成型體及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及將具有阻隔層的層積膜成型而得到的成型體及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 作為容納食品或藥品的容器，使用了具有阻隔層的成型體。該成型體通過將具有 阻隔層的層積膜成型而制造。阻隔層起到妨礙內(nèi)容物與空氣中的氧或水蒸氣接觸的作用。 迄今為止正在開發(fā)具有阻隔層的各種容器。例如，專利文獻(xiàn)1中公開了一種使用經(jīng)拉伸的 聚偏二氯乙烯（PVDC)膜的多層塑料容器。專利文獻(xiàn)2中公開了一種由偏二氯乙烯系樹脂 構(gòu)成的層壓用無拉伸膜。專利文獻(xiàn)3、4中公開了一種用于提高偏二氯乙烯系拉伸膜的成型 性的熱處理。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) [0004] 專利文獻(xiàn)
[0005] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開平3-244537號(hào)公報(bào)
[0006] 專利文獻(xiàn)2 :日本特開昭62-285928號(hào)公報(bào)
[0007] 專利文獻(xiàn)3 :日本專利第4889478號(hào)公報(bào)
[0008] 專利文獻(xiàn)4 :日本特開2011-212983號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 發(fā)明要解決的課題
[0010] 然而，為了使成型體穩(wěn)定地發(fā)揮阻隔性能，在成型體的整個(gè)厚度之中希望阻隔層 的厚度占特定的比例以上。但是，在專利文獻(xiàn)1中記載的發(fā)明中，使用了經(jīng)相當(dāng)程度拉伸的 PVDC膜作為阻隔層。因此，在由該P(yáng)VDC膜制作的成型體中存在阻隔層（PVDC膜）的厚度顯 著薄的部分。原本PVDC膜具有難以伸長的性質(zhì)，因此包含PVDC膜的現(xiàn)有的層積膜的成型 性不充分，難以應(yīng)用于深容器的成型。在專利文獻(xiàn)2中記載的發(fā)明中，使用了無拉伸的PVDC 膜。在由包含無拉伸的PVDC膜的層積膜制作成型體的情況下，也存在阻隔層（PVDC膜）的 厚度顯著薄的部分。另外，分子完全未進(jìn)行取向的單層的PVDC膜脆、處理性顯著差，因此對(duì) 使用該膜穩(wěn)定地生成制品來說還存在改善的余地。專利文獻(xiàn)3、4中記載的發(fā)明試圖通過熱 處理來提高膜的成型性，但是在深沖成型中的應(yīng)用、即制造更深的成型容器方面還存在改 善的余地。
[0011] 在由包含分子完全未進(jìn)行取向的無拉伸膜作為阻隔層的層積膜來制造成型體的 情況下，無拉伸膜的應(yīng)力顯著較低，因此通過成型而使無拉伸膜產(chǎn)生厚度斑，其結(jié)果，容易 產(chǎn)生無拉伸膜（阻隔層）的厚度顯著較薄的部位。由此，具有成型體的阻隔性能和強(qiáng)度容 易不足的問題。另一方面，在由包含分子因拉伸而過度取向的拉伸膜作為阻隔層的層積膜 來制造成型體的情況下，拉伸膜的應(yīng)力顯著較高，因而成型性不充分。因此，例如若利用模 塞而強(qiáng)行成型，則拉伸膜會(huì)產(chǎn)生厚度斑，其結(jié)果，成型體中容易產(chǎn)生拉伸膜（阻隔層）的厚 度極薄的部位。
[0012] 本發(fā)明是鑒于上述實(shí)際情況而進(jìn)行的，其目的在于提供一種具有某種程度的深度 且具有足夠高的阻隔性的成型體及其制造方法。
[0013] 用于解決課題的方案
[0014] 本發(fā)明人為了解決上述課題進(jìn)行了深入研宄，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，在將包含阻隔層的層積 膜加工成成型體后，為了將阻隔層的厚度保持為某個(gè)一定厚度以上，將膜的分子取向度保 持在適度范圍是有用的，由此完成了本發(fā)明。
[0015] SP，本發(fā)明如下所述。
[0016] [1] -種成型體，其為將具有阻隔層的層積膜成型而得到的成型體，所述成型體具 備開口面積為A的開口和構(gòu)成用于容納內(nèi)容物的空間且表面積為B的內(nèi)面，在內(nèi)面的表面 積B與開口的開口面積A之比B/A為1. 2以上7以下、且該成型體的厚度的最大值為300 μ m 以上的情況下，阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度T g之比T MIN/TMX為0. 2以上，在該成型 體的厚度的最大值小于300 μ m的情況下，阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度T Jttx之比Tmin/ Tmax為0. 12以上。
[0017] [2]如[1]所述的成型體，其中，內(nèi)面的表面積B與開口的開口面積A之比B/A為 3. 6以上7以下。
[0018] [3]如[1]或[2]所述的成型體，其中，阻隔層在120°C條件下的熱收縮率為1%以 上5%以下。
[0019] [4]如[1]~[3]的任一項(xiàng)所述的成型體，其中，阻隔層為聚偏二氯乙烯系膜。
[0020] [5]如[4]所述的成型體，其中，聚偏二氯乙烯系膜的膜截面的二色性比為1. 2~ 1. 8〇
[0021] [6]如[4]或[5]所述的成型體，其中，聚偏二氯乙烯系膜的厚度為8μπι~50ym。
[0022] [7]如[1]~[6]的任一項(xiàng)所述的成型體，其中，在該成型體的厚度的最大值為 300 μ m以上的情況下，阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度Tmax之比T M1nAmax為0. 2以上0. 5 以下，在該成型體的厚度的最大值小于300 μ m的情況下，阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚 度Tmx之比T MIN/Tmx為0· 1以上0· 5以下。
[0023] [8] -種成型體的制造方法，其為制造 [1]~[7]的任一項(xiàng)所述的成型體的方法， 該制造方法具備以下工序：實(shí)施熱處理的工序，在Tm - 30°C以上的溫度條件下對(duì)包含熔點(diǎn) 為Tm°C的樹脂的阻隔膜實(shí)施熱處理；制作層積膜的工序，該層積膜包含實(shí)施了所述熱處理 的阻隔膜作為阻隔層；和將所述層積膜成型為成型體的工序，其中，在內(nèi)面的表面積B與開 口的開口面積A之比B/A為1. 2以上7以下、且該成型體的厚度的最大值為300 μ m以上的 情況下，使阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度T g之比T MIN/TMX為0. 2以上，在該成型體的 厚度的最大值小于300 μ m的情況下，使阻隔層的最小厚度Tmin與最大厚度Tmx之比TminA max 為0. 12以上。
[0024] [9]如[8]所述的成型體的制造方法，其中，實(shí)施熱處理的工序和制作層積膜的工 序通過擠出層壓來實(shí)施。
[0025] 發(fā)明的效果
[0026] 根據(jù)本發(fā)明，可以提供一種具有某種程度的深度且具有足夠高的阻隔性的成型 體。
【附圖說明】
[0027] 圖1是示出本發(fā)明的成型體的實(shí)施方式的立體圖。
[0028] 圖2是示出具有與圖1所示的成型體不同的深度的成型體的立體圖。
[0029] 圖3是示出本發(fā)明的成型體的其它實(shí)施方式的立體圖。
[0030] 圖4是示出本發(fā)明的成型體的其它實(shí)施方式的立體圖。
【具體實(shí)施方式】
[0031] 下面，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)說明。以下的實(shí)施方式是用于說明本發(fā)明的 例示，并不意味將本發(fā)明限定于以下的內(nèi)容。本發(fā)明實(shí)施時(shí)可以在其要點(diǎn)的范圍內(nèi)適當(dāng)變 形。
[0032] 〈成型體〉
[0033] 圖1、2是示出實(shí)施方式的成型體的立體圖。成型體10AU0B是將具有阻隔層5的 層積膜1成型而得到的，用于容納應(yīng)當(dāng)避免與氧或水蒸氣接觸的食品、化學(xué)藥品或其它的 制品。如圖1、2所示，成型體10AU0B具備構(gòu)成用于容納內(nèi)容物的空間的容納部2、和貼合 有蓋（未圖示）的法蘭部3。容納部2具有開口面積為A的開口 2a和表面積為B的內(nèi)面 2b。在開口 2a的外側(cè)形成有法蘭部3。
[0034] 在成型體中，內(nèi)面2b的表面積B與開口 2a的開口面積A之比B/A為1.2以上7 以下。成型體的表面積B與開口面積A之比B/A是層積膜1的成型時(shí)的伸長率的標(biāo)準(zhǔn)。需 要說明的是，此處所說的內(nèi)面2b的表面積B是指不包括成型體的法蘭部3的面積而僅為構(gòu) 成用于容納內(nèi)容物的空間的部分（容納部）的面積。例如在成型體為具有底2c的圓筒形 狀且深度H相對(duì)于開口 2a的直徑D的比例Η/D為0. 5的情況下（參照?qǐng)D1)，表面積B與開 口面積A之比B/A為3 ;在Η/D為I. 0的情況下（參照?qǐng)D2)，B/A為5 ;在Η/D為1. 5的情 況下，B/A為7。B/A的值為3. 6以上7以下的成型體足夠被分類為經(jīng)深沖成型的成型體。
[0035] 需要說明的是，成型體的容納部2的形狀不限定于上述形狀。例如，如圖3所示， 側(cè)面2d可以形成錐形，開口面積從底2c向開口 2a擴(kuò)大。另外，容納部2未必需要由底2c 和側(cè)面2d構(gòu)成，如圖4所示，容納部2的整體可以帶圓形。
[0036] 成型體（包括法蘭部3)的厚度的最大值為300 μm以上的情況下，阻隔層5的最 小厚度Tmin與最大厚度T艇之比T MIN/TMX為0. 2以上0. 5以下。在使成型體的最大厚度為 300 μπι以上的情況下，用于成型體的制造的層積膜也被稱為"硬質(zhì)片"，片材成型時(shí)的應(yīng)力 高。因此，作為成型方法，僅利用空氣壓力進(jìn)行成型的真空法或壓空法或者兩者的合用法是 不充分的，采用柱塞輔助法或使用一對(duì)陰陽模金屬模具的匹配模具法。這些方法以物理方 式用強(qiáng)力擠壓片材而進(jìn)行成型，因此具有成型壓力充分均勻、在成型時(shí)難以產(chǎn)生薄的部分 的特征。
[0037] 成型體（包括法蘭部3)的厚度的最大值小于300 μπι的情況下，阻隔層5的最小 厚度Tmin與最大厚度Tmx之比T ΜΙΝ/ΤΜΧ為0. 12以上0. 5以下。在使成型體的最大厚度小于 300 μm的情況下，一般用于成型體的制造的層積膜也被成為"軟質(zhì)膜"，膜成型時(shí)的應(yīng)力比 較低。因此，作為成型方法，采用僅利用空氣壓力進(jìn)行成型的真空法或壓空法或者兩者的合 用法。該情況下，在成型時(shí)無法使空氣壓力均勻地施加至膜整體，與柱塞輔助法