2層、SnO2層、SiO2層、ZnO層或SnZnO3層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能薄膜最外層為Si3N4層、Ti3N4層、TiO2層、SnO2層、SiO2層、ZnO層或SnZnO3層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層的內(nèi)層包括TiO2層、NiCr層、Ag層、Cu層、SiO2層、ZnO層、SnZnO3層中任意一層或其任意組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層最外層的厚度為10～120nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類(lèi)金剛石膜層為C膜層或CN4膜層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類(lèi)金剛石膜層的厚度為5～40nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類(lèi)金剛石膜層的厚度為10～30nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類(lèi)金剛石膜層的厚度為15～20nm。
專(zhuān)利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種類(lèi)金剛石鍍膜玻璃，該類(lèi)金剛石鍍膜玻璃包括玻璃基片；功能膜層，鍍制于玻璃基片表面；以及類(lèi)金剛石膜層，鍍制于功能膜層表面，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽(yáng)光控制膜層，其中，該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。通過(guò)本實(shí)用新型鍍制出的類(lèi)金剛石薄膜具有較高的穩(wěn)定性、耐磨性以及耐氧化性，在玻璃運(yùn)輸、儲(chǔ)藏的過(guò)程中起到防止劃傷、延緩氧化的作用，并且，該類(lèi)金剛石膜層不與其它膜層相互侵蝕、反應(yīng)，經(jīng)過(guò)熱處理工藝可揮發(fā)。
文檔編號(hào)B32B9/04GK201458976SQ20092010987
公開(kāi)日2010年5月12日 申請(qǐng)日期2009年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月22日
發(fā)明者王爍, 徐伯永, 宋宇, 李彬, 陳可明, 李鵬 申請(qǐng)人:天津南玻節(jié)能玻璃有限公司, 天津南玻工程玻璃有限公司