專利名稱：用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備及使用其的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法，更具體地，涉及一種用于對(duì)顯示裝置(例如，液晶顯示裝置)中使用的基板進(jìn)行蝕刻的設(shè)備，以及一種使用該設(shè)備的制造方法。
背景技術(shù)：
通常，薄膜晶體管陣列是通過幾道沉積和蝕刻工藝來完成的。
這里，蝕刻工藝分為干蝕刻方法和濕蝕刻方法。
干蝕刻方法是通過使用等離子氣體去除半導(dǎo)體層或金屬的方法。干蝕刻方法的例子包括等離子蝕刻、濺射蝕刻和活性離子蝕刻。
濕蝕刻方法是這樣一種方法，通過使用能夠與具有待蝕刻層的對(duì)象的目標(biāo)層產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)并使其熔化的化學(xué)溶液，將該對(duì)象蝕刻成期望形式。濕蝕刻方法的例子包括浸蝕和噴蝕。
圖1示出了傳統(tǒng)的濕蝕刻設(shè)備的整體布局。
如圖1所示，傳統(tǒng)的濕蝕刻設(shè)備主要包括加載器10、蝕刻裝置20、DI(去離子水)沖洗裝置30、用作干燥裝置的氣刀40、緩沖器50以及卸載器60。
上述傳統(tǒng)的濕蝕刻設(shè)備的問題在于，如圖1所示，上述裝置10、20、30、40、50和60排列成行，因此不可避免地加長(zhǎng)了整體布局的占地面積(footprint)。
具體地，這種占地面積的增加導(dǎo)致了安建該濕蝕刻設(shè)備所需的施工場(chǎng)所的增大。因此，迫切需要解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明旨在一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備以及使用該蝕刻設(shè)備的制造方法，其基本上克服了由于現(xiàn)有技術(shù)的局限性和缺點(diǎn)而導(dǎo)致的一個(gè)或更多個(gè)問題。
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種用于對(duì)用于制造平板顯示裝置的基板進(jìn)行蝕刻的設(shè)備，其可以實(shí)現(xiàn)其整體占地面積的減少，以及一種使用該蝕刻設(shè)備來制造平板顯示裝置的方法。
本發(fā)明的另一目的是提供一種用于制造平板顯示裝置的設(shè)備，其包括至少一個(gè)止動(dòng)件(stopper)，所述止動(dòng)件具有改進(jìn)的結(jié)構(gòu)以防止在傳送基板過程中對(duì)基板產(chǎn)生損害或基板斷裂。
本發(fā)明的其他優(yōu)點(diǎn)、目的和特征將在以下描述中進(jìn)行部分闡述，本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀以下描述后將明白其部分，或者可以通過實(shí)踐本發(fā)明而習(xí)得?？梢酝ㄟ^在所寫說明書及其權(quán)利要求以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)，來實(shí)現(xiàn)并獲得本發(fā)明的這些目的和其他優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明意圖的這些目的和其他優(yōu)點(diǎn)，如這里實(shí)施并廣泛描述的，一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，包括加載器，用于加載或卸載基板；蝕刻裝置，用于將基板蝕刻成期望形狀；DI沖洗裝置，用于沖洗在蝕刻工藝期間產(chǎn)生的細(xì)小顆粒；氣刀，用于對(duì)基板進(jìn)行干燥；以及一個(gè)或更多個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)，設(shè)置在上述各個(gè)裝置之間的一個(gè)或更多個(gè)位置處，并適于改變基板的傳送方向。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，其包括用于改變基板的行進(jìn)方向的一個(gè)或更多個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)，其中每個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)都包括一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)入輥單元，被安裝用于接收基板；一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)出輥單元，被安裝用于排出基板，所述運(yùn)出輥單元具有可上下移動(dòng)的結(jié)構(gòu)；以及至少一個(gè)止動(dòng)件，用于防止基板被過度地引入到相關(guān)轉(zhuǎn)向臺(tái)上，所述止動(dòng)件的上端和下端具有彼此不同的直徑。
根據(jù)本發(fā)明的又一方面，提供了一種用于制造平板顯示裝置的方法，包括通過控制加載器將基板加載到蝕刻裝置中；通過控制蝕刻裝置將所加載的基板蝕刻成期望形狀；通過控制運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)和運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)，對(duì)從所述蝕刻裝置排出的所述基板進(jìn)行轉(zhuǎn)向，并朝向DI沖洗裝置傳送所述基板；通過控制DI沖洗裝置來沖洗基板；通過控制氣刀對(duì)沖洗后的基板進(jìn)行干燥；以及通過控制加載器對(duì)從氣刀排出的基板進(jìn)行卸載。
