本發(fā)明屬于顯示技術領域，具體地講，涉及一種能夠顯著提高OLED器件的外部量子效率的基板、以及具有該基板的OLED器件。

背景技術：

現(xiàn)有的OLED背光源一般為多層結構，包括依次疊層設置的金屬陰極100、電子傳輸層210、發(fā)光層220、空穴傳輸層230、ITO鍍膜300、以及玻璃基板400；其中電子傳輸層210、發(fā)光層220和空穴傳輸層230都由電致發(fā)光的有機材料制成，一般將三者合并稱作有機材料層200；如圖1所示。

有機材料層200和ITO鍍膜300的折射率一般在1.7到1.9之間，且有機材料層200的折射率略大于ITO鍍膜300的折射率，而通常使用的玻璃基板400為厚度在1mm左右的平板玻璃，折射率為在1.5左右。當OLED背光源工作時，如圖2中現(xiàn)有技術的OLED背光源的光線透過示意圖，大概有50％的光無法穿透玻璃基板400，而是在有機材料層200之間縱向傳播，最終被吸收掉；其主要原因是電致發(fā)光的有機材料層200和ITO鍍膜300的折射率通常遠大于玻璃基板400的折射率，導致光線在玻璃基板400和ITO鍍膜300之間產(chǎn)生了全反射效應，這樣入射角大于全反射角的光線就會反射回有機材料層200，并在其間反復傳播，最終消散并轉化為熱量。同時，根據(jù)有機電致發(fā)光的原理，在發(fā)光層220產(chǎn)生的光線方向是隨機并雜亂無章的，這樣就會有相當一部分光線由于玻璃基板400的全反射而無法被利用，從而影響了OLED背光源的發(fā)光效率。

為了減少光在有機材料層與ITO鍍膜之間、以及ITO鍍膜與玻璃基板之間的全反射，增大出光率，可以采用降低ITO鍍膜折射率的方法，或者采用新的具有低折射率和高透過率的導電薄膜材料來替代ITO鍍膜；但是，這種改進方法卻在增大進入玻璃基板的光的同時降低了由玻璃基板到空氣中的出光率。因此，提供一種同時解決光易發(fā)生全反射以及光從玻璃基板出光率低下的問題的方案是非常有必要的。

技術實現(xiàn)要素：

為解決上述現(xiàn)有技術存在的問題，本發(fā)明提供了一種基板，該基板可以同時解決光易發(fā)生全反射、以及由基板本體出射到空氣中時出光率低的問題。

為了達到上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用了如下的技術方案：

一種基板，包括基板本體、設置在所述基板本體上的導電膜層、以及設置在所述基板本體和所述導電膜層之間的填充層。

進一步地，所述導電膜層為具有高折射率的ITO多孔膜層，所述填充層為具有低折射率的導電聚合物；所述導電聚合物填充在所述ITO多孔膜層的孔中并與所述基板本體接觸。

進一步地，所述導電聚合物延伸并覆蓋所述ITO多孔膜層遠離所述基板本體的表面。

進一步地，所述ITO多孔膜層的厚度為100nm～1000nm；所述ITO多孔膜層中孔的直徑為5nm～20nm。

進一步地，所述導電聚合物的折射率小于1.9，且所述導電聚合物的厚度為10nm～100nm。

進一步地，所述填充層和所述導電膜層依次疊層設置在所述基板本體上，且所述導電膜層與所述填充層之間形成微腔。

進一步地，所述填充層的折射率大于1.9，厚度為10nm～100nm；所述導電膜層的折射率小于1.7，厚度為100nm～1000nm。

進一步地，所述填充層的材料為金屬氧化物，所述導電膜層的材料為導電聚合物。

進一步地，所述填充層的材料為TiO₂，所述導電膜層的材料為聚癸二酸二辛酯與聚苯乙烯磺酸鈉的共聚物。

本發(fā)明的另一目的在于提供一種OLED器件，包括相對設置的有機材料層以及基板，所述有機材料層發(fā)光并傳輸至所述基板上以出射；所述基板為如上任一所述的基板，且所述有機材料層設置在遠離所述基板本體的一側。

本發(fā)明通過在基板本體上設置具有高折射率和低折射率的兩層結構，并使光先后通過具有低折射率的膜層和具有高折射率的膜層，利用低折射率膜層可大幅降低全反射；同時結合高折射率膜層的微孔結構起到提取光的作用，或利用高折射率膜層與低折射率膜層之間形成的微腔效應起到光收斂的作用，不僅解決了光易全反射的問題，而且提高了光從基板本體到空氣中的出射率。該基板應用于OLED器件中時，可有效提高OLED器件的外部量子效率。

附圖說明

通過結合附圖進行的以下描述，本發(fā)明的實施例的上述和其它方面、特點和優(yōu)點將變得更加清楚，附圖中：

圖1是現(xiàn)有技術中的OLED背光源的結構示意圖；

圖2是現(xiàn)有技術中的OLED背光源的光線透過示意圖；

圖3是根據(jù)本發(fā)明的實施例1的基板的結構示意圖；

圖4是根據(jù)本發(fā)明的實施例1的ITO多孔膜層的結構示意圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明的實施例1的ITO多孔膜層的SEM圖；

圖6是根據(jù)本發(fā)明的實施例2的基板的結構示意圖；

圖7是根據(jù)本發(fā)明的實施例3的OLED器件的光線透過示意圖。

具體實施方式

以下，將參照附圖來詳細描述本發(fā)明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實際應用，從而使本領域的其他技術人員能夠理解本發(fā)明的各種實施例和適合于特定預期應用的各種修改。在附圖中，為了清楚起見，可以夸大元件的形狀和尺寸，并且相同的標號將始終被用于表示相同或相似的元件。

實施例1

圖3是根據(jù)本發(fā)明的實施例1的基板的結構示意圖。

參照圖3，根據(jù)本實施例的基板包括基板本體11、設置在基板本體11上的導電膜層12、以及設置在基板本體11和導電膜層12之間的填充層13。

在本實施例中，基板本體11為玻璃基板，導電膜層12為具有高折射率的ITO多孔膜層，填充層13為具有低折射率的導電聚合物。

ITO多孔膜層的厚度為100nm～1000nm；ITO多孔膜層具有若干孔徑為5nm～20nm的孔洞121；如圖4和圖5所示。導電聚合物即嵌入這些孔洞121中與基板本體11相接觸、并優(yōu)選向外延伸覆蓋在ITO多孔膜層背離基板本體11的表面上；該具有低折射率的導電聚合物的設置不僅可以大幅降低光的全反射，還可以起到平緩ITO多孔膜層的作用。

一般地，ITO多孔膜層可由納米壓印工藝獲得。

具體地，導電聚合物的折射率小于1.9，且其厚度為10nm～100nm；在本實施例中，導電聚合物為PEDOS/PSS(即聚癸二酸二辛酯與聚苯乙烯磺酸鈉的共聚物)，其折射率為1.5。

根據(jù)本實施例的基板一般應用于OLED器件中，并通過填充層13接收由有機材料層出射的光，這部分光由具有低折射率的導電聚合物傳播至具有高折射率的ITO多孔膜層時，可以大幅降低現(xiàn)有技術中有機材料層與ITO膜層之間的全反射；同時，利用ITO多孔膜層的光提取作用，使得經(jīng)過該ITO多孔膜層的光能夠保持出射方向一致且入射至基板本體11的入射角較小，從而一方面解決了光易全反射的問題，另一方面提高了光從基板本體11出射到空氣中的出射率。

實施例2

在實施例2的描述中，與實施例1的相同之處在此不再贅述，只描述與實施例1的不同之處。具體參照圖6，實施例2與實施例1的不同之處在于，填充層13和導電膜層12依次疊層設置在基板本體11上；且填充層13的折射率大于1.9，導電膜層12的折射率小于1.7。

填充層13可以為具有高折射率的金屬氧化物薄膜，如折射率為2.28的TiO₂薄膜；而導電膜層12為具有低折射率的導電聚合物，如折射率為1.5的PEDOS/PSS。

在本實施例中，填充層13的厚度為10nm～100nm，導電膜層12的厚度為100nm～1000nm。

如此，在本實施例的基板中，即可在導電膜層12和填充層13之間形成微腔(圖中未示出)，利用微腔效應使得當由填充層13入射到基板本體11的光即使發(fā)生全反射也不會消散，而是由微腔兩側收斂、并以較小的入射角重新入射至基板本體11處并出射。該基板不僅可以降低現(xiàn)有技術中有機材料層與ITO鍍膜之間、以及ITO鍍膜與基板本體之間的全反射，同時增大了進入基板本體11中的入射光的收斂性，使得更多的光線穿過基板本體11。

實施例3

本實施例提供了一種OLED器件，包括相對設置的有機材料層以及基板，有機材料層發(fā)光并傳播至基板上以出射；其中，基板為實施例1或實施例2所述的基板，且有機材料層設置該基板遠離基板本體的一側。

具體參照圖7中本實施例的OLED器件的光透過示意圖。圖7中采用如實施例1所述的基板，從圖7中可以看出，有機材料層2發(fā)出的光，在透過具有低折射率的填充層13時，光透過量幾乎沒有損失，繼續(xù)通過具有高折射率的導電膜層12時，傳播角度基本保持一致不會出現(xiàn)雜亂無章的狀態(tài)、且會保持較小的入射角，從而繼續(xù)傳播至基板本體11時，大幅降低在基板本體11上發(fā)生的全反射，該基板1的使用使得OLED器件的外部量子效率得以提高。

當然，如若采用如實施例2所述的基板，則有機材料層發(fā)出的光，則先透過具有低折射率的導電膜層，再透過具有高折射率的填充層。

雖然已經(jīng)參照特定實施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領域的技術人員將理解：在不脫離由權利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進行形式和細節(jié)上的各種變化。