膜"。 KURARAY社制造的EVAL EF-XL)。該膜的利用DSC(升溫速度為10°C /min)測(cè)得的熔點(diǎn)為 180°C。對(duì)于該EVOH膜，通過(guò)在用160°C的鏡面加熱輥進(jìn)行熱處理后能夠立即用15°C的鏡面 輥進(jìn)行冷卻處理的設(shè)備進(jìn)行處理。處理后的EVOH膜的熱收縮率（MD和TD的平均）為3%。
[0146] 作為與EVOH貼合的基材，使用CPP膜和PP膜，得到CPP (20 μ m) //EVOH (15 μ m) // CPP (20 μ m) //PP 片（280 μ m)的層積膜。
[0147] 除了以下事項(xiàng)以外，與實(shí)施例1同樣地由上述層積膜得到成型體。
[0148] ?使用了橫寬直徑為100mm、底面直徑為100mm、深度為100mm、無(wú)角的R的圓筒形 的金屬模具。
[0149] 本例中，內(nèi)面的表面積B與開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為5。成型體的厚度的最大 值為350 μ m。
[0150] [實(shí)施例 11]
[0151] 作為阻隔膜，使用了厚度為18 μ m的芳香族聚酰胺系樹(shù)脂層（下文中稱為"MX-Ny 膜"。三菱瓦斯化學(xué)株式會(huì)社制造 MXD6)。該膜的熔點(diǎn)為224°C。熔點(diǎn)利用DSC (升溫速度 10°C /min)進(jìn)行測(cè)定。對(duì)于該MX-Ny膜，用200°C的鏡面加熱輥進(jìn)行熱處理后，立即用15°C 的鏡面輥進(jìn)行冷卻處理。處理后的MX-Ny膜的熱收縮率（MD和TD的平均）為2%。
[0152] 作為與Mx-Ny膜貼合的基材，使用CPP膜和PP膜，得到CPP (20 μ m)// Mx-Ny (18 μ m) //CPP (20 μ m) //PP 片（280 μ m)的層積膜。
[0153] 除了以下事項(xiàng)以外，與實(shí)施例1同樣地由上述層積膜得到成型體。
[0154] ?使用了橫寬直徑為100mm、底面直徑為100mm、深度為100mm、無(wú)角的R的圓筒形 的金屬模具。
[0155] 本例中，內(nèi)面的表面積B與開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為5。成型體的厚度的最大 值為350 μ m。
[0156] [比較例3]
[0157] 通過(guò)日本特開(kāi)昭62-285928號(hào)公報(bào)中記載的無(wú)拉伸系的T模澆注法得到了厚度為 25 μπι的PVDC膜（阻隔膜）。構(gòu)成該膜的樹(shù)脂為偏二氯乙烯與丙烯酸甲酯的共聚物，利用 DSC (升溫速度10°C /min)測(cè)得的熔點(diǎn)為165°C。該P(yáng)VDC膜的熱收縮率（MD和TD的平均） 為0 %，IR二色性比（MD和TD的平均）為1。無(wú)拉伸的PVDC單層膜過(guò)脆，頻繁發(fā)生破膜， 因此無(wú)法連續(xù)地進(jìn)行干式層壓，因而用單片樣品實(shí)施了干式層壓。
[0158] 作為與PVDC膜貼合的基材，使用CPP膜和PP膜，得到CPP (20 μ m)// PVDC (25 μ m) //CPP (20 μ m) //PP 片（280 μ m)的層積膜。
[0159] 除了以下事項(xiàng)以外，與實(shí)施例1同樣地由上述層積膜得到成型體。
[0160] ?使用了橫寬直徑為100mm、底面直徑為100mm、深度為150mm、無(wú)角的R的圓筒形 的金屬模具。
[0161] 本例中，內(nèi)面的表面積B與開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為7。成型的結(jié)果，確認(rèn)到： 可以散見(jiàn)PVDC層極薄之處，IR二色性比為1的完全無(wú)取向的PVDC膜的成型性差。
[0162] [比較例4]
[0163] 對(duì)于與實(shí)施例1同樣的阻隔膜（PVDC膜），根據(jù)日本專利第4889478號(hào)公報(bào)中記載 的方法實(shí)施了熱處理。即，對(duì)于熔點(diǎn)為165°C的膜，合用了利用130°C的輥的直接加熱法和 150°C的間接加熱法。通過(guò)熱處理確認(rèn)到，膜的寬度縮小了 2%。PVDC膜的熱收縮率（MD和 TD的平均）為1%，IR二色性比（MD和TD的平均）為1. 9。在熱處理時(shí)幾乎不使其收縮的 情況下，確認(rèn)到：雖然熱收縮率降低，但I(xiàn)R的二色性比不減小，分子的取向未被緩和。
[0164] 除了以下事項(xiàng)以外，與實(shí)施例1同樣地由上述層積膜得到成型體。
[0165] ?使用了橫寬直徑為100mm、底面直徑為100mm、深度為100mm、無(wú)角的R的圓筒形 的金屬模具。
[0166] 本例中，內(nèi)面的表面積B與開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為5。成型的結(jié)果，在PVDC 層確認(rèn)到斷裂，并且確認(rèn)到若分子的取向不充分則成型性差。
[0167] [比較例5]
[0168] 對(duì)于與實(shí)施例1同樣的阻隔膜（PVDC膜），使用日本特開(kāi)2011-212983號(hào)公報(bào)中 記載的拉幅機(jī)設(shè)備實(shí)施了熱處理。即，從拉幅機(jī)爐這側(cè)離線送出PVDC膜，在熱處理后進(jìn)行 卷繞。將氣氛溫度設(shè)為170°C，按照膜寬在熱處理的前后不發(fā)生變化的方式進(jìn)行了熱處理。 該P(yáng)VDC膜的熱收縮率（MD和TD的平均）為2%，IR二色性比（MD和TD的平均）為2. 0。 與比較例4同樣地在熱處理時(shí)不使其收縮的情況下，確認(rèn)到：雖然處理后的熱收縮率降低， 但I(xiàn)R的二色性比不減小，分子的取向未被緩和。