應(yīng)理解，本發(fā)明前面的概括描述和下面的詳細(xì)描述都是示例性和說明性的，旨在對(duì)所要求保護(hù)的本發(fā)明提供進(jìn)一步的說明。


包括附圖以提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解并且將其并入構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，附圖示出了本發(fā)明的(多個(gè))實(shí)施例并與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。在附圖中圖1是示意性示出根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備的布局的框圖；圖2是示意性示出根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備的布局的框圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于說明運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)的結(jié)構(gòu)的重要部分的示意性放大立體圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于說明運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)的結(jié)構(gòu)的重要部分的示意性放大立體圖；圖5是說明當(dāng)根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的止動(dòng)件具有圓柱形狀時(shí)對(duì)基板的損害的示意性側(cè)剖視圖；圖6是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的第一止動(dòng)件的示意性側(cè)剖視圖；以及圖7是說明根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的第二止動(dòng)件的示意性側(cè)剖視圖。
具體實(shí)施例方式
下面將詳細(xì)描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，附圖中示出了其示例。只要有可能，就在所有附圖中使用相同標(biāo)號(hào)來表示相同或相似的部分。
下面將參照?qǐng)D2至圖7對(duì)根據(jù)本發(fā)明的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行更詳細(xì)的說明。
首先，圖2是示意性示出包括在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備中的各個(gè)裝置的布局的結(jié)構(gòu)圖。
通過圖2可以理解，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備主要包括加載器100、帶有處理槽(bath)的蝕刻裝置200、DI沖洗裝置300、用作干燥裝置的氣刀400，以及多個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700。
這里，加載器100是用于加載或卸載基板1的裝置。加載器100具有一個(gè)或更多個(gè)機(jī)械手110。
當(dāng)然，加載器100可以使用傳送帶或輥?zhàn)觼砑虞d或卸載基板1。
蝕刻裝置200是用于接收從加載器100傳送來的基板1并將基板1蝕刻為期望形狀的裝置。
在本發(fā)明的該實(shí)施例中，蝕刻裝置200是被構(gòu)造成通過使用蝕刻溶液來執(zhí)行蝕刻工藝的濕蝕刻裝置。從外部源饋送蝕刻溶液。
特別地，蝕刻裝置200被布置成與加載器100平行。
優(yōu)選地，如圖2所示，在加載器100與蝕刻裝置200之間插設(shè)有中性站(neutral station)510。中性站510用作緩和間隔(moderationspace)，用于防止蝕刻裝置200中存在的強(qiáng)酸性溶液腐蝕加載器100。
DI沖洗裝置300是這樣的裝置，其用于接收經(jīng)蝕刻的基板1，并沖洗在蝕刻工藝期間從基板1上分離出的細(xì)小顆粒和蝕刻劑溶液。
在本實(shí)施例中，DI沖洗裝置300通過使用去離子(DI)水來去除蝕刻工藝中所使用的蝕刻劑溶液。
具體地，DI沖洗裝置300被布置成沿著與蝕刻裝置200所執(zhí)行的蝕刻工藝相反的方向執(zhí)行沖洗工藝。
特別地，如圖2所示，DI沖洗裝置300被定位成與蝕刻裝置200相對(duì)。
氣刀400是用于接收經(jīng)DI沖洗裝置300沖洗過的基板1并對(duì)基板1進(jìn)行干燥的裝置。
在本實(shí)施例中，氣刀400適于通過朝向基板1噴氣而除去留在基板1上的水分。
氣刀400位于DI沖洗裝置300的基板出口側(cè)，并且通過加載器100將已經(jīng)過氣刀400的基板1卸載。
優(yōu)選地，如圖2所示，在氣刀400與加載器100之間插設(shè)有緩沖器520，用于臨時(shí)存儲(chǔ)經(jīng)干燥的基板。
轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700是被構(gòu)造用于轉(zhuǎn)向基板1以跟隨行進(jìn)方向的裝置。
轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700位于上述裝置200、300和400之間的一個(gè)或更多個(gè)位置處。在本發(fā)明的該實(shí)施例中，轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700分別位于蝕刻裝置200的基板出口側(cè)和DI沖洗裝置300的基板入口側(cè)。
