專利名稱:用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備及使用其的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法，更具體地，涉及一種用于對顯示裝置(例如，液晶顯示裝置)中使用的基板進行蝕刻的設(shè)備，以及一種使用該設(shè)備的制造方法。
背景技術(shù)：
通常，薄膜晶體管陣列是通過幾道沉積和蝕刻工藝來完成的。
這里，蝕刻工藝分為干蝕刻方法和濕蝕刻方法。
干蝕刻方法是通過使用等離子氣體去除半導(dǎo)體層或金屬的方法。干蝕刻方法的例子包括等離子蝕刻、濺射蝕刻和活性離子蝕刻。
濕蝕刻方法是這樣一種方法，通過使用能夠與具有待蝕刻層的對象的目標(biāo)層產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)并使其熔化的化學(xué)溶液，將該對象蝕刻成期望形式。濕蝕刻方法的例子包括浸蝕和噴蝕。
圖1示出了傳統(tǒng)的濕蝕刻設(shè)備的整體布局。
如圖1所示，傳統(tǒng)的濕蝕刻設(shè)備主要包括加載器10、蝕刻裝置20、DI(去離子水)沖洗裝置30、用作干燥裝置的氣刀40、緩沖器50以及卸載器60。
上述傳統(tǒng)的濕蝕刻設(shè)備的問題在于，如圖1所示，上述裝置10、20、30、40、50和60排列成行，因此不可避免地加長了整體布局的占地面積(footprint)。
具體地，這種占地面積的增加導(dǎo)致了安建該濕蝕刻設(shè)備所需的施工場所的增大。因此，迫切需要解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明旨在一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備以及使用該蝕刻設(shè)備的制造方法，其基本上克服了由于現(xiàn)有技術(shù)的局限性和缺點而導(dǎo)致的一個或更多個問題。
本發(fā)明的一個目的是提供一種用于對用于制造平板顯示裝置的基板進行蝕刻的設(shè)備，其可以實現(xiàn)其整體占地面積的減少，以及一種使用該蝕刻設(shè)備來制造平板顯示裝置的方法。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用于制造平板顯示裝置的設(shè)備，其包括至少一個止動件(stopper)，所述止動件具有改進的結(jié)構(gòu)以防止在傳送基板過程中對基板產(chǎn)生損害或基板斷裂。
本發(fā)明的其他優(yōu)點、目的和特征將在以下描述中進行部分闡述，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀以下描述后將明白其部分，或者可以通過實踐本發(fā)明而習(xí)得?？梢酝ㄟ^在所寫說明書及其權(quán)利要求
以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)，來實現(xiàn)并獲得本發(fā)明的這些目的和其他優(yōu)點。
為了實現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明意圖的這些目的和其他優(yōu)點，如這里實施并廣泛描述的，一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，包括加載器，用于加載或卸載基板；蝕刻裝置，用于將基板蝕刻成期望形狀；DI沖洗裝置，用于沖洗在蝕刻工藝期間產(chǎn)生的細小顆粒；氣刀，用于對基板進行干燥；以及一個或更多個轉(zhuǎn)向臺，設(shè)置在上述各個裝置之間的一個或更多個位置處，并適于改變基板的傳送方向。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，其包括用于改變基板的行進方向的一個或更多個轉(zhuǎn)向臺，其中每個轉(zhuǎn)向臺都包括一個或更多個運入輥單元，被安裝用于接收基板；一個或更多個運出輥單元，被安裝用于排出基板，所述運出輥單元具有可上下移動的結(jié)構(gòu)；以及至少一個止動件，用于防止基板被過度地引入到相關(guān)轉(zhuǎn)向臺上，所述止動件的上端和下端具有彼此不同的直徑。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供了一種用于制造平板顯示裝置的方法，包括通過控制加載器將基板加載到蝕刻裝置中；通過控制蝕刻裝置將所加載的基板蝕刻成期望形狀；通過控制運入轉(zhuǎn)向臺和運出轉(zhuǎn)向臺，對從所述蝕刻裝置排出的所述基板進行轉(zhuǎn)向，并朝向DI沖洗裝置傳送所述基板；通過控制DI沖洗裝置來沖洗基板；通過控制氣刀對沖洗后的基板進行干燥；以及通過控制加載器對從氣刀排出的基板進行卸載。
