專利名稱：低輻射薄膜、低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于低輻射薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種低輻射薄膜、低輻射鍍膜玻璃及其制備方法。
背景技術(shù)：
低輻射鍍膜玻璃又稱Low-E玻璃，是ー種可以透過大部分可見光、具有較高的紅外熱射線發(fā)射率、直接大部分中遠(yuǎn)紅外熱輻射，同時(shí)具備透光、隔熱和節(jié)能等多重優(yōu)點(diǎn)的玻璃產(chǎn)品。低輻射鍍膜玻璃具有良好的隔熱效果，比普通玻璃節(jié)省近60% 70%的能源。 低輻射鍍膜玻璃分為在線鍍膜和離線鍍膜兩種，其中，在線鍍膜是在浮法玻璃生產(chǎn)線上采用化學(xué)方法，如熱噴涂或化學(xué)氣相沉積等鍍制氧化錫或摻氟的氧化錫，得到的低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)成本較低，但是性能較差；離線鍍膜是指在玻璃下線以后，用磁控濺射等方法在玻璃表面鍍低輻射薄膜的方法，離線鍍膜雖然成本高，但是得到的低輻射鍍膜玻璃性能較好，因此是目前低輻射鍍膜玻璃的研究熱點(diǎn)之一。在離線鍍膜エ藝中，鍍?cè)诓ＡП砻娴牡洼椛浔∧ひ话闶窃趦蓪油该鹘橘|(zhì)層之間設(shè)置功能層形成的，其中，功能層一般由金屬銀形成，介質(zhì)層的作用在于保護(hù)該金屬銀膜。另夕卜，內(nèi)側(cè)介質(zhì)層還能夠提高銀與玻璃表面的附著力，同時(shí)兼有調(diào)節(jié)膜系光學(xué)性能和顔色的作用；外側(cè)介質(zhì)膜還能夠提高可見光波長范圍內(nèi)的太陽能透射率?，F(xiàn)有技術(shù)公開了多種包括第一介質(zhì)層/金屬銀功能層/第二介質(zhì)層結(jié)構(gòu)的低輻射薄膜或低輻射鍍膜玻璃，如美國專利文獻(xiàn)US5344718公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/Si3N4/Ni (或Ni合金)/Ag/Ni (或Ni合金)/Si3N4的低輻射鍍膜玻璃；美國專利文獻(xiàn)US5514476公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/Si3N4/Ni (或Ni-Cr合金)/Ag/Ni (或Ni-Cr合金)/Si3N4的低輻射鍍膜玻璃；美國專利文獻(xiàn)US6475626公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/Si3N4/NiCr/Ag/NiCr/Si3N4的低輻射鍍膜玻璃；美國專利文獻(xiàn)US2007036986 公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/ZrSiOxNy/ZnOx/Ag/Ni-CrOx/ZrSiOxNy/Si3N4 的低輻射鍍膜玻璃；美國專利文獻(xiàn)US2009104436公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/Sn02/Zn0/Ag/Ti02/Sn02的低輻射鍍膜玻璃；中國專利文獻(xiàn)CN101654333公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/TiOx/ZnOx/NiCr/Ag/NiCrOx/ZnOx/SiNx的低輻射鍍膜玻璃；中國專利文獻(xiàn)CN101372396公開了ー種結(jié)構(gòu)為/玻璃/Si0xNy/Nb0x/NiCrOx/ZnSnOx/Ag/NiCr0x/Nb0x/Si0xNy//PVB 的低輻射鍍膜玻璃沖國專利文獻(xiàn)CN101805132 公開了ー種結(jié)構(gòu)為玻璃/SiOx/ZnSnSbOx/NiCr/Ag/NiCr/ZnSnSbOx/SiOx 的低輻射鍍膜玻璃。上述公開的低輻射鍍膜玻璃均具有較好的隔熱效果，但是由于介質(zhì)層材料為多孔的Si基材料，其穩(wěn)定性較差，得到具有上述任意一種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品后通常必須在20小時(shí)之內(nèi)將其加工成中空玻璃，否則，空氣中的氧氣和水汽等會(huì)透過介質(zhì)層的微孔到達(dá)金屬銀功能層，腐蝕氧化金屬銀，使該玻璃失去低輻射性能。雖然增加Ni等金屬層能夠改善低輻射玻璃的穩(wěn)定性，但是增加層數(shù)也使得低輻射玻璃結(jié)構(gòu)復(fù)雜、生產(chǎn)エ藝復(fù)雜