具體地，根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施例，其中一個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)用作運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600，而另一個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)用作運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700。
運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600被構(gòu)造用于接收從蝕刻裝置200傳送來的基板1，并沿著與基板接收方向垂直的方向傳送基板1。
運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700被構(gòu)造用于接收從運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600傳送來的基板1，并沿著與基板接收方向垂直的方向，即沿著DI沖洗裝置300所處方向排出基板1。
上述各個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700可以采用多種結(jié)構(gòu)來轉(zhuǎn)向基板1。在這多種結(jié)構(gòu)中，根據(jù)本發(fā)明的該實(shí)施例，采用如下的一系列結(jié)構(gòu)在沿彼此垂直的兩個(gè)方向上提升和滾動(dòng)基板1的同時(shí)來傳送基板1。
下面將參照?qǐng)D3至圖7更詳細(xì)地說明用于傳送處于其轉(zhuǎn)向狀態(tài)的基板1的系列結(jié)構(gòu)。
首先，如圖3和圖4所示，運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600和運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700中的每一個(gè)都包括一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)入輥單元610或710，被安裝用于接收基板1；以及一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)出輥單元620或720，被安裝用于排出基板1。
運(yùn)入輥單元610和710以及運(yùn)出輥單元620和720中的每一個(gè)都包括用于進(jìn)行滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)的多個(gè)輥?zhàn)?11、621、711或721；通過輥?zhàn)?11、621、711或721接合以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)軸612、622、712或722；以及用于驅(qū)動(dòng)驅(qū)動(dòng)軸612、622、712或722的驅(qū)動(dòng)電機(jī)613、623、713或723。
這里，運(yùn)出輥單元620和720被安裝為沿著與運(yùn)入輥單元610和710垂直的方向進(jìn)行滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)。
運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600的運(yùn)出輥單元620和運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700的運(yùn)入輥單元710還被安裝成可向上和向下運(yùn)動(dòng)。為此，提升缸630和730分別與運(yùn)出輥單元620和運(yùn)入輥單元710的驅(qū)動(dòng)軸中的至少一個(gè)接合。
當(dāng)設(shè)置有一個(gè)或更多個(gè)驅(qū)動(dòng)軸612、622、712和722時(shí)，可以在各個(gè)驅(qū)動(dòng)軸612、622、712和722處設(shè)置一個(gè)或更多個(gè)驅(qū)動(dòng)電機(jī)613、623、713和723，如圖3和圖4所示。另選地，可以設(shè)置單個(gè)驅(qū)動(dòng)電機(jī)，以通過使用帶或鏈而使各個(gè)驅(qū)動(dòng)軸612、622、712和722一起運(yùn)轉(zhuǎn)。
具體地，運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600中包括的各運(yùn)入輥單元610(以下稱為“第一運(yùn)入輥單元”)的驅(qū)動(dòng)軸612(以下稱為“第一驅(qū)動(dòng)軸”)定位在各運(yùn)出輥單元620(以下稱為“第一運(yùn)出輥單元”)的驅(qū)動(dòng)軸622(以下稱為“第二驅(qū)動(dòng)軸”)的下方。而且，第一運(yùn)入輥單元610的各個(gè)輥?zhàn)?11(以下稱為“第一輥?zhàn)印?的直徑大于第一運(yùn)出輥單元620的各個(gè)輥?zhàn)?21(以下稱為“第二輥?zhàn)印?的直徑。
另外，運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700中包括的各運(yùn)入輥單元710(以下稱為“第二運(yùn)入輥單元”)的驅(qū)動(dòng)軸712(以下稱為“第三驅(qū)動(dòng)軸”)定位在各運(yùn)出輥單元720(以下稱為“第二運(yùn)出輥單元”)的驅(qū)動(dòng)軸722(以下稱為“第四驅(qū)動(dòng)軸”)的上方。第二運(yùn)入輥單元710的各個(gè)輥?zhàn)?11(以下稱為“第三輥?zhàn)印?的直徑小于第二運(yùn)出輥單元720的各個(gè)輥?zhàn)?21(以下稱為“第四輥?zhàn)印?的直徑。
轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700中的每一個(gè)都還包括至少一個(gè)止動(dòng)件640或740，用于防止過度地引入基板1。在本實(shí)施例中，止動(dòng)件640或740由橡膠或樹脂(例如，聚四氟乙烯)制成。
優(yōu)選地，如圖6和圖7所示，止動(dòng)件640和740的每一個(gè)都被構(gòu)造成其上端和下端具有彼此不同的直徑。
如果止動(dòng)件640和740具有圓柱形狀，則它們不可避免地與引入到轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700上的基板1連續(xù)接觸，即連續(xù)暴露于外部沖擊。因此，止動(dòng)件640和740由于所述連續(xù)接觸沖擊而在其外周的特定區(qū)域處出現(xiàn)逐漸變形。
例如，如圖5所示，止動(dòng)件640或740外周的特定區(qū)域可能由于與基板1的頻繁接觸而凹陷。
具體地，如果基板1插入到因止動(dòng)件640或740的變形而形成的止動(dòng)件640或740的凹陷區(qū)域(以下稱為“受損區(qū)域”)N中，則基板1被止動(dòng)件640或740的受損區(qū)域N卡住。因此，當(dāng)轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700的第一運(yùn)出輥單元620和第二運(yùn)入輥單元710向上或向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，基板1的一部分(表示為圖5的圓“A”)可能受損。
因此，最優(yōu)選地，根據(jù)本發(fā)明該實(shí)施例的止動(dòng)件640和740被構(gòu)造成其上端和下端具有彼此不同的直徑，如圖6和圖7所示。
如圖6所示，運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600中包括的各止動(dòng)件640(以下稱為“第一止動(dòng)件”)優(yōu)選地被構(gòu)造成上端的直徑小于下端的直徑。更優(yōu)選地，第一止動(dòng)件640具有梯形形狀，其中其直徑從下端向上端逐漸減小。
將第一止動(dòng)件640形成為具有梯形形狀的原因在于，為了將引入到運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600上的基板1傳送到運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700，第一運(yùn)出輥單元620必須向上運(yùn)動(dòng)。即，當(dāng)?shù)谝恢箘?dòng)件640具有梯形形狀時(shí)，可以完全防止基板1與第一止動(dòng)件640接觸，即使基板1向上運(yùn)動(dòng)也是如此。
另外，如圖7所示，運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700中包括的各止動(dòng)件740(以下稱為“第二止動(dòng)件”)優(yōu)選地被構(gòu)造成上端的直徑大于下端的直徑。更優(yōu)選地，第二止動(dòng)件740具有倒梯形形狀，其中其直徑從下端向上端逐漸增大。
將第二止動(dòng)件740形成為具有倒梯形形狀的原因在于，為了將引入到運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700上的基板1傳送到DI沖洗裝置300，第二運(yùn)入輥單元710必須向下運(yùn)動(dòng)。即，當(dāng)?shù)诙箘?dòng)件具有倒梯形形狀時(shí)，可以完全防止基板1與第二止動(dòng)件740接觸，即使基板1向下運(yùn)動(dòng)也是如此。
另選地，第一止動(dòng)件640和第二止動(dòng)件740可以具有多級(jí)形狀，以使其直徑從下端向上端減小，或者從下端向上端增大。
優(yōu)選地，第一止動(dòng)件640和第二止動(dòng)件740通過使用鉸鏈分別與轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700接合，從而它們可以朝向基板1的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
采用樞軸轉(zhuǎn)向結(jié)構(gòu)具有以下效果在將基板1引入到轉(zhuǎn)向臺(tái)600和700上和從其排出時(shí)，減小了基板1與止動(dòng)件640和740之間的摩擦。
以上描述說明了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，而以下描述將說明使用上述蝕刻設(shè)備的基板蝕刻工藝。
首先，在對(duì)加載器100進(jìn)行控制使得要被蝕刻的基板被加載到蝕刻單元200中之后，對(duì)蝕刻單元200進(jìn)行控制，以對(duì)所加載的基板1進(jìn)行蝕刻。
由此，在蝕刻單元200中將基板1蝕刻成具有期望形狀。之后，從蝕刻裝置200排出經(jīng)完全蝕刻的基板1，然后在各轉(zhuǎn)向臺(tái)的控制操作下，將其傳送到運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600上。
在這種情況下，首先將基板1放在運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600的第一運(yùn)入輥單元610上。由此，隨著第一輥?zhàn)?11根據(jù)第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)613的操作而進(jìn)行滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)，可以將基板1完全引入到運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600上。