應(yīng)理解，本發(fā)明前面的概括描述和下面的詳細描述都是示例性和說明性的，旨在對所要求保護的本發(fā)明提供進一步的說明。
包括附圖以提供對本發(fā)明的進一步理解并且將其并入構(gòu)成本申請的一部分，附圖示出了本發(fā)明的(多個)實施例并與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。在附圖中圖1是示意性示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備的布局的框圖；圖2是示意性示出根據(jù)本發(fā)明實施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備的布局的框圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于說明運入轉(zhuǎn)向臺的結(jié)構(gòu)的重要部分的示意性放大立體圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例的用于說明運出轉(zhuǎn)向臺的結(jié)構(gòu)的重要部分的示意性放大立體圖；圖5是說明當(dāng)根據(jù)本發(fā)明實施例的止動件具有圓柱形狀時對基板的損害的示意性側(cè)剖視圖；圖6是說明根據(jù)本發(fā)明實施例的第一止動件的示意性側(cè)剖視圖；以及圖7是說明根據(jù)本發(fā)明實施例的第二止動件的示意性側(cè)剖視圖。
具體實施方式下面將詳細描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例，附圖中示出了其示例。只要有可能，就在所有附圖中使用相同標(biāo)號來表示相同或相似的部分。
下面將參照圖2至圖7對根據(jù)本發(fā)明的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備的優(yōu)選實施例進行更詳細的說明。
首先，圖2是示意性示出包括在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備中的各個裝置的布局的結(jié)構(gòu)圖。
通過圖2可以理解，根據(jù)本發(fā)明實施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備主要包括加載器100、帶有處理槽(bath)的蝕刻裝置200、DI沖洗裝置300、用作干燥裝置的氣刀400，以及多個轉(zhuǎn)向臺600和700。
這里，加載器100是用于加載或卸載基板1的裝置。加載器100具有一個或更多個機械手110。
當(dāng)然，加載器100可以使用傳送帶或輥子來加載或卸載基板1。
蝕刻裝置200是用于接收從加載器100傳送來的基板1并將基板1蝕刻為期望形狀的裝置。
在本發(fā)明的該實施例中，蝕刻裝置200是被構(gòu)造成通過使用蝕刻溶液來執(zhí)行蝕刻工藝的濕蝕刻裝置。從外部源饋送蝕刻溶液。
特別地，蝕刻裝置200被布置成與加載器100平行。
優(yōu)選地，如圖2所示，在加載器100與蝕刻裝置200之間插設(shè)有中性站(neutral station)510。中性站510用作緩和間隔(moderationspace)，用于防止蝕刻裝置200中存在的強酸性溶液腐蝕加載器100。
DI沖洗裝置300是這樣的裝置，其用于接收經(jīng)蝕刻的基板1，并沖洗在蝕刻工藝期間從基板1上分離出的細小顆粒和蝕刻劑溶液。
在本實施例中，DI沖洗裝置300通過使用去離子(DI)水來去除蝕刻工藝中所使用的蝕刻劑溶液。
具體地，DI沖洗裝置300被布置成沿著與蝕刻裝置200所執(zhí)行的蝕刻工藝相反的方向執(zhí)行沖洗工藝。
特別地，如圖2所示，DI沖洗裝置300被定位成與蝕刻裝置200相對。
氣刀400是用于接收經(jīng)DI沖洗裝置300沖洗過的基板1并對基板1進行干燥的裝置。
