本發(fā)明涉及硅片生產(chǎn)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種硅片去水膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

在非擴散面加上水膜是防止硅片過刻的重要途徑，而在實際生產(chǎn)過程中，硅片上的水膜會溢出在刻蝕槽造成刻蝕槽內(nèi)酸性溶液濃度變小，為了達到要求的濃度，要不斷的增加供酸量，無形中增加了生產(chǎn)成本，通常會將硅片表面多余的水去除，以減少水膜溢出而降低蝕刻液的濃度。

現(xiàn)有去水膜裝置通常都是由勻水輥將多余的水去除，而水膜也是由水構(gòu)成，使得勻水輥在經(jīng)過水膜一側(cè)時，由于水膜外表層具有一定的張力，在勻水輥的擠壓下水會流向另一側(cè)，而水膜張力使得水并沒有減少，導致勻水輥去水無效，導致在后續(xù)硅片刻蝕時，硅片上的水仍會溢出至刻蝕槽內(nèi)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是：為了解決現(xiàn)有勻水輥去水無效的問題，現(xiàn)提供了一種硅片去水膜設(shè)備。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種硅片去水膜設(shè)備，包括設(shè)置在機架上的水槽，所述水槽內(nèi)設(shè)有用于輸送硅片的輸送輥，所述機架上設(shè)有板體，所述板體位于所述水槽上方，所述板體靠近輸送輥的一側(cè)開設(shè)有進水道，所述板體內(nèi)設(shè)有集水腔，所述集水腔與所述進水道連通，所述板體上設(shè)有排水口，所述排水口與所述集水腔連通，所述機架上設(shè)有用于控制板體靠近或 者遠離輸送輥的微調(diào)機構(gòu)。將附有水膜的硅片放置在輸送輥上輸送，當硅片上的水膜與板體接觸時，水膜本處于被壓狀態(tài)，當水膜通過進水道時，向進水道內(nèi)流到，隨著硅片的位移，進水道內(nèi)的水會溢入至集水腔內(nèi)，再由集水腔內(nèi)流到排水口排出，最后可通過觀察處于后硅片的水膜，并通過微調(diào)機構(gòu)調(diào)節(jié)板體與硅片之間的距離，使之到達更好的去水效果。

為了便于維護方便，進一步地，所述微調(diào)機構(gòu)包括設(shè)置螺桿，所述螺桿的一端螺紋連接在所述機架上，所述螺桿的另一端與所述板體轉(zhuǎn)動連接。通過調(diào)節(jié)螺桿可以控制板體靠近或者遠離硅片，結(jié)構(gòu)簡單方便，能夠快速調(diào)節(jié)板體與硅片之間的距離。

為了能夠快速方便的調(diào)節(jié)螺桿，進一步地，所述螺桿上設(shè)有手輪。通過手輪能夠方便快速的調(diào)節(jié)螺桿。

為了防止在調(diào)節(jié)手輪時打滑，進一步地，所述手輪上設(shè)有滾花。通過在手輪上設(shè)置滾花，增加與手輪的摩擦力。

為了防止板體歪斜，進一步地，所述板體上設(shè)有導向柱，所述機架上設(shè)有與所述導向柱相匹配的導向套，所述導向柱滑動設(shè)置在所述導向套內(nèi)。通過導向柱與導向套相互配合，對板體起到導向和限位作用，有效防止板體歪斜現(xiàn)象。

為了使板體更好的去水，進一步地，所述進水道沿硅片輸送方向逐漸向下傾斜設(shè)置。通過將進水道設(shè)置呈傾斜狀態(tài)，對水具有導向作用，更方便水通過進水道流至集水盒內(nèi)。

為了便于維護和加工，進一步地，所述板體由基板和連接板相互拼接而成，所述進水道與所述集水腔均設(shè)置在所述連接板上。通過基板和連接板組合成板體，使得板體加工更加方便和便于維護。

為了板體更好的去水，進一步地，所述板體位于進水道的一側(cè)設(shè)有擋板。 通過在板體上設(shè)置擋板，擋板對水具有一個阻擋的作用，使得水會更多的向進水道流入，同時擋板也起到導向作用。

為了使得集水腔內(nèi)的更好的排出，進一步地，所述集水腔的下底面為傾斜設(shè)置。通過將集水腔的下底面設(shè)置成傾斜狀態(tài)，保證水能夠順著傾斜的下底面到達排水口。

本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明硅片去水膜設(shè)備在使用時，傳統(tǒng)去水方式無法完全將水去除，而通過改進同樣是對水膜進行擠壓，通過板體上的進水道，使得硅片上的水通過進水道溢流至排水腔內(nèi)，避免了傳統(tǒng)通過勻水輥去水無效的問題。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明。

圖1是本發(fā)明硅片去水膜設(shè)備的主視圖；

圖2是圖1中A的局部放大圖；

圖3是本發(fā)明硅片去水膜設(shè)備中板體的主視圖；

圖4是本發(fā)明硅片去水膜設(shè)備中連接板的俯視圖；

圖5是圖4中B-B剖視圖。

圖中：1、機架，101、水槽，2、輸送輥，3、板體，4、進水道，5、集水腔，6、排水口，7、螺桿，8、手輪，9、滾花，10、導向柱，11、導向套，12、基板，13、連接板，14、擋板。

具體實施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對本發(fā)明做進一步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本發(fā)明的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本發(fā)明有關(guān)的構(gòu)成。

實施例

如圖1-5所示，一種硅片去水膜設(shè)備，包括設(shè)置在機架1上的水槽101，所述水槽101內(nèi)設(shè)有用于輸送硅片的輸送輥2，機架1上設(shè)置有用于驅(qū)動輸送輥2轉(zhuǎn)動的電機，電機被接入外接電源，并通過外部控制器控制啟閉，所述機架1上設(shè)有板體3，所述板體3位于所述水槽101上方，所述板體3靠近輸送輥2的一側(cè)開設(shè)有進水道4，所述板體3內(nèi)設(shè)有集水腔5，所述集水腔5與所述進水道4連通，所述板體3上設(shè)有排水口6，所述排水口6與所述集水腔5連通，所述集水腔5的下底面為傾斜設(shè)置，所述機架1上設(shè)有用于控制板體3靠近或者遠離輸送輥2的微調(diào)機構(gòu)。

所述微調(diào)機構(gòu)包括設(shè)置螺桿7，所述螺桿7的一端螺紋連接在所述機架1上，所述螺桿7的另一端與所述板體3轉(zhuǎn)動連接，所述螺桿7上設(shè)有手輪8，所述手輪8上設(shè)有滾花9。

所述板體3上設(shè)有導向柱10，所述機架1上設(shè)有與所述導向柱10相匹配的導向套11，所述導向柱10滑動設(shè)置在所述導向套11內(nèi)。

所述進水道4沿硅片輸送方向逐漸向下傾斜設(shè)置。進水道4自身就具有導向作用，更加方便水進入。

所述板體3由基板12和連接板13相互拼接而成，所述進水道4與所述集水腔5均設(shè)置在所述連接板13上。便于加工和維護。

所述板體3位于進水道4的一側(cè)設(shè)有擋板14。也就是說擋板14位于靠近硅片的輸入端。擋板14對水起到阻擋和導向作用。

上述硅片去水膜設(shè)備在運用時，啟動電機，帶動機架1上的輸送輥2輸送， 將附有水膜的硅片放置在輸送輥2上，硅片隨著輸送輥2的帶動慢慢靠近板體3，板體3將輸送輥2上水膜擠壓，隨著硅片的前進，水膜到達板體3上的進水道4時，進入進水道4，并在擋板14的作用下使水膜向水道方向流動，并溢流至集水腔5內(nèi)，并通過集水腔5流至排水口6排出，而在板體3擠壓溢流出的水流到水槽101內(nèi)；通過觀察去水膜后的硅片，調(diào)節(jié)手輪8，帶動螺桿7轉(zhuǎn)動，使得板體3上的導向柱10在機架1上的導向套11內(nèi)滑動，從而控制板體3靠近或者遠離硅片，使得硅片達到理想的去水膜狀態(tài)，導向柱10和導向套11起到導向和限位作用。

上述依據(jù)本發(fā)明的理想實施例為啟示，通過上述的說明內(nèi)容，相關(guān)工作人員完全可以在不偏離本項發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)，進行多樣的變更以及修改。本項發(fā)明的技術(shù)性范圍并不局限于說明書上的內(nèi)容，必須要根據(jù)權(quán)利要求范圍來確定其技術(shù)性范圍。