在一定程度地將基板1引入到運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600上之后，基板1與運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600中所包括的第一止動(dòng)件640接觸。由此，可以通過止動(dòng)件640防止過度地引入基板1。
如果基板1的引入完成，則第一運(yùn)入輥單元610的操作停止，同時(shí)對(duì)提升缸630進(jìn)行操作以使第一運(yùn)出輥單元620向上運(yùn)動(dòng)。
由此，將放在第一運(yùn)入輥單元610的第一輥?zhàn)?11上的基板1放在了第一運(yùn)出輥單元620的第二輥?zhàn)?21的頂部。
當(dāng)?shù)谝贿\(yùn)出輥單元620向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，止動(dòng)件640的梯形形狀(其中，其直徑從下端向上端減小)使得與第一運(yùn)出輥單元620一起向上移動(dòng)的基板1沒有與第一止動(dòng)件640接觸的危險(xiǎn)。這樣就防止了對(duì)基板1的損傷。
如果第一運(yùn)出輥單元620的向上運(yùn)動(dòng)完成，則根據(jù)第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)623的運(yùn)轉(zhuǎn)使第二驅(qū)動(dòng)軸622旋轉(zhuǎn)，從而導(dǎo)致第二輥?zhàn)?21的滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)。在這種情況下，第二驅(qū)動(dòng)軸622的旋轉(zhuǎn)方向被確定為使得第二輥?zhàn)?21朝向第二運(yùn)入輥單元710滾動(dòng)。
結(jié)果，基板1沿著第一運(yùn)出輥單元620的第二輥?zhàn)?21的滾動(dòng)方向運(yùn)動(dòng)，即，沿著與其初始加載方向垂直的方向運(yùn)動(dòng)，從而被傳送到運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700中所包括的第二運(yùn)入輥單元710的第三輥?zhàn)?11的頂部。在這種情況下，第二運(yùn)入輥單元710根據(jù)提升缸730的操作，預(yù)先相對(duì)于第二運(yùn)出輥單元720向上運(yùn)動(dòng)。
當(dāng)根據(jù)第一運(yùn)出輥單元620的滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)將基板1傳送到運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700上時(shí)，基板1可能與第一止動(dòng)件640接觸。然而，第一止動(dòng)件640樞轉(zhuǎn)接合在運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)600上從而朝向基板1的傳送方向旋轉(zhuǎn)，因此基板1與第一止動(dòng)件640之間的摩擦非常低。
具體地，在一定程度地將基板1引入到運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700上之后，基板1與運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700的第二止動(dòng)件740接觸。由此，可以通過第二止動(dòng)件740防止基板1的過度引入。
一旦通過上述一系列過程將基板1完全傳送到運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)700上，第二運(yùn)入輥單元710就根據(jù)提升缸730的操作而向下運(yùn)動(dòng)。結(jié)果，將基板1放在了第二運(yùn)出輥單元720的第四輥?zhàn)?21的頂部。
當(dāng)基板1向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，第二止動(dòng)件740的倒梯形形狀使得基板1沒有與第二止動(dòng)件740接觸的危險(xiǎn)。這可以防止對(duì)基板1的損傷。
如果基板1的向下運(yùn)動(dòng)完成，則根據(jù)驅(qū)動(dòng)電機(jī)723的運(yùn)轉(zhuǎn)使第二運(yùn)出輥單元720的第四驅(qū)動(dòng)軸722旋轉(zhuǎn)，從而導(dǎo)致第四輥?zhàn)?21的滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)。
由此，放在第四輥?zhàn)?21的頂部上的基板1被沿著與基板引入方向垂直的方向(即，沿著與基板1的初始加載方向相反的方向)排出，從而被傳送到DI沖洗裝置300。
之后，對(duì)DI沖洗裝置300進(jìn)行控制，以接收并沖洗基板1。
具體地，當(dāng)基板1經(jīng)過DI沖洗裝置300時(shí)，通過DI沖洗裝置300沖洗掉在蝕刻工藝期間從基板1分離出的細(xì)小顆粒和蝕刻劑溶液。
在經(jīng)DI沖洗裝置300沖洗之后，從DI沖洗裝置300排出基板1，并將其傳送到氣刀400。由此，在經(jīng)過氣刀400時(shí)，能夠根據(jù)氣刀400的操作而對(duì)基板1進(jìn)行干燥。
最后，將完全干燥的基板1臨時(shí)存儲(chǔ)在緩沖器520中，然后通過加載器100進(jìn)行卸載。這樣，就完成了用于蝕刻基板1的一系列處理。
通過上面描述可以明白，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備具有如下效果。