在本實施例中，氣刀400適于通過朝向基板1噴氣而除去留在基板1上的水分。
氣刀400位于DI沖洗裝置300的基板出口側(cè)，并且通過加載器100將已經(jīng)過氣刀400的基板1卸載。
優(yōu)選地，如圖2所示，在氣刀400與加載器100之間插設(shè)有緩沖器520，用于臨時存儲經(jīng)干燥的基板。
轉(zhuǎn)向臺600和700是被構(gòu)造用于轉(zhuǎn)向基板1以跟隨行進方向的裝置。
轉(zhuǎn)向臺600和700位于上述裝置200、300和400之間的一個或更多個位置處。在本發(fā)明的該實施例中，轉(zhuǎn)向臺600和700分別位于蝕刻裝置200的基板出口側(cè)和DI沖洗裝置300的基板入口側(cè)。
具體地，根據(jù)本發(fā)明的該實施例，其中一個轉(zhuǎn)向臺用作運入轉(zhuǎn)向臺600，而另一個轉(zhuǎn)向臺用作運出轉(zhuǎn)向臺700。
運入轉(zhuǎn)向臺600被構(gòu)造用于接收從蝕刻裝置200傳送來的基板1，并沿著與基板接收方向垂直的方向傳送基板1。
運出轉(zhuǎn)向臺700被構(gòu)造用于接收從運入轉(zhuǎn)向臺600傳送來的基板1，并沿著與基板接收方向垂直的方向，即沿著DI沖洗裝置300所處方向排出基板1。
上述各個轉(zhuǎn)向臺600和700可以采用多種結(jié)構(gòu)來轉(zhuǎn)向基板1。在這多種結(jié)構(gòu)中，根據(jù)本發(fā)明的該實施例，采用如下的一系列結(jié)構(gòu)在沿彼此垂直的兩個方向上提升和滾動基板1的同時來傳送基板1。
下面將參照圖3至圖7更詳細地說明用于傳送處于其轉(zhuǎn)向狀態(tài)的基板1的系列結(jié)構(gòu)。
首先，如圖3和圖4所示，運入轉(zhuǎn)向臺600和運出轉(zhuǎn)向臺700中的每一個都包括一個或更多個運入輥單元610或710，被安裝用于接收基板1；以及一個或更多個運出輥單元620或720，被安裝用于排出基板1。
運入輥單元610和710以及運出輥單元620和720中的每一個都包括用于進行滾動運動的多個輥子611、621、711或721；通過輥子611、621、711或721接合以進行旋轉(zhuǎn)運動的驅(qū)動軸612、622、712或722；以及用于驅(qū)動驅(qū)動軸612、622、712或722的驅(qū)動電機613、623、713或723。
這里，運出輥單元620和720被安裝為沿著與運入輥單元610和710垂直的方向進行滾動運動。
運入轉(zhuǎn)向臺600的運出輥單元620和運出轉(zhuǎn)向臺700的運入輥單元710還被安裝成可向上和向下運動。為此，提升缸630和730分別與運出輥單元620和運入輥單元710的驅(qū)動軸中的至少一個接合。
當(dāng)設(shè)置有一個或更多個驅(qū)動軸612、622、712和722時，可以在各個驅(qū)動軸612、622、712和722處設(shè)置一個或更多個驅(qū)動電機613、623、713和723，如圖3和圖4所示。另選地，可以設(shè)置單個驅(qū)動電機，以通過使用帶或鏈而使各個驅(qū)動軸612、622、712和722一起運轉(zhuǎn)。
具體地，運入轉(zhuǎn)向臺600中包括的各運入輥單元610(以下稱為“第一運入輥單元”)的驅(qū)動軸612(以下稱為“第一驅(qū)動軸”)定位在各運出輥單元620(以下稱為“第一運出輥單元”)的驅(qū)動軸622(以下稱為“第二驅(qū)動軸”)的下方。而且，第一運入輥單元610的各個輥子611(以下稱為“第一輥子”)的直徑大于第一運出輥單元620的各個輥子621(以下稱為“第二輥子”)的直徑。
另外，運出轉(zhuǎn)向臺700中包括的各運入輥單元710(以下稱為“第二運入輥單元”)的驅(qū)動軸712(以下稱為“第三驅(qū)動軸”)定位在各運出輥單元720(以下稱為“第二運出輥單元”)的驅(qū)動軸722(以下稱為“第四驅(qū)動軸”)的上方。第二運入輥單元710的各個輥子611(以下稱為“第三輥子”)的直徑小于第二運出輥單元720的各個輥子721(以下稱為“第四輥子”)的直徑。
轉(zhuǎn)向臺600和700中的每一個都還包括至少一個止動件640或740，用于防止過度地引入基板1。在本實施例中，止動件640或740由橡膠或樹脂(例如，聚四氟乙烯)制成。