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于提供一種低輻射薄膜、低輻射鍍膜玻璃及其制備方法，本發(fā)明提供的低輻射薄膜及低輻射鍍膜玻璃結(jié)構(gòu)簡單，具有良好的穩(wěn)定性，不易失去低輻射性能，本發(fā)明提供的制備方法エ藝簡単。本發(fā)明提供了一種低輻射薄膜，包括襯底；置于所述襯底上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ；置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag ；置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。本發(fā)明提供了一種低輻射鍍膜玻璃，包括 玻璃襯底；置于所述玻璃襯底上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ；置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag ；置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。優(yōu)選的,所述第一介質(zhì)層的厚度為5nm 30nm。優(yōu)選的，所述功能層的厚度為6nm 15nm。優(yōu)選的，所述第二介質(zhì)層的厚度為30nm 80nm。優(yōu)選的，還包括置于所述第二介質(zhì)層上的密封層，所述密封層為塑料或玻璃。優(yōu)選的，還包括置于所述玻璃襯底和第一介質(zhì)層之間的第一調(diào)節(jié)層，所述第一調(diào)節(jié)層為Si基化合物。優(yōu)選的，還包括置于所述第二介質(zhì)層上的第二調(diào)節(jié)層，所述第二調(diào)節(jié)層為Si基化合物或MgF2。本發(fā)明還提供了一種低輻射玻璃的制備方法，包括以下步驟提供玻璃襯底；在所述玻璃表面形成第一介質(zhì)層,所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ；在所述第一介質(zhì)層上形成功能層，所述功能層為Ag ；在所述功能層上形成第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。優(yōu)選的，以Ta2O5為靶材、采用射頻磁控濺射的方法在所述玻璃表面形成第一介質(zhì)層，以Ta2O5為靶材、采用射頻磁控濺射的方法在所述功能層上形成第二介質(zhì)層。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供了一種結(jié)構(gòu)為襯底/Ta205/Ag/Ta205的低輻射薄膜，結(jié)構(gòu)簡單，性能穩(wěn)定。本發(fā)明采用Ta2O5作為第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層，Ta2O5能夠形成致密的薄膜，作為介質(zhì)層時(shí)，能夠有效阻隔空氣中的氧氣和水汽等滲透進(jìn)入功能層，從而減輕氧氣和水汽對(duì)金屬銀的腐蝕氧化，増加低輻射薄膜的穩(wěn)定性，使得低輻射薄膜不易失去低輻射性能。進(jìn)ー步的，所述低輻射薄膜或者所述低輻射鍍膜玻璃的第二介質(zhì)層表面還可以與塑料或玻璃等復(fù)合，形成密封型低輻射鍍膜產(chǎn)品，該密封型低輻射鍍膜產(chǎn)品可単獨(dú)使用，也可組合使用。實(shí)驗(yàn)表明，本發(fā)明提供的低輻射薄膜和低輻射鍍膜結(jié)構(gòu)較為簡單、光學(xué)特性好，而且很穩(wěn)定，可以在空氣中存放數(shù)年。另外，本發(fā)明提供的制備方法エ藝簡單，易于實(shí)現(xiàn)規(guī)模化生產(chǎn)。


圖I為本發(fā)明實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)透射率譜線；圖2為本發(fā)明實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)反射率譜線。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明提供了一種低輻射薄膜，包括襯底；置于所述襯底上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ；置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag ；置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。本發(fā)明提供的低輻射薄膜由襯底、第一介質(zhì)層、功能層和第二介質(zhì)層構(gòu)成，結(jié)構(gòu)簡単，穩(wěn)定性好。在所述低輻射薄膜中，所述襯底起支撐作用，本發(fā)明對(duì)所述襯底沒有特殊限制，可以為聚酷、聚碳酸酯等塑料薄膜。根據(jù)低輻射薄膜的用途，可以選擇不同厚度、不同材質(zhì)、不同顏色的襯底。