首先，根據(jù)本發(fā)明，該蝕刻設(shè)備的各裝置被布置成可以沿相反的方向連續(xù)地進(jìn)行一系列處理。這樣的效果是使得該蝕刻設(shè)備的整體布局最小化。
其次，本發(fā)明的蝕刻設(shè)備可以使得當(dāng)在各個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)的操作下傳送基板時(shí)對(duì)基板的損傷最小，從而帶來產(chǎn)量的提高。
具體地，根據(jù)本發(fā)明，設(shè)置在蝕刻設(shè)備中以防止基板被過度引入到各轉(zhuǎn)向臺(tái)上的各止動(dòng)件具有梯形或倒梯形形狀。結(jié)果，該蝕刻設(shè)備可以使得在基板的轉(zhuǎn)向及向上和向下運(yùn)動(dòng)過程中導(dǎo)致的對(duì)基板的損害最小。
對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見的是，可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下對(duì)本發(fā)明作出各種修改和變化。因此，本發(fā)明旨在覆蓋落在所附權(quán)利要求及其等價(jià)物范圍內(nèi)的本發(fā)明的這些修改和變化。
本申請(qǐng)要求2005年12月29日提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)No.10-2005-133995的優(yōu)先權(quán)，通過引用將其并入如同在此處進(jìn)行了充分闡述。
權(quán)利要求
1.一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，包括加載器，用于加載或卸載基板；蝕刻裝置，用于將所述基板蝕刻成期望形狀；去離子水沖洗裝置，用于沖洗在蝕刻工藝過程中產(chǎn)生的細(xì)小顆粒；氣刀，用于對(duì)所述基板進(jìn)行干燥；以及一個(gè)或更多個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)，設(shè)置在上述各個(gè)裝置之間的一個(gè)或更多個(gè)位置處，適于改變所述基板的傳送方向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻設(shè)備，其中所述去離子水沖洗裝置被布置成沿著與由所述蝕刻裝置執(zhí)行的蝕刻工藝相反的方向執(zhí)行沖洗工藝；并且所述轉(zhuǎn)向臺(tái)布置在所述蝕刻裝置和所述去離子水沖洗裝置之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述轉(zhuǎn)向臺(tái)包括運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)，用于接收從所述蝕刻裝置傳送來的基板，并沿著與基板接收方向垂直的方向傳送該基板；以及運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)，用于接收從所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)傳送來的基板并將該基板排出到所述去離子水沖洗裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)和所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)中的每一個(gè)都包括至少一個(gè)止動(dòng)件，用于防止基板被過度引入到相關(guān)轉(zhuǎn)向臺(tái)上，所述止動(dòng)件的上端和下端具有彼此不同的直徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的蝕刻設(shè)備，其中所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件具有梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸減??；并且所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件具有倒梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蝕刻設(shè)備，其中，每個(gè)止動(dòng)件都被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
7.一種用于制造平板顯示裝置的蝕刻設(shè)備，包括一個(gè)或更多個(gè)用于改變基板的行進(jìn)方向的轉(zhuǎn)向臺(tái)，其中每個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)都包括一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)入輥單元，被安裝用于接收基板；一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)出輥單元，被安裝用于排出基板，所述運(yùn)出輥單元具有可上下移動(dòng)的結(jié)構(gòu)；以及至少一個(gè)止動(dòng)件，用于防止基板被過度地引入到相關(guān)轉(zhuǎn)向臺(tái)上，所述止動(dòng)件的上端和下端具有彼此不同的直徑。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述轉(zhuǎn)向臺(tái)包括運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)，用于接收從用于執(zhí)行先前工藝的裝置傳送來的基板；以及運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)，用于接收從所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)傳送來的基板，并將該基板排出到用于執(zhí)行后續(xù)工藝的裝置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件構(gòu)被造成上端的直徑小于下端的直徑。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件具有梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸減小。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件被構(gòu)造成上端的直徑大于下端的直徑。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件具有倒梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸增大。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的蝕刻設(shè)備，其中，所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)中包括的所述止動(dòng)件被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
15.根據(jù)權(quán)利要求7所述的蝕刻設(shè)備，其中，每個(gè)止動(dòng)件都具有梯形或倒梯形形狀，其中其直徑從其下端向上端逐漸變化。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的蝕刻設(shè)備，其中，每個(gè)止動(dòng)件都被安裝成可朝向所述基板的引入方向和/或排出方向樞軸旋轉(zhuǎn)。
17.一種用于制造平板顯示裝置的方法，包括通過控制加載器將基板加載到蝕刻裝置中；通過控制所述蝕刻裝置將所加載的基板蝕刻成期望形狀；通過控制運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)和運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)，對(duì)從所述蝕刻裝置排出的所述基板進(jìn)行轉(zhuǎn)向，并朝向去離子水沖洗裝置傳送所述基板；通過控制所述去離子水沖洗裝置，對(duì)經(jīng)所述轉(zhuǎn)向臺(tái)傳送的所述基板進(jìn)行沖洗；通過控制氣刀，對(duì)從所述去離子水沖洗裝置排出的經(jīng)沖洗基板進(jìn)行干燥；以及通過控制所述加載器，對(duì)從所述氣刀排出的所述基板進(jìn)行卸載。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述基板的轉(zhuǎn)向和傳送包括如果所述基板被完全引入到所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)上，則使所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)的一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)出輥單元以及所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)的一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)入輥單元運(yùn)動(dòng)；通過使所述運(yùn)入轉(zhuǎn)向臺(tái)的所述運(yùn)出輥單元朝向所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)的所述運(yùn)入輥單元旋轉(zhuǎn)而一次轉(zhuǎn)向基板，以沿著與所述基板的初始加載方向垂直的方向傳送所述基板；如果所述基板被完全引入到所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)的所述運(yùn)入輥單元上，則使所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)的所述運(yùn)入輥單元向下運(yùn)動(dòng)；以及通過使所述運(yùn)出轉(zhuǎn)向臺(tái)的一個(gè)或更多個(gè)運(yùn)出輥單元朝向所述加載器旋轉(zhuǎn)而二次轉(zhuǎn)向所述基板，以沿著與所述基板的初始加載方向相反的方向傳送所述基板。
全文摘要
這里公開了一種用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法。這種用于制造平板顯示裝置的設(shè)備和方法具有如下效果減少了用于蝕刻基板的設(shè)備的整體占地面積，并通過止動(dòng)件防止了在傳送基板期間對(duì)基板的損傷或基板的斷裂。所述蝕刻設(shè)備包括用于加載或卸載基板的加載器；用于將基板蝕刻成期望形狀的蝕刻裝置；DI沖洗裝置，用于沖洗在蝕刻工藝過程中從經(jīng)蝕刻的基板產(chǎn)生的細(xì)小顆粒；用于對(duì)經(jīng)沖洗的基板進(jìn)行干擾的氣刀；以及一個(gè)或更多個(gè)轉(zhuǎn)向臺(tái)，設(shè)置在上述各個(gè)裝置之間的一個(gè)或更多個(gè)位置處，適于改變基板的傳送方向。
文檔編號(hào)H01L21/67GK1992152SQ200610100380
公開日2007年7月4日 申請(qǐng)日期2006年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月29日
發(fā)明者金椿鎰 申請(qǐng)人:Lg.菲利浦Lcd株式會(huì)社