[0169] 除了以下事項(xiàng)以外，與實(shí)施例1同樣地由上述層積膜得到成型體。
[0170] ?使用了橫寬直徑為100mm、底面直徑為100mm、深度為100mm、無(wú)角的R的圓筒形 的金屬模具。
[0171] 本例中，內(nèi)面的表面積B與開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為5。成型的結(jié)果，在PVDC 層確認(rèn)到斷裂，并且確認(rèn)到若分子的取向未被緩和則成型性差。
[0172] 在表1、2中示出實(shí)施例和比較例的條件以及結(jié)果。
[0173]
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種成型體，其為將具有阻隔層的層積膜成型而得到的成型體， 所述成型體具備開(kāi)口面積為A的開(kāi)口和構(gòu)成用于容納內(nèi)容物的空間且表面積為B的內(nèi) 面，在所述內(nèi)面的表面積B與所述開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為1. 2以上7以下、且該成型 體的厚度的最大值為300ym以上的情況下，所述阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度T_之 比TMIN/Tmx為0. 2以上，在該成型體的厚度的最大值小于300ym的情況下，所述阻隔層的最 小厚度Tmin與最大厚度TMX之比TM1nAmax為0? 12以上。
2. 如權(quán)利要求1所述的成型體，其中，所述內(nèi)面的表面積B與所述開(kāi)口的開(kāi)口面積A之 比B/A為3. 6以上7以下。
3. 如權(quán)利要求1或2所述的成型體，其中，所述阻隔層在120°C條件下的熱收縮率為 1%以上5%以下。
4. 如權(quán)利要求1~3的任一項(xiàng)所述的成型體，其中，所述阻隔層為聚偏二氯乙烯系膜。
5. 如權(quán)利要求4所述的成型體，其中，所述聚偏二氯乙烯系膜的膜截面的二色性比為 1. 2 ~1. 8〇
6. 如權(quán)利要求4或5所述的成型體，其中，所述聚偏二氯乙烯系膜的厚度為8ym~ 50um〇
7. 如權(quán)利要求1~6的任一項(xiàng)所述的成型體，其中，在該成型體的厚度的最大值為 300ym以上的情況下，所述阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度T艇之比TMIN/TMX為0. 2以上 0. 5以下， 在該成型體的厚度的最大值小于300ym的情況下，所述阻隔層的最小厚度Tmin與最大 厚度Tmx之比TMIN/Tmx為0? 12以上0? 5以下。
8. -種成型體的制造方法，其為制造權(quán)利要求1~7的任一項(xiàng)所述的成型體的方法，該 制造方法具備以下工序： 實(shí)施熱處理的工序，在Tm- 30°C以上的溫度條件下對(duì)包含熔點(diǎn)為T(mén)m°C的樹(shù)脂的阻隔 膜實(shí)施熱處理； 制作層積膜的工序，該層積膜包含實(shí)施了所述熱處理的阻隔膜作為阻隔層；和 將所述層積膜成型為成型體的工序，其中，在所述內(nèi)面的表面積B與所述開(kāi)口的開(kāi)口 面積A之比B/A為1.2以上7以下、且該成型體的厚度的最大值為300ym以上的情況下， 使所述阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度Tmx之比TMIN/Tmx為0. 2以上，在該成型體的厚度 的最大值小于300ym的情況下，使所述阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度TMX之比TM11ZTmax 為0. 12以上。
9. 如權(quán)利要求8所述的成型體的制造方法，其中，所述實(shí)施熱處理的工序和所述制作 層積膜的工序通過(guò)擠出層壓來(lái)實(shí)施。
【專利摘要】本發(fā)明的包裝用成型體將具有阻隔層的層積膜成型而得到，該包裝用成型體具備開(kāi)口面積為A的開(kāi)口和構(gòu)成用于容納內(nèi)容物的空間且表面積為B的內(nèi)面，在內(nèi)面的表面積B與開(kāi)口的開(kāi)口面積A之比B/A為1.2以上7以下、且該成型體的厚度的最大值為300μm以上的情況下，阻隔層的最小厚度TMIN與最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX為0.2以上，在該成型體的厚度的最大值小于300μm的情況下，阻隔層的最小厚度TMIN與最大厚度TMAX之比TMIN/TMAX為0.12以上。
【IPC分類】B32B33-00, B65D65-40, B32B27-30, B32B37-10, B32B27-06, B32B37-06, B32B1-02
【公開(kāi)號(hào)】CN104797421
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201380028642
【發(fā)明人】松村忠佳, 奧田暢
【申請(qǐng)人】旭化成化學(xué)株式會(huì)社
【公開(kāi)日】2015年7月22日
【申請(qǐng)日】2013年11月19日
【公告號(hào)】EP2902192A1, WO2015075780A1