優(yōu)選地，如圖6和圖7所示，止動件640和740的每一個都被構(gòu)造成其上端和下端具有彼此不同的直徑。
如果止動件640和740具有圓柱形狀，則它們不可避免地與引入到轉(zhuǎn)向臺600和700上的基板1連續(xù)接觸，即連續(xù)暴露于外部沖擊。因此，止動件640和740由于所述連續(xù)接觸沖擊而在其外周的特定區(qū)域處出現(xiàn)逐漸變形。
例如，如圖5所示，止動件640或740外周的特定區(qū)域可能由于與基板1的頻繁接觸而凹陷。
具體地，如果基板1插入到因止動件640或740的變形而形成的止動件640或740的凹陷區(qū)域(以下稱為“受損區(qū)域”)N中，則基板1被止動件640或740的受損區(qū)域N卡住。因此，當(dāng)轉(zhuǎn)向臺600和700的第一運出輥單元620和第二運入輥單元710向上或向下運動時，基板1的一部分(表示為圖5的圓“A”)可能受損。
因此，最優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明該實施例的止動件640和740被構(gòu)造成其上端和下端具有彼此不同的直徑，如圖6和圖7所示。
如圖6所示，運入轉(zhuǎn)向臺600中包括的各止動件640(以下稱為“第一止動件”)優(yōu)選地被構(gòu)造成上端的直徑小于下端的直徑。更優(yōu)選地，第一止動件640具有梯形形狀，其中其直徑從下端向上端逐漸減小。
將第一止動件640形成為具有梯形形狀的原因在于，為了將引入到運入轉(zhuǎn)向臺600上的基板1傳送到運出轉(zhuǎn)向臺700，第一運出輥單元620必須向上運動。即，當(dāng)?shù)谝恢箘蛹?40具有梯形形狀時，可以完全防止基板1與第一止動件640接觸，即使基板1向上運動也是如此。
另外，如圖7所示，運出轉(zhuǎn)向臺700中包括的各止動件740(以下稱為“第二止動件”)優(yōu)選地被構(gòu)造成上端的直徑大于下端的直徑。更優(yōu)選地，第二止動件740具有倒梯形形狀，其中其直徑從下端向上端逐漸增大。
將第二止動件740形成為具有倒梯形形狀的原因在于，為了將引入到運出轉(zhuǎn)向臺700上的基板1傳送到DI沖洗裝置300，第二運入輥單元710必須向下運動。即，當(dāng)?shù)诙箘蛹哂械固菪涡螤顣r，可以完全防止基板1與第二止動件740接觸，即使基板1向下運動也是如此。
另選地，第一止動件640和第二止動件740可以具有多級形狀，以使其直徑從下端向上端減小，或者從下端向上端增大。
優(yōu)選地，第一止動件640和第二止動件740通過使用鉸鏈分別與轉(zhuǎn)向臺600和700接合，從而它們可以朝向基板1的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
采用樞軸轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)具有以下效果在將基板1引入到轉(zhuǎn)向臺600和700上和從其排出時，減小了基板1與止動件640和740之間的摩擦。
以上描述說明了根據(jù)本發(fā)明實施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，而以下描述將說明使用上述蝕刻設(shè)備的基板蝕刻工藝。
首先，在對加載器100進行控制使得要被蝕刻的基板被加載到蝕刻單元200中之后，對蝕刻單元200進行控制，以對所加載的基板1進行蝕刻。
由此，在蝕刻單元200中將基板1蝕刻成具有期望形狀。之后，從蝕刻裝置200排出經(jīng)完全蝕刻的基板1，然后在各轉(zhuǎn)向臺的控制操作下，將其傳送到運入轉(zhuǎn)向臺600上。
在這種情況下，首先將基板1放在運入轉(zhuǎn)向臺600的第一運入輥單元610上。由此，隨著第一輥子611根據(jù)第一驅(qū)動電機613的操作而進行滾動運動，可以將基板1完全引入到運入轉(zhuǎn)向臺600上。
在一定程度地將基板1引入到運入轉(zhuǎn)向臺600上之后，基板1與運入轉(zhuǎn)向臺600中所包括的第一止動件640接觸。由此，可以通過止動件640防止過度地引入基板1。
如果基板1的引入完成，則第一運入輥單元610的操作停止，同時對提升缸630進行操作以使第一運出輥單元620向上運動。
