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用于涂布機的集流體清潔裝置的制作方法

文檔序號:1359549閱讀:300來源:國知局
專利名稱:用于涂布機的集流體清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
所屬領(lǐng)域本實用新型涉及一種用于涂布機的集流體清潔裝置。
背景技術(shù)
在二次電池生產(chǎn)領(lǐng)域,電池極片是通過在集流體(如鋰電制造領(lǐng)域的銅箔,鋁箔等)上附著一層電池極料而制得,極片的涂布質(zhì)量對電池的綜合性能有很大影響,而集流體的表面清潔狀況是極片涂布質(zhì)量的重要影響因素之一。目前電池極片的涂布過程中沒有清潔集流體的工序。由于集流體在制造過程中夾雜了一些細(xì)微的雜質(zhì)、污物,這些雜質(zhì)、污物一旦和電池極料一起附著在集流體上,就會影響電池的充放電性能或循環(huán)性能。因此有必要將集流體上的雜質(zhì)、污物清除。
實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種能清除待涂布集流體上雜質(zhì)、污物的用于涂布機的集流體清潔裝置。
本實用新型的技術(shù)方案是用于涂布機的集流體清潔裝置,在所述涂布機的機架上設(shè)有清潔器,所述清潔器與所述的涂布機的支撐輥輥面接觸。
所述清潔器包括清洗部件、清潔器本體,且所述的清潔器本體沿所述的涂布機支撐輥軸向設(shè)置,所述清洗部件設(shè)置在清潔器本體上,并與支撐輥輥面接觸。
所述的用于涂布機的集流體清潔裝置上還設(shè)有可以將清洗部件潤濕的清洗液送給機構(gòu),所述清洗液送給機構(gòu)包括洗液槽、輸送管、可以控制清洗液的流量的控制閥。
所述清洗器本體是可轉(zhuǎn)動的輥體。
所述的清潔器上設(shè)有驅(qū)動清洗器本體轉(zhuǎn)動的驅(qū)動器。
所述的清洗部件與清潔器本體是可拆卸連接。
所述的用于涂布機的集流體清潔裝置上還設(shè)有能調(diào)節(jié)清潔器和支撐輥間距的調(diào)節(jié)裝置。
本實用新型的優(yōu)點在于1、提供了一種電池用于涂布機的集流體清潔裝置,能夠?qū)⒓黧w表面的污物、雜質(zhì)去除,提高極片質(zhì)量從而提高電池的充放電性能和循環(huán)性能。2、設(shè)置了清洗液送給結(jié)構(gòu),從而更容易清潔集流體表面的污物。3、可拆卸的清洗部件,使清潔裝置維修、清洗更加方便。


圖1是用于涂布機的集流體清潔裝置實施例1的主視圖圖2是用于涂布機的集流體清潔裝置實施例1的左視圖圖3是用于涂布機的集流體清潔裝置實施例2的主視圖圖4是用于涂布機的集流體清潔裝置實施例2的左視圖圖中1.清洗液槽,2.控制閥,3.輸送管,4.清洗部件,5.輥體,6.驅(qū)動器,7.固定件,8.長形螺栓孔9.支撐輥,10.螺栓,11.機架,12.集流體,13.彈簧,14.清洗部件固定架,15.清洗部件。
具體實施方式
實施例1請參閱圖1、圖2,用于涂布機的集流體清潔裝置,包括機架11、支撐輥9,支撐輥9設(shè)置在機架11上,還包括清潔器,所述清潔器包括輥體5、設(shè)在輥體5上的清洗部件4,所述清洗部件4與支撐輥9接觸,其接觸緊密程度可通過長形螺栓孔8調(diào)節(jié),清潔器通過固定件7、螺栓10固定在能使所述清洗部件4與支撐輥9接觸的機架11位置上。為了增強清洗效果,該清潔裝置中還設(shè)有清洗液送給機構(gòu),該清洗液送給機構(gòu)包括清洗液槽1、控制閥2、輸送管3,控制閥2可以控制輸送管3內(nèi)清洗液的流動速度,使清洗液能潤濕清洗部件4。驅(qū)動器6可以帶動清潔器轉(zhuǎn)動使清潔效果更好,為達到最好的清潔效果,可以使輥體5的轉(zhuǎn)動方向與支撐輥9轉(zhuǎn)動方向相反,即與集流體12運動方向相反。
清洗過程如下將集流體穿設(shè)于支撐輥9和輥體5之間,在涂布過程中,集流體12運動方向與支撐輥9運動方向一致,輥體5轉(zhuǎn)動方向與集流體12運動方向相反,從而可以使設(shè)在輥體5上的清洗部件4與集流體12相對運動,將雜質(zhì)、污物清除。