在所述低輻射薄膜中，功能層決定著整個(gè)膜系的輻射率，而分別位于其兩側(cè)的第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層則起保護(hù)功能層的作用，因此，第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層決定著整個(gè)膜系的性能穩(wěn)定性，直接影響低輻射鍍膜產(chǎn)品的生產(chǎn)エ藝和使用壽命。在本發(fā)明中,所述功能層由金屬Ag形成,所述功能層的厚度優(yōu)選為8nm 15nm,更優(yōu)選為IOnm 13nm。在本發(fā)明中，所述第一介質(zhì)層和所述第二介質(zhì)層均由Ta2O5形成。Ta2O5具有優(yōu)異的物理性能，如高介電常數(shù)、高熔點(diǎn)、高透光性、高折射率等。另外，Ta2O5能夠形成致密的薄膜，能夠有效阻隔空氣中的氧氣和水汽等滲透進(jìn)入功能層，從而減輕氧氣和水汽對(duì)金屬銀的腐蝕氧化，増加低輻射薄膜的穩(wěn)定性，使其不易失去低輻射性能。在本發(fā)明提供的低輻射薄膜中，所述第一介質(zhì)層作為內(nèi)介質(zhì)層，形成在襯底上，能夠阻隔來自襯底方向氧氣和水汽向功能層的擴(kuò)散，調(diào)節(jié)低輻射薄膜的光學(xué)性能和顔色等。所述第一介質(zhì)層的厚度優(yōu)選為5nm 30nm,更優(yōu)選為IOnm 25nm,最優(yōu)選為15nm 20nm。所述第二介質(zhì)層作為外介質(zhì)層，能夠阻隔來自其表面外側(cè)的氧氣和水汽，保護(hù)金屬銀膜，調(diào)節(jié)薄膜的光學(xué)反射率或者調(diào)節(jié)薄膜的色彩。所述第二介質(zhì)層的厚度優(yōu)選為30nm 80nm,更優(yōu)選為40nm 70nm,最優(yōu)選為50nm 60nm。本發(fā)明還提供了一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃襯底；置于所述玻璃上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ；置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag ；置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。
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本發(fā)明提供的低輻射薄膜玻璃的結(jié)構(gòu)結(jié)構(gòu)為玻璃襯底/Ta205/Ag/Ta205。本發(fā)明對(duì)所述玻璃襯底沒有特殊限制，可以為硅酸鹽玻璃、硼酸鹽玻璃或者磷酸鹽玻璃等。在所述玻璃襯底上有由Ta2O5形成的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層的厚度優(yōu)選為5nm 30nm,更優(yōu)選為IOnm 25nm,最優(yōu)選為15nm 20nm。在所述第一介質(zhì)層上有由金屬Ag形成的功能層,所述功能層的厚度優(yōu)選為8nm 15nm,更優(yōu)選為IOnm 13nm。在所述功能層上有由Ta2O5形成的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層的厚度優(yōu)選為30nm 80nm,更優(yōu)選為40nm 70nm,最優(yōu)選為50nm 60nm。為了使得到的低輻射鍍膜玻璃具有更佳的性能，在所述玻璃和第一介質(zhì)層之間優(yōu)選有第一調(diào)節(jié)層，所述第一調(diào)節(jié)層可以由Si基化合物形成，通過調(diào)節(jié)Si基化合物層的厚度可以調(diào)整低輻射玻璃的色彩。本發(fā)明對(duì)所述第一調(diào)節(jié)層的厚度沒有特殊限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)產(chǎn)品需要對(duì)該層的厚度進(jìn)行調(diào)整。
在所述第二介質(zhì)層上優(yōu)選還有第二調(diào)節(jié)層，所述第二調(diào)節(jié)層可以由Si基化合物或MgF2形成，調(diào)節(jié)低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)反射率。本發(fā)明對(duì)所述第二調(diào)節(jié)層的厚度沒有特殊限制，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)產(chǎn)品需要對(duì)該層的厚度進(jìn)行調(diào)整。在所述低輻射鍍膜玻璃中，所述第一介質(zhì)層和所述功能層之間、所述第二介質(zhì)層和所述功能層之間還可以包括Ni或Ni-Cr合金等形成的遮蔽層，以提高低輻射鍍膜玻璃的性能。本發(fā)明所述的低輻射鍍膜玻璃可以按照以下方法制備提供玻璃襯底；在所述玻璃表面形成第一介質(zhì)層,所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ；在所述第一介質(zhì)層上形成功能層，所述功能層為Ag ；在所述功能層上形成第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。本發(fā)明直接以Ta2O5和Ag為原料，采用磁控濺射的方法依次在玻璃襯底上形成第一介質(zhì)層、功能層和第二介質(zhì)層。首先在玻璃襯底上濺射鍍膜形成第一介質(zhì)層，所述射頻磁控濺射的功率優(yōu)選為50W 150W，更優(yōu)選為60W 110W，最優(yōu)選為70W 100W ;進(jìn)行所述射頻磁控濺射時(shí)，工作氣體優(yōu)選為IS氣和氧氣的混合氣體，其中，IS氣和氧氣的體積比優(yōu)選為80 95 : 5 20,更優(yōu)選為85 90 10 15。形成第一介質(zhì)層后，繼續(xù)在所述第一介質(zhì)層上射頻磁控濺射鍍膜形成功能層，所述濺射的功率優(yōu)選為50W 150W，更優(yōu)選為60W 110W，最優(yōu)選為70W 100W ;進(jìn)行所述派射時(shí)，工作氣體優(yōu)選為IS氣。形成功能層后，繼續(xù)在所述功能層上射頻磁控濺射鍍膜形成第二介質(zhì)層，所述濺射的功率優(yōu)選為50W 150W，更優(yōu)選為60W 110W，最優(yōu)選為70W 100W ;進(jìn)行所述射頻磁控濺射吋，工作氣體優(yōu)選為氬氣和氧氣的混合氣體，其中，氬氣和氧氣的體積比優(yōu)選為80 95 5 20，更優(yōu)選為85 90 10 15。當(dāng)所述低輻射鍍膜玻璃還包括第一調(diào)節(jié)層、第二調(diào)節(jié)層或者遮蔽層等時(shí)，這些膜層也可以通過射頻磁控濺射鍍膜的方式形成，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)需要進(jìn)行射頻濺射參數(shù)的調(diào)整。為了使得到的低輻射鍍膜玻璃具有更好的使用功能，本發(fā)明優(yōu)選還包括置于所述第二介質(zhì)層上的密封層，所述密封層為塑料或玻璃，其中，所述塑料可以為柔性塑料或硬質(zhì)塑料，如聚酯塑料或聚碳酸酯塑料等。所述密封層可以通過紫外光固化膠等膠合材料膠合或者通過熱壓等方法復(fù)合于第二介質(zhì)層上，形成密封型低輻射鍍膜產(chǎn)品，該密封型低輻射鍍膜產(chǎn)品可単獨(dú)使用，也可組合使用。得到低輻射鍍膜玻璃后，對(duì)其進(jìn)行透射率、反射率和穩(wěn)定性的測試，結(jié)果表明，本發(fā)明提供的低輻射鍍膜玻璃具有良好的光學(xué)性能和穩(wěn)定性。將所述玻璃襯底更換為其他村底，如聚酯、聚碳酸酯等塑料薄膜時(shí)，按照上文所述的制備方法可以制得低輻射薄膜；將所述玻璃襯底更換為樹脂時(shí)，按照上文所述的制備方法可以制得其他類低輻射產(chǎn)品，應(yīng)用于其他領(lǐng)域。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供了ー種結(jié)構(gòu)為Ta205/Ag/Ta205的低輻射薄膜，結(jié)構(gòu)簡單，性能穩(wěn)定。本發(fā)明采用Ta2O5作為第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層，Ta2O5能夠形成致密的薄膜，作為介質(zhì)層時(shí)，能夠有效阻隔空氣中的氧氣和水汽等滲透進(jìn)入功能層，從而減輕氧氣和水汽對(duì)金屬銀的腐蝕氧化，増加低輻射薄膜的穩(wěn)定性，使得低輻射薄膜不易失去低輻射性能。為了進(jìn)ー步說明本發(fā)明，以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明提供的低輻射薄膜、低輻射玻 璃及其制備方法進(jìn)行詳細(xì)描述。以下各實(shí)施例中，Ta2O5為購自北京有色金屬總院的Ta2O5靶；射頻濺射鍍膜設(shè)備為超高真空多功能磁控濺射設(shè)備；采用日本Kosaka生產(chǎn)的膜厚測試儀測量薄膜的厚度；采用日本分光生產(chǎn)的570型UV-VIS-NIR分光光度計(jì)和FT/IR-670plus型傅立葉變換紅外光譜儀測量低輻射鍍膜玻璃的透射率和反射率。實(shí)施例I在Imm厚的玻璃上濺射Ta2O5，濺射功率為50W，工作氣體為90%的氬氣和10%的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射100s，得到Ta2O5膜；繼續(xù)向得到的Ta2O5膜上濺射Ag，濺射功率為60W，工作氣體為氬氣，工作壓カ為0. 