由此，將放在第一運入輥單元610的第一輥子611上的基板1放在了第一運出輥單元620的第二輥子621的頂部。
當(dāng)?shù)谝贿\出輥單元620向上運動時，止動件640的梯形形狀(其中，其直徑從下端向上端減小)使得與第一運出輥單元620一起向上移動的基板1沒有與第一止動件640接觸的危險。這樣就防止了對基板1的損傷。
如果第一運出輥單元620的向上運動完成，則根據(jù)第二驅(qū)動電機623的運轉(zhuǎn)使第二驅(qū)動軸622旋轉(zhuǎn)，從而導(dǎo)致第二輥子621的滾動運動。在這種情況下，第二驅(qū)動軸622的旋轉(zhuǎn)方向被確定為使得第二輥子621朝向第二運入輥單元710滾動。
結(jié)果，基板1沿著第一運出輥單元620的第二輥子621的滾動方向運動，即，沿著與其初始加載方向垂直的方向運動，從而被傳送到運出轉(zhuǎn)向臺700中所包括的第二運入輥單元710的第三輥子711的頂部。在這種情況下，第二運入輥單元710根據(jù)提升缸730的操作，預(yù)先相對于第二運出輥單元720向上運動。
當(dāng)根據(jù)第一運出輥單元620的滾動運動將基板1傳送到運出轉(zhuǎn)向臺700上時，基板1可能與第一止動件640接觸。然而，第一止動件640樞轉(zhuǎn)接合在運入轉(zhuǎn)向臺600上從而朝向基板1的傳送方向旋轉(zhuǎn)，因此基板1與第一止動件640之間的摩擦非常低。
具體地，在一定程度地將基板1引入到運出轉(zhuǎn)向臺700上之后，基板1與運出轉(zhuǎn)向臺700的第二止動件740接觸。由此，可以通過第二止動件740防止基板1的過度引入。
一旦通過上述一系列過程將基板1完全傳送到運出轉(zhuǎn)向臺700上，第二運入輥單元710就根據(jù)提升缸730的操作而向下運動。結(jié)果，將基板1放在了第二運出輥單元720的第四輥子721的頂部。
當(dāng)基板1向下運動時，第二止動件740的倒梯形形狀使得基板1沒有與第二止動件740接觸的危險。這可以防止對基板1的損傷。
如果基板1的向下運動完成，則根據(jù)驅(qū)動電機723的運轉(zhuǎn)使第二運出輥單元720的第四驅(qū)動軸722旋轉(zhuǎn)，從而導(dǎo)致第四輥子721的滾動運動。
由此，放在第四輥子721的頂部上的基板1被沿著與基板引入方向垂直的方向(即，沿著與基板1的初始加載方向相反的方向)排出，從而被傳送到DI沖洗裝置300。
之后，對DI沖洗裝置300進行控制，以接收并沖洗基板1。
具體地，當(dāng)基板1經(jīng)過DI沖洗裝置300時，通過DI沖洗裝置300沖洗掉在蝕刻工藝期間從基板1分離出的細小顆粒和蝕刻劑溶液。
在經(jīng)DI沖洗裝置300沖洗之后，從DI沖洗裝置300排出基板1，并將其傳送到氣刀400。由此，在經(jīng)過氣刀400時，能夠根據(jù)氣刀400的操作而對基板1進行干燥。
最后，將完全干燥的基板1臨時存儲在緩沖器520中，然后通過加載器100進行卸載。這樣，就完成了用于蝕刻基板1的一系列處理。
通過上面描述可以明白，根據(jù)本發(fā)明實施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備具有如下效果。
首先，根據(jù)本發(fā)明，該蝕刻設(shè)備的各裝置被布置成可以沿相反的方向連續(xù)地進行一系列處理。這樣的效果是使得該蝕刻設(shè)備的整體布局最小化。
其次，本發(fā)明的蝕刻設(shè)備可以使得當(dāng)在各個轉(zhuǎn)向臺的操作下傳送基板時對基板的損傷最小，從而帶來產(chǎn)量的提高。
具體地，根據(jù)本發(fā)明，設(shè)置在蝕刻設(shè)備中以防止基板被過度引入到各轉(zhuǎn)向臺上的各止動件具有梯形或倒梯形形狀。結(jié)果，該蝕刻設(shè)備可以使得在基板的轉(zhuǎn)向及向上和向下運動過程中導(dǎo)致的對基板的損害最小。
對于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下對本發(fā)明作出各種修改和變化。因此，本發(fā)明旨在覆蓋落在所附權(quán)利要求
及其等價物范圍內(nèi)的本發(fā)明的這些修改和變化。
本申請要求2005年12月29日提交的韓國專利申請No.10-2005-133995的優(yōu)先權(quán)，通過引用將其并入如同在此處進行了充分闡述。
