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QLED器件及其制備方法與流程

文檔序號(hào):12479116閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種QLED器件,包括依次層疊設(shè)置的陽(yáng)極、空穴傳輸層、量子點(diǎn)發(fā)光層、電子傳輸層和陰極,所述量子點(diǎn)發(fā)光層為核殼量子點(diǎn),且其殼層為ZnS;所述空穴傳輸層、所述電子傳輸層采用與所述核殼量子點(diǎn)的殼層材料相同的化合物制成,其中,所述電子傳輸層由N型ZnS制成,所述空穴傳輸層由P型ZnS制成,且所述P型ZnS為Sb摻雜ZnS。

技術(shù)研發(fā)人員:王宇;曹蔚然;楊一行;錢(qián)磊
受保護(hù)的技術(shù)使用者:TCL集團(tuán)股份有限公司
文檔號(hào)碼:201611226239
技術(shù)研發(fā)日:2016.12.27
技術(shù)公布日:2017.05.31

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