5Pa，濺射100s，得到Ag膜；繼續(xù)向得到的Ag膜上濺射Ta2O5,濺射功率為50W，工作氣體為90 %的氬氣和10 %的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射600s，得到結(jié)構(gòu)為玻璃/Ta2O5 (5nm)/Ag (9nm)/Ta2O5 (30nm)的低輻射鍍膜玻璃。對(duì)所述低輻射鍍膜玻璃進(jìn)行透射率和反射率測試，結(jié)果參見圖I和圖2，圖I為本發(fā)明實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)透射率譜線，其中，譜線11為實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃剛制備完成后得到的透射率譜線；圖2為本發(fā)明實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)反射率譜線，其中，曲線21為實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃剛制備完成后得到的反射率譜線。由圖I和圖2可知，實(shí)施例I得到的低輻射鍍膜玻璃具有典型的低輻射鍍膜玻璃的光學(xué)特性。將所述低輻射鍍膜玻璃在空氣中放置10天后，觀察其表面，并未觀察到明顯變化。將所述低輻射鍍膜玻璃在常溫、避光條件下放置6年，再次對(duì)其進(jìn)行透射率和反射率測試，結(jié)果參見圖I和圖2，圖I為本發(fā)明實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)透射率譜線，其中，譜線12為實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃放置6年后得到的透射率譜線；圖2為本發(fā)明實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃在可見光附近的光學(xué)反射率譜線，其中，曲線22為實(shí)施例I提供的低輻射鍍膜玻璃放置6年后得到的反射率譜線。由圖I和圖2可知，放置6年后，所述低輻射鍍膜玻璃的透射性能和反射性能基本維持不變，由此可見，本發(fā)明提供的低輻射鍍膜玻璃結(jié)構(gòu)簡單、穩(wěn)定性較好。
實(shí)施例2在Imm厚的玻璃上濺射Ta2O5,濺射功率為150W，工作氣體為90%的氬氣和10%的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射120s，得到Ta2O5膜；繼續(xù)向得到的Ta2O5膜上濺射Ag，濺射功率為80W，工作氣體為氬氣，工作壓カ為0. 5Pa，濺射40s，得到Ag膜；繼續(xù)向得到的Ag膜上濺射Ta2O5，濺射功率為150W，工作氣體為90%的氬氣和10%的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射350s，得到結(jié)構(gòu)為玻璃/Ta2O5 (28nm)/Ag (IOnm)/Ta2O5 (80nm)的低輻射鍍膜玻璃。對(duì)所述低輻射鍍膜玻璃進(jìn)行透射率和反射率測試，其具有典型的低輻射鍍膜玻璃的光學(xué)特性。將所述低輻射鍍膜玻璃在空氣中放置10天后，觀察其表面，并未觀察到明顯變化。
實(shí)施例3在Imm厚的玻璃上濺射Ta2O5，濺射功率為80W，工作氣體為90%的氬氣和10%的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射120s，得到Ta2O5膜；繼續(xù)向得到的Ta2O5膜上濺射Ag，濺射功率為50W，工作氣體為氬氣，工作壓カ為0. 5Pa，濺射150s，得到Ag膜；繼續(xù)向得到的Ag膜上濺射Ta2O5,濺射功率為80W，工作氣體為90 %的氬氣和10 %的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射400s，得到結(jié)構(gòu)為玻璃/Ta2O5 (15nm)/Ag (15nm)/Ta2O5 (50nm)的低輻射鍍膜玻璃。對(duì)所述低輻射鍍膜玻璃進(jìn)行透射率和反射率測試，其具有典型的低輻射鍍膜玻璃的光學(xué)特性。將所述低輻射鍍膜玻璃在空氣中放置10天后，觀察其表面，并未觀察到明顯變化。實(shí)施例4在0. 2mm厚的柔性聚酷薄膜上濺射Ta2O5,濺射功率為80W，工作氣體為90 %的氬氣和10%的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射120s，得到Ta2O5膜；繼續(xù)向得到的Ta2O5膜上濺射Ag，濺射功率為65W，工作氣體為氬氣，工作壓カ為0. 5Pa，濺射90s，得到Ag膜；繼續(xù)向得到的Ag膜上濺射Ta2O5,濺射功率為80W，工作氣體為90 %的氬氣和10 %的氧氣的混合氣體，工作壓カ為0. 5Pa，濺射400s，得到結(jié)構(gòu)為聚酯薄膜/Ta2O5 (15nm)/Ag (IOnm)/Ta2O5(50nm)的低福射薄膜。對(duì)所述低輻射薄膜進(jìn)行透射率和反射率測試，其具有典型的低輻射薄膜的光學(xué)特性將所述低輻射薄膜在空氣中放置10天后，觀察其表面，并未觀察到明顯變化。由上述實(shí)施例可知，本發(fā)明提供的低輻射薄膜結(jié)構(gòu)簡單，可以形成在柔性塑料薄膜或剛性玻璃上得到性能良好的低輻射鍍膜產(chǎn)品，而且具有較好的穩(wěn)定性。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng) 視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種低輻射薄膜，包括 襯底； 置于所述襯底上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ； 置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag ； 置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。
2.—種低福射鍍膜玻璃,包括 玻璃襯底； 置于所述玻璃襯底上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ； 置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag ； 置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在干，所述第一介質(zhì)層的厚度為.5nm 30nmo
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述功能層的厚度為6nm .15nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在干，所述第二介質(zhì)層的厚度為.30nm 80nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，還包括置于所述第二介質(zhì)層上的密封層，所述密封層為塑料或玻璃。
7.根據(jù)權(quán)利要求2 6任意一項(xiàng)所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，還包括 置于所述玻璃襯底和第一介質(zhì)層之間的第一調(diào)節(jié)層，所述第一調(diào)節(jié)層為Si基化合物。
8.根據(jù)權(quán)利要求2 6任意一項(xiàng)所述的低輻射玻璃，其特征在于，還包括 置于所述第二介質(zhì)層上的第二調(diào)節(jié)層，所述第二調(diào)節(jié)層為Si基化合物或MgF2。
9.一種低輻射玻璃的制備方法，包括以下步驟 提供玻璃襯底； 在所述玻璃襯底表面形成第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5 ； 在所述第一介質(zhì)層上形成功能層，所述功能層為Ag ； 在所述功能層上形成第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta205。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制備方法，其特征在干，以Ta2O5為靶材、采用射頻磁控濺射的方法在所述玻璃表面形成第一介質(zhì)層，以Ta2O5為靶材、采用射頻磁控濺射的方法在所述功能層上形成第二介質(zhì)層。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種低輻射薄膜，包括襯底，置于所述襯底上的第一介質(zhì)層，所述第一介質(zhì)層為Ta2O5；置于所述第一介質(zhì)層上的功能層，所述功能層為Ag；置于所述功能層上的第二介質(zhì)層，所述第二介質(zhì)層為Ta2O5。本發(fā)明還提供了一種低輻射玻璃及其制備方法。本發(fā)明采用Ta2O5作為第一介質(zhì)層和第二介質(zhì)層，Ta2O5能夠形成致密的薄膜，作為介質(zhì)層時(shí)，能夠有效阻隔空氣中的氧氣和水汽等滲透進(jìn)入功能層，從而減輕氧氣和水汽對(duì)金屬銀的腐蝕氧化，增加低輻射薄膜的穩(wěn)定性，使得低輻射薄膜不易失去低輻射性能。實(shí)驗(yàn)表明，本發(fā)明提供的低輻射玻璃具有良好的光學(xué)性能和穩(wěn)定性，可以在空氣中存放數(shù)年。
文檔編號(hào)C03C17/36GK102653455SQ20111004971
公開日2012年9月5日 申請(qǐng)日期2011年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月1日
發(fā)明者狄國慶 申請(qǐng)人:蘇州大學(xué)