權(quán)利要求
1.一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，包括加載器，用于加載或卸載基板；蝕刻裝置，用于將所述基板蝕刻成期望形狀；去離子水沖洗裝置，用于沖洗在蝕刻工藝過程中產(chǎn)生的細小顆粒；氣刀，用于對所述基板進行干燥；以及一個或更多個轉(zhuǎn)向臺，設(shè)置在上述各個裝置之間的一個或更多個位置處，適于改變所述基板的傳送方向。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的蝕刻設(shè)備，其中所述去離子水沖洗裝置被布置成沿著與由所述蝕刻裝置執(zhí)行的蝕刻工藝相反的方向執(zhí)行沖洗工藝；并且所述轉(zhuǎn)向臺布置在所述蝕刻裝置和所述去離子水沖洗裝置之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述轉(zhuǎn)向臺包括運入轉(zhuǎn)向臺，用于接收從所述蝕刻裝置傳送來的基板，并沿著與基板接收方向垂直的方向傳送該基板；以及運出轉(zhuǎn)向臺，用于接收從所述運入轉(zhuǎn)向臺傳送來的基板并將該基板排出到所述去離子水沖洗裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運入轉(zhuǎn)向臺和所述運出轉(zhuǎn)向臺中的每一個都包括至少一個止動件，用于防止基板被過度引入到相關(guān)轉(zhuǎn)向臺上，所述止動件的上端和下端具有彼此不同的直徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求
4所述的蝕刻設(shè)備，其中所述運入轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件具有梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸減??；并且所述運出轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件具有倒梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求
5所述的蝕刻設(shè)備，其中，每個止動件都被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
7.一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，包括一個或更多個用于改變基板的行進方向的轉(zhuǎn)向臺，其中每個轉(zhuǎn)向臺都包括一個或更多個運入輥單元，被安裝用于接收基板；一個或更多個運出輥單元，被安裝用于排出基板，所述運出輥單元具有可上下移動的結(jié)構(gòu)；以及至少一個止動件，用于防止基板被過度地引入到相關(guān)轉(zhuǎn)向臺上，所述止動件的上端和下端具有彼此不同的直徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求
7所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述轉(zhuǎn)向臺包括運入轉(zhuǎn)向臺，用于接收從用于執(zhí)行先前工藝的裝置傳送來的基板；以及運出轉(zhuǎn)向臺，用于接收從所述運入轉(zhuǎn)向臺傳送來的基板，并將該基板排出到用于執(zhí)行后續(xù)工藝的裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求
8所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運入轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件構(gòu)被造成上端的直徑小于下端的直徑。
10.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運入轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件具有梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸減小。
11.根據(jù)權(quán)利要求