實施例2請參閱圖1、圖2,用于涂布機的集流體清潔裝置,包括機架11、支撐輥9,支撐輥9設(shè)置在機架11上,還包括清潔器,所述清潔器包括清洗部件固定架14、清洗部件15,所述清洗部件15設(shè)置在清洗部件固定架14上,并且可以拆卸;清洗部件固定架14通過螺栓10、彈簧13固定在機架11上,通過調(diào)節(jié)螺栓10可以使清洗部件4與支撐輥接觸。為了增強清洗效果,該清潔裝置中還設(shè)有清洗液送給機構(gòu),該清洗液送給機構(gòu)包括清洗液槽1、控制閥2、輸送管3,控制閥2可以控制輸送管3內(nèi)清洗液的流動速度,使清洗液能潤濕清洗部件15。
清洗過程如下將集流體穿設(shè)于支撐輥9和清洗部件15之間,涂布過程中,集流體12運動,而清洗部件15靜止,清洗部件15與集流體12相對運動,將雜質(zhì)、污物清除。
權(quán)利要求1.用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于在所述涂布機的機架上設(shè)有清潔器,所述清潔器與所述的涂布機的支撐輥輥面接觸。
2.如權(quán)利要求1所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于所述清潔器包括清洗部件、清潔器本體,且所述的清潔器本體沿所述的涂布機支撐輥軸向設(shè)置,所述清洗部件設(shè)置在清潔器本體上,并與支撐輥輥面接觸。
3.如權(quán)利要求1所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于其上還設(shè)有可以將清洗部件潤濕的清洗液送給機構(gòu),該清洗機構(gòu)包括洗液槽、輸送管、可以控制清洗液的流量的控制閥。
4.如權(quán)利要求2所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于其上還設(shè)有可以將清洗部件潤濕的清洗液送給機構(gòu),該清洗機構(gòu)包括洗液槽、輸送管、可以控制清洗液的流量的控制閥。
5.如權(quán)利要求2所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于所述清洗器本體是可轉(zhuǎn)動的輥體。
6.如權(quán)利要求5所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于其上還設(shè)有可以將清洗部件潤濕的清洗液送給機構(gòu),該清洗機構(gòu)包括洗液槽、輸送管、可以控制清洗液的流量的控制閥。
7.如權(quán)利要求5所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于所述的清潔器上設(shè)有驅(qū)動清洗器本體轉(zhuǎn)動的驅(qū)動器。
8.如權(quán)利要求2、4、5、6或7所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于所述的用于涂布機的集流體清潔裝置上還設(shè)有能調(diào)節(jié)清潔器和支撐輥間距的調(diào)節(jié)裝置。
9.如權(quán)利要求8所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于所述的清洗部件與清潔器本體是可拆卸連接。
10.如權(quán)利要求1或3所述的用于涂布機的集流體清潔裝置,其特征在于所述的用于涂布機的集流體清潔裝置上還設(shè)有能調(diào)節(jié)清潔器和支撐輥間距的調(diào)節(jié)裝置。
專利摘要本實用新型提供了用于涂布機的集流體清潔裝置,包括機架、支撐輥,支撐輥設(shè)置在機架上,還設(shè)有清潔器,所述清潔器上設(shè)有清洗部件、清潔器本體,所述清洗部件設(shè)置在清潔器本體上并且與所述支撐輥輥面接觸。該清潔裝置可以清除集流體表面的雜質(zhì)、污物,從而改善集流體涂布效果,使電池的充放電性能和循環(huán)性能都有了明顯提高。
文檔編號B08B3/08GK2765682SQ20052000430
公開日2006年3月22日 申請日期2005年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2005年2月3日
發(fā)明者張開超 申請人:深圳市比克電池有限公司
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