10所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運入轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求
8或9所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運出轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件被構(gòu)造成上端的直徑大于下端的直徑。
13.根據(jù)權(quán)利要求
12所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運出轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件具有倒梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸增大。
14.根據(jù)權(quán)利要求
13所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運出轉(zhuǎn)向臺中包括的所述止動件被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求
7所述的蝕刻設(shè)備，其中，每個止動件都具有梯形或倒梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸變化。
16.根據(jù)權(quán)利要求
15所述的蝕刻設(shè)備，其中，每個止動件都被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
17.一種用于制造平板顯示裝置的方法，包括通過控制加載器將基板加載到蝕刻裝置中；通過控制所述蝕刻裝置將所加載的基板蝕刻成期望形狀；通過控制運入轉(zhuǎn)向臺和運出轉(zhuǎn)向臺，對從所述蝕刻裝置排出的所述基板進行轉(zhuǎn)向，并朝向去離子水沖洗裝置傳送所述基板；通過控制所述去離子水沖洗裝置，對經(jīng)所述轉(zhuǎn)向臺傳送的所述基板進行沖洗；通過控制氣刀，對從所述去離子水沖洗裝置排出的經(jīng)沖洗基板進行干燥；以及通過控制所述加載器，對從所述氣刀排出的所述基板進行卸載。
18.根據(jù)權(quán)利要求
17所述的方法，其中，所述基板的轉(zhuǎn)向和傳送包括如果所述基板被完全引入到所述運入轉(zhuǎn)向臺上，則使所述運入轉(zhuǎn)向臺的一個或更多個運出輥單元以及所述運出轉(zhuǎn)向臺的一個或更多個運入輥單元運動；通過使所述運入轉(zhuǎn)向臺的所述運出輥單元朝向所述運出轉(zhuǎn)向臺的所述運入輥單元旋轉(zhuǎn)而一次轉(zhuǎn)向基板，以沿著與所述基板的初始加載方向垂直的方向傳送所述基板；如果所述基板被完全引入到所述運出轉(zhuǎn)向臺的所述運入輥單元上，則使所述運出轉(zhuǎn)向臺的所述運入輥單元向下運動；以及通過使所述運出轉(zhuǎn)向臺的一個或更多個運出輥單元朝向所述加載器旋轉(zhuǎn)而二次轉(zhuǎn)向所述基板，以沿著與所述基板的初始加載方向相反的方向傳送所述基板。
專利摘要
這里公開了一種用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法。這種用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法具有如下效果減少了用于蝕刻基板的設(shè)備的整體占地面積，并通過止動件防止了在傳送基板期間對基板的損傷或基板的斷裂。所述蝕刻設(shè)備包括用于加載或卸載基板的加載器；用于將基板蝕刻成期望形狀的蝕刻裝置；DI沖洗裝置，用于沖洗在蝕刻工藝過程中從經(jīng)蝕刻的基板產(chǎn)生的細小顆粒；用于對經(jīng)沖洗的基板進行干擾的氣刀；以及一個或更多個轉(zhuǎn)向臺，設(shè)置在上述各個裝置之間的一個或更多個位置處，適于改變基板的傳送方向。
文檔編號H01L21/67GK1992152SQ200610100380
公開日2007年7月4日 申請日期2006年6月30日
發(fā)明者金椿鎰 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan