本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝控制
技術(shù)領(lǐng)域:
,特別是涉及一種工藝方法和裝置。
背景技術(shù):
:隨著半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,越來越多的半導(dǎo)體設(shè)備被生產(chǎn)并使用,例如:磁控PVD(PhysicalVaporDeposition,物理氣相沉積)設(shè)備、PLD(pulsedlaserdeposition,激光濺射沉積)設(shè)備,這些半導(dǎo)體設(shè)備在對基片進行鍍膜時都需要應(yīng)用相應(yīng)材質(zhì)的靶材。如圖1所示為典型的磁控PVD設(shè)備結(jié)構(gòu)圖,其中,1為設(shè)備腔體,2為濺射沉積時使用的靶材,濺射電源將功率輸出至靶材,5為磁控管,3為基片座用于盛放基片,4為基片,基片座可以由電機帶動也可以使用氣缸帶動上下運動,以調(diào)整基片與靶材之間的距離。眾所周知,靶材并非是一次性的而是重復(fù)使用的。但是靶材有一定的壽命,隨著靶材的消耗在相同功率下靶材的沉積速率也會變慢,相應(yīng)的單位時間內(nèi)沉積在基片表面上的薄膜的厚度將減薄。具體地靶材的沉積速率(Speed)與靶材已使用壽命(Target-LifeTime)之間的關(guān)系示意圖如圖2所示。由于靶材的沉積速率會隨著靶材的使用壽命而變慢,因此,在執(zhí)行工藝的過程中需要通過調(diào)整濺射時間或濺射功率來克服因靶材消耗引起的沉積速率不穩(wěn)定的問題?,F(xiàn)有的一種調(diào)整方案為:由工藝人員通過實驗摸索靶材當(dāng)前時間段內(nèi)的沉積速率,然后,相應(yīng)的對工藝配方中的各工藝步驟中的時間參數(shù)、或功率參數(shù)進行調(diào)整,完成工藝配方的配置?,F(xiàn)有的工藝配方中,配置有各工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)以及功率參數(shù),在工藝配方的執(zhí)行過程中,僅是獲取當(dāng)前工藝步驟的參數(shù)信息,然后,依據(jù)獲取的參數(shù)信息執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。由于靶材隨著工藝的進行一直在消耗,為了得到穩(wěn)定且可重復(fù)的工藝 結(jié)果,所以時間參數(shù)或者功率參數(shù)的調(diào)整是需要隨著靶材使用時間的增長實時進行調(diào)整,這就需要工藝人員在每執(zhí)行完一次工藝步驟后調(diào)整下一工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)或功率參數(shù)。這對于現(xiàn)有的這種完全依靠工藝人員手動修改工藝配方中的各工藝步驟的時間參數(shù)或功率參數(shù)的方案而言存在著很大的操作困難。并且,由于現(xiàn)有技術(shù)中需要人工進行實驗以及參數(shù)的調(diào)整,因此,工藝的穩(wěn)定性以及可重復(fù)性差。技術(shù)實現(xiàn)要素:鑒于上述問題,提出了本發(fā)明以便提供一種克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的工藝方法和裝置。為了解決上述問題,本發(fā)明公開了一種工藝方法,其中,所述方法包括下列步驟:步驟1,根據(jù)工藝配方中各工藝步驟的參數(shù)信息,預(yù)先設(shè)置各工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型;步驟2,對于需要進行補償?shù)牟襟E,獲取所述步驟對應(yīng)的補償類型,依據(jù)所述補償類型確定所述補償類型對應(yīng)的補償公式;步驟3,根據(jù)所述補償公式,結(jié)合當(dāng)前靶材的消耗值,計算所述步驟中對應(yīng)的參數(shù)補償值,通過所述參數(shù)補償值對所述步驟中的參數(shù)值進行補償,更新所述工藝步驟的參數(shù)信息;步驟4,根據(jù)更新后的參數(shù)信息,執(zhí)行所述工藝步驟。優(yōu)選地,所述步驟2,包括下列步驟:步驟21,判斷所述工藝步驟是否需要進行補償,若是,執(zhí)行步驟22;否則,按照工藝配方中的參數(shù)信息執(zhí)行所述工藝步驟;步驟22,判斷所述工藝步驟的補償類型,若是時間補償類型,則調(diào)用時間補償公式;若是功率補償類型,則調(diào)用功率補償公式。優(yōu)選地,所述步驟3,包括:確定所述工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,根據(jù)確定的所述時間參數(shù)值采用以下公式計算補償后的時間參數(shù)值:T=T(1+△T);其中,所述T為確定的所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,△T為單位時間內(nèi)的時間補償值;△T=ax3+bx2+cx+d,其中,x為靶材消耗的消耗值,a、b、c和d均為設(shè)定系數(shù)。優(yōu)選地,所述步驟3,包括:確定所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,根據(jù)確定的所述功率參數(shù)值采用以下公式計算補償后的功率參數(shù)值: P=P(1+△P);其中,所述P為確定的所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,△P為單位功率的功率補償值;△P=Ax3+Bx2+Cx+D,其中,x為靶材消耗的消耗值,A、B、C和D均為設(shè)定系數(shù)。優(yōu)選地,所述方法,還包括:實時監(jiān)控靶材的使用狀態(tài),獲取所述靶材的消耗值。優(yōu)選地,所述獲取所述靶材的消耗值的步驟,包括:獲取濺射電源對當(dāng)前工藝所用靶材的歷史累計做功,將所述歷史累計做功作為所述靶材消耗的消耗值。為了解決上述問題,本發(fā)明還公開了一種工藝裝置,包括:設(shè)置模塊,用于根據(jù)工藝配方中各工藝步驟的參數(shù)信息,預(yù)先設(shè)置各工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型;獲取模塊,用于對于需要進行補償?shù)牟襟E,獲取所述步驟對應(yīng)的補償類型,依據(jù)所述補償類型確定所述補償類型對應(yīng)的補償公式;參數(shù)信息更新模塊,用于根據(jù)所述補償公式,結(jié)合當(dāng)前靶材的消耗值,計算所述步驟中對應(yīng)的參數(shù)補償值,通過所述參數(shù)補償值對所述步驟中的參數(shù)值進行補償,更新所述工藝步驟的參數(shù)信息;工藝步驟執(zhí)行模塊,用于根據(jù)更新后的參數(shù)信息,執(zhí)行所述工藝步驟。優(yōu)選地,所述獲取模塊包括:第一判斷子模塊,用于判斷所述工藝步驟是否需要進行補償,若是,執(zhí)行第二判斷子模塊;否則,按照工藝配方中的參數(shù)信息執(zhí)行所述工藝步驟;第二判斷子模塊,用于判斷所述工藝步驟的補償類型,若是時間補償類型,則調(diào)用時間補償公式;若是功率補償類型,則調(diào)用功率補償公式。優(yōu)選地,所述參數(shù)信息更新模塊具體用于:確定所述工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,根據(jù)確定的所述時間參數(shù)值采用以下公式計算補償后的時間參數(shù)值:T=T(1+△T);其中,所述T為確定的所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,△T為單位時間內(nèi)的時間補償值;△T=ax3+bx2+cx+d,其中,x為靶材消耗的消耗值,a、b、c和d均為設(shè)定系數(shù)。優(yōu)選地,所述參數(shù)信息更新模塊還用于:確定所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,根據(jù)確定的所述功率參數(shù)值采用以下公式計算補償后的功 率參數(shù)值:P=P(1+△P);其中,所述P為確定的所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,△P為單位功率的功率補償值;△P=Ax3+Bx2+Cx+D,其中,x為靶材消耗的消耗值,A、B、C和D均為設(shè)定系數(shù)。優(yōu)選地,所述工藝裝置還包括:消耗值獲取模塊,用于實時監(jiān)控靶材的使用狀態(tài),獲取所述靶材的消耗值。優(yōu)選地,所述消耗值獲取模塊獲取所述靶材的消耗值時:獲取濺射電源對當(dāng)前工藝所用靶材的歷史累計做功,將所述歷史累計做功作為所述靶材消耗的消耗值。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點:本發(fā)明提供的工藝方案,由半導(dǎo)體設(shè)備獲取已配置完成的工藝配方中、當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息,根據(jù)獲取的參數(shù)信息來判斷是否需要對當(dāng)前工藝步驟進行工藝補償,如果確定需要進行工藝補償,則確定補償?shù)膮?shù)的類型,調(diào)用相應(yīng)的補償公式,并將當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值代入相應(yīng)的補償公式來計算相應(yīng)參數(shù)對應(yīng)的參數(shù)補償值,然后采用計算得到的參數(shù)補償值對需要補償?shù)膮?shù)進行補償,得到補償后的參數(shù)值,并通過補償后的參數(shù)值執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。通過本發(fā)明提供的工藝補償方案:第一、工藝人員無需實時修改工藝配方中各工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息、而只是配置一次工藝配方即可,可見,相較于現(xiàn)有的方案,能夠減少人工操作、節(jié)省人力資源。第二、工藝補償是由半導(dǎo)體設(shè)備根據(jù)配方中的配置需求實時進行的,極大的降低了操作難度。第三、本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明了,由機械設(shè)備執(zhí)行的操作相較于依靠人工執(zhí)行的操作的無論是穩(wěn)定性、還是可重復(fù)性都要高,而本發(fā)明提供的工藝補償完全是由半導(dǎo)體設(shè)備執(zhí)行的,因此,相較于現(xiàn)有的工藝補償方案本發(fā)明提供的工藝補償方案工藝的穩(wěn)定性以及可重復(fù)性強。附圖說明圖1是現(xiàn)有的一種典型的磁控PVD設(shè)備的結(jié)構(gòu)圖;圖2是靶材的沉積速率與靶材已使用壽命之間的關(guān)系示意圖;圖3是根據(jù)本發(fā)明實施例一的一種工藝方法的步驟流程圖;圖4是根據(jù)本發(fā)明實施例二的一種工藝方法的步驟流程圖;圖5是根據(jù)本發(fā)明實施例三的一種工藝方法的步驟流程圖;圖6是根據(jù)本發(fā)明實施例四的一種工藝裝置的結(jié)構(gòu)框圖。具體實施方式為使本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能夠更加明顯易懂,下面結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細(xì)的說明。實施例一參照圖3,示出了本發(fā)明實施例一的一種工藝方法的步驟流程圖。本實施例的工藝方法包括以下步驟:步驟S1:根據(jù)工藝配方中各工藝步驟的參數(shù)信息,預(yù)先設(shè)置各工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型。在本實施例中,首先對工藝配方進行預(yù)先設(shè)置,具體地,工藝配方中配置有對基片進行工藝的多個工藝步驟,以及工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息。工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息可以確定本工藝步驟在執(zhí)行過程中是否需要靶材。若工藝步驟在執(zhí)行過程中需要靶材,則需要對該工藝步驟預(yù)先設(shè)置補償信息以及補償類型,并且,無論是補償信息還是補償類型都將作為工藝步驟的參數(shù)信息。需要說明的是,當(dāng)工藝步驟需要進行工藝補償時,所預(yù)先設(shè)置的補償類型僅可以為時間補償或者功率補償二者之一。也就是說,在對某一工藝步驟進行工藝補償時,不可以對時間以及功率均進行補償。例如:在需要預(yù)設(shè)補償信息以及補償類型的工藝步驟下設(shè)置一補償信息項,當(dāng)該項對應(yīng)的信息為是時,則指示需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償,當(dāng)該補償信息項對應(yīng)的信息為否時,則指示不需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償。當(dāng)然,也可以設(shè)置成其他類型的信息,例如:用1指示需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償,用0指示不需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償。而對于需要預(yù)先設(shè)置工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型的步驟,在預(yù)設(shè)補償類型時,則需要根據(jù)其對應(yīng)的參數(shù)信息確定本工藝步驟的具體補償 類型,具體地,需要確定本工藝步驟適于對時間進行補償,還是對功率進行補償。對于對做功時間不能過長的工藝步驟而言,在對其補償類型進行確定時,則需要進行功率補償;對于對無法承受大功率的工藝步驟而言,在對其補償類型進行確定時,則需要進行時間補償。本實施例中,預(yù)先對半導(dǎo)體設(shè)備中的工藝配方進行設(shè)置,這樣,半導(dǎo)體設(shè)備在執(zhí)行整個任務(wù)的過程中,則可調(diào)用修改后的工藝配方執(zhí)行工藝。步驟S2:對于需要進行補償?shù)墓に嚥襟E,獲取工藝步驟對應(yīng)的補償類型,依據(jù)補償類型確定補償類型對應(yīng)的補償公式。對工藝步驟進行補償即是對工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息中的某參數(shù)值進行補償。判斷是否需要對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息中的參數(shù)進行補償時,當(dāng)獲取的當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)信息中包含用于指示需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償補償信息時,則確定需要對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息中的參數(shù)進行補償;反之,則確定不需要對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息中的參數(shù)進行補償。當(dāng)判斷結(jié)果為需要進行參數(shù)補償時,依據(jù)參數(shù)信息中的補償類型確定需要補償?shù)膮?shù)類型。通過參數(shù)信息中包含的需要補償類型來確定需要對哪種類型的參數(shù)進行補償。例如:在工藝配方中為每一工藝步驟設(shè)置一補償類型項,該項對應(yīng)有需要補償?shù)膮?shù)類型信息。通過參數(shù)項對應(yīng)的信息則確定需要進行補償?shù)膮?shù)類型。假設(shè),該補償類型項對應(yīng)的信息為時間,則可確定需要對時間參數(shù)進行補償,該補償類型項對應(yīng)的信息為功率,則可確定需要對功率進行補償。在確定了工藝步驟的補償類型后,需要確定補償類型對應(yīng)的補償公式。在半導(dǎo)體設(shè)備中預(yù)設(shè)有多個補償公式,同時還設(shè)置有補償類型與補償公式的對應(yīng)關(guān)系,在確定補償類型后,通過該對應(yīng)關(guān)系即可確定對所需的補償公式,通過補償公式計算參數(shù)補償值。需要說明的是,補償公式可以由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)實際需求進行設(shè) 置,本實施例對此不作具體限制。步驟S3:根據(jù)確定的補償公式,結(jié)合當(dāng)前靶材的消耗值,計算工藝步驟中對應(yīng)的參數(shù)補償值,通過參數(shù)補償值對工藝步驟中的參數(shù)值進行補償,更新工藝步驟的參數(shù)信息。例如:確定需要對時間參數(shù)值進行補償,并且當(dāng)前執(zhí)行步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值為10s,所得到的參數(shù)補償值為1s,那么,得到的補償后的時間參數(shù)值為11s。在本步驟中,在確定完參數(shù)補償值后,可以根據(jù)預(yù)設(shè)的計算公式計算得到補償后的參數(shù)值,本實施例中對于具體的計算公式不作具體限制。在本步驟中,確定了參數(shù)補償值之后,則會將本工藝步驟中相應(yīng)地的參數(shù)值進行更新,則生成更新后的參數(shù)信息。步驟S4:根據(jù)更新后的參數(shù)信息,執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。例如:在工藝配方中配置的當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息為:時間:10s;功率:100w;第一參數(shù)項(指示是否需要對工藝參數(shù)進行補償?shù)难a償信息項):是;第二參數(shù)項(指示補償類型的參數(shù)項):時間。那么,在獲取到當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息后,則確定需要對時間參數(shù)值進行補償,計算補償值最后得到補償后的時間參數(shù)值為11s。此時,則需要按照濺射時間11s、濺射功率100w執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。即,將濺射電源的功率設(shè)置為100w,并且持續(xù)濺射11s鐘,待操作完成后當(dāng)前工藝步驟執(zhí)行完畢。需要說明的是,通過本實施例中描述的上述步驟僅是執(zhí)行完當(dāng)前工藝步驟,若工藝配方中的其他工藝步驟未執(zhí)行完畢,則需返回執(zhí)行步驟S2,直至工藝配方中配置的全部工藝步驟均執(zhí)行完畢。通過本實施例提供的工藝方法,第一、工藝人員無需實時修改工藝配方中各工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息、而只是配置一次工藝配方即可,可見,相較于現(xiàn)有的方案能夠減少人工操作、節(jié)省人力資源。第二、工藝補償是由半導(dǎo)體設(shè)備根據(jù)配方中的配置需求實時進行的,極大的降低了操作難度。第三、本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明了,由機械設(shè)備執(zhí)行的操作相較于依靠人工執(zhí)行的操作的無論是穩(wěn)定性、還是可重復(fù)性都要高,而本發(fā)明提供的 工藝補償完全是由半導(dǎo)體設(shè)備執(zhí)行的,因此,相較于現(xiàn)有的工藝補償方案工藝的穩(wěn)定性以及可重復(fù)性均強。實施例二參照圖2,示出了本發(fā)明實施例二的一種工藝方法的步驟流程圖。本實施例的工藝方法具體包括以下步驟:步驟S202:半導(dǎo)體設(shè)備獲取已設(shè)置完成的工藝配方中、當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息。本實施例中,本領(lǐng)域技術(shù)人員需要預(yù)先根據(jù)工藝配方中各工藝步驟的參數(shù)信息,預(yù)先設(shè)置各工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型。具體地,工藝配方中配置有對基片進行工藝的多個工藝步驟,以及工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息。其中,本領(lǐng)域技術(shù)人員通過工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息可以確定本工藝步驟在執(zhí)行過程中是否需要靶材。若工藝步驟在執(zhí)行過程中需要靶材,則需要對該工藝步驟預(yù)設(shè)補償信息以及補償類型,并且,無論是補償信息還是補償類型都將作為工藝步驟的參數(shù)信息。需要說明的是,當(dāng)工藝步驟需要進行工藝補償時,所預(yù)先設(shè)置的補償類型僅可以為時間補償或者功率補償二者之一。也就是說,在對某一工藝步驟進行工藝補償時,不可以對時間以及功率均進行補償。例如:在需要預(yù)設(shè)補償信息以及補償類型的工藝步驟下設(shè)置一補償信息項,當(dāng)該項對應(yīng)的信息為是時,則指示需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償,當(dāng)該參數(shù)項對應(yīng)的信息為否時,則指示不需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償。當(dāng)然,也可以設(shè)置成其他類型的信息,例如:用1指示需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償,用0指示不需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償。而對于需要預(yù)先設(shè)置工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型的步驟,在預(yù)設(shè)補償類型時,則需要根據(jù)其對應(yīng)的參數(shù)信息確定本工藝步驟的具體補償類型,具體地,需要確定本工藝步驟適于對時間進行補償,還是對功率進行補償。對于對做功時間不能過長的工藝步驟而言,在對其補償類型進行確定 時,則需要進行功率補償;對于對無法承受大功率的工藝步驟而言,在對其補償類型進行確定時,則需要進行時間補償。本實施例中,預(yù)先對半導(dǎo)體設(shè)備中的原工藝配方進行預(yù)先設(shè)置,這樣,半導(dǎo)體設(shè)備在執(zhí)行整個任務(wù)的過程中,則可調(diào)用修改后的工藝配方執(zhí)行工藝。其中,本步驟中半導(dǎo)體設(shè)備所獲取的是在原工藝配方的基礎(chǔ)上設(shè)置后的工藝配方中的當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)信息,所獲取的參數(shù)信息中包含用于指示是否需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償?shù)难a償信息,以及用于指示需要補償?shù)膮?shù)類型的補償類型信息。在工藝配方中各工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息項除現(xiàn)有的工藝配方中設(shè)置的時間項、功率項外,還設(shè)置有第一添加項、第二添加項。其中,第一添加項用于指示是否需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償?shù)难a償信息項,第二添加項用于指示需要補償?shù)膮?shù)類型的補償類型項。通過第一添加項、第二添加項對應(yīng)的參數(shù)信息即可確定是否需要對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)進行補償,以及具體需要補償?shù)难a償類型。當(dāng)然,也可以僅設(shè)置一個添加項,在該添加項下直接設(shè)置需要補償?shù)膮?shù)的類型,如該添加項下未設(shè)置補償?shù)膮?shù)類型,則說明無需對當(dāng)前工藝步驟中的參數(shù)進行工藝補償。還可以在現(xiàn)有的工藝配方中設(shè)置的時間項、功率項外,設(shè)置第二時間項、以及第二功率項,通過第二時間項、以及第二功率項對應(yīng)的參數(shù)信息來確定是否需要進行參數(shù)補償,以及具體需要對哪個類型的參數(shù)進行補償。例如:第二時間項對應(yīng)的參數(shù)信息指示需要對時間參數(shù)進行補償,第二功率項對應(yīng)的參數(shù)信息指示不需要對時間參數(shù)進行補償,因此,可確定需要對當(dāng)前工藝步驟中的參數(shù)進行補償,并且,還可以進一步確定需要對時間參數(shù)值進行補償。步驟S204:半導(dǎo)體設(shè)備判斷是否需要對當(dāng)前工藝步驟進行補償。其中,對當(dāng)前工藝步驟進行補償所指的是對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息中的參數(shù)進行補償。如上所示,在獲取到的當(dāng)前工藝對應(yīng)的參數(shù)信息中如果包含用于指示 對參數(shù)進行補償?shù)难a償信息,則確定需要對參數(shù)進行補償。當(dāng)判斷結(jié)果為否時,則說明當(dāng)前工藝步驟為不需要靶材的工藝步驟,例如:抽真空步驟、退火步驟等。則直接依據(jù)步驟S202中獲取的當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟即可,即直接執(zhí)行步驟S216。步驟S206:當(dāng)判斷結(jié)果為需要對當(dāng)前工藝步驟進行補償時,半導(dǎo)體設(shè)備依據(jù)參數(shù)信息判斷補償類型;當(dāng)需要補償?shù)膮?shù)類型指示對時間參數(shù)值進行補償時,執(zhí)行步驟S208,當(dāng)需要補償?shù)膮?shù)類型指示對功率參數(shù)值進行補償時,直接執(zhí)行步驟S212。補償類型的具體設(shè)置可以由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)實際需求進行設(shè)置,例如:將用于指示對時間參數(shù)值進行補償?shù)难a償類型的標(biāo)記設(shè)置為Time,將用于指示對功率參數(shù)值進行補償?shù)难a償類型的標(biāo)記設(shè)置為Power,通過補償類型對應(yīng)的具體參數(shù)信息,即可確定需要對哪種類型的參數(shù)進行補償。當(dāng)然,還可以依據(jù)其他的設(shè)置方式對補償類型標(biāo)記進行設(shè)置,例如:將二者分別設(shè)置為T、P,或?qū)⒍叻謩e設(shè)置為1、0。本實施例中對于補償類型的具體設(shè)置標(biāo)記不作具體限定。在判斷出需要對當(dāng)前步驟對應(yīng)的參數(shù)進行參數(shù)補償時,存在兩種情況,一種是對時間參數(shù)值進行參數(shù)補償,另一種則是對功率參數(shù)值進行功率補償,而針對這兩種情況,需要分別以不同的步驟實現(xiàn),具體實現(xiàn)過程如下所示。步驟S208:當(dāng)需要補償類型指示對時間參數(shù)值進行補償時,半導(dǎo)體設(shè)備獲取當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值,以及時間補償公式,以消耗值作為時間補償公式的參數(shù),確定單位時間內(nèi)的時間補償值。即,補償類型對應(yīng)的參數(shù)信息為用于指示時間參數(shù)值進行補償?shù)臉?biāo)記,此時,則需要對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值進行補償,因而,需要確定單位時間內(nèi)的時間補償值即△T。一種優(yōu)選的確定單位時間內(nèi)的時間補償值的方式如下:S1:獲取當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值;S2:獲取預(yù)設(shè)的時間補償公式;一種優(yōu)選的時間補償公式為:△T=ax3+bx2+cx+d,其中,△T為單位時間內(nèi)的時間補償值,x為靶材消耗的消耗值,a、b、c和d均為設(shè)定系數(shù)。需要說明的是,a、b、c和d這些設(shè)定系數(shù)需要本領(lǐng)域技術(shù)人員通過實驗確定,設(shè)定系數(shù)的值會因為靶材和工藝腔室的不同而不同。在具體實現(xiàn)過程中,本領(lǐng)域技術(shù)人員需要根據(jù)靶材和工藝腔室通過實驗確定a、b、c和d這些設(shè)定系數(shù),本實施例中對于該值不作具體限定。S3:以獲取的消耗值作為時間補償公式的參數(shù),計算單位時間內(nèi)的時間補償值,即△T。一種優(yōu)選的獲取當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值的方式為:濺射電源對當(dāng)前工藝所用靶材的歷史累計做功,將歷史累計做功作為靶材消耗的消耗值。需要說明的是,上述僅是一種優(yōu)選的獲取靶材消耗的消耗值的方式,在具體實現(xiàn)過程中,也可以設(shè)置成將靶材的歷史累計使用時間作為靶材消耗的消耗值;還可以設(shè)置成將靶材的歷史平均濺射功率與歷史累計時間的乘積作為靶材消耗的消耗值。當(dāng)然,還有其他的使用的設(shè)置方式,本實施例對此不再一一列舉。步驟S210:半導(dǎo)體設(shè)備確定當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,根據(jù)確定的時間參數(shù)值計算補償后的時間參數(shù)值,然后,執(zhí)行步驟S216。一種優(yōu)選的計算補償后的時間參數(shù)值的方式為:采用公式T=T(1+△T)計算補償后的時間參數(shù)值。其中,T為確定的當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,△T為單位時間內(nèi)的時間補償值。例如:在步驟S208中計算得到的△T為1s,當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值為10s,則通過上述公式計算得到的補償后的時間參數(shù)值為11s。當(dāng)然,補償后的時間參數(shù)值的計算公式并不局限于此,本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以根據(jù)實際需求設(shè)置時間補償公式、以及補償后的時間參數(shù)值的計算公式。步驟S212:當(dāng)需要補償類型指示對功率參數(shù)值進行補償時,半導(dǎo)體設(shè)備獲取當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值以及功率補償公式,以消耗值作為功率補償公式的參數(shù),確定單位功率內(nèi)的功率補償值。即,補償類型對應(yīng)的參數(shù)信息為用于指示功率參數(shù)值進行補償?shù)臉?biāo)記,此時,則需要對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值進行補償,因而,需要確定單位功率內(nèi)的功率補償值即△P。一種優(yōu)選的確定單位功率的功率補償值的方式如下:S1:獲取當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值;S2:獲取預(yù)設(shè)的功率補償公式;一種優(yōu)選的功率補償公式為:△P=Ax3+Bx2+Cx+D,其中,△P為單位功率的功率補償值,x為靶材消耗的消耗值,A、B、C和D均為設(shè)定系數(shù)。與a、b、c和d這些設(shè)定系數(shù)類似,A、B、C和D這些設(shè)定系數(shù)也是需要本領(lǐng)域技術(shù)人員通過實驗確定,并且設(shè)定系數(shù)的值也會因為靶材和工藝腔室的不同而不同。S3:以消耗值作為功率補償公式的參數(shù),確定單位功率內(nèi)的功率補償值。步驟S214:半導(dǎo)體設(shè)備確定當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,根據(jù)確定的功率參數(shù)值計算補償后的功率參數(shù)值,然后,執(zhí)行步驟S216。一種優(yōu)選的計算補償后的功率參數(shù)值的方式為:采用公式P=P(1+△P)計算補償后的功率參數(shù)值。其中,P為確定的當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,△P為單位功率的功率補償值。例如:在步驟S212中計算得到的△P為0.1w,當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值為100w,則通過上述公式計算得到的補償后的功率參數(shù)值為110w。在本步驟中,確定了參數(shù)補償值之后,則會將本工藝步驟中相應(yīng)地的參數(shù)值進行更新,則生成更新后的參數(shù)信息。步驟S216:半導(dǎo)體設(shè)備采用更新后的參數(shù)值執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。例如:半導(dǎo)體設(shè)備獲取到的當(dāng)前工藝步驟的參數(shù)信息為:時間:10s,功率:100w,若對時間參數(shù)值進行了補償,補償后的時間參數(shù)值為11s,那么,在執(zhí)行當(dāng)前步驟時,則按照參數(shù)信息:時間為11s,功率為100w來執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。同樣地,若半導(dǎo)體設(shè)備獲取到的當(dāng)前工藝步驟的參數(shù)信息為:時間:10s,功率:100w,而該工藝步驟中設(shè)置的需要對功率參數(shù)值進行補償,并且通過步驟S212至S214計算后的補償后的功率參數(shù)值為110w,那么,在執(zhí)行當(dāng)前步驟時,則按照參數(shù)信息:時間為10s,功率為110w來執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。需要說明的是,半導(dǎo)體設(shè)備實時監(jiān)控靶材的使用狀態(tài),獲取靶材的消耗值,在采用補償后的參數(shù)值執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟之后,還會將當(dāng)前工藝步驟執(zhí)行過程中,濺射電源對靶材所做的功累計至歷史累計做功上以更新靶材消耗的消耗值。通過本實施例提供的工藝方法,由半導(dǎo)體設(shè)備獲取已配置完成的工藝配方中、當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息,由半導(dǎo)體設(shè)備根據(jù)獲取的參數(shù)信息來判斷是否需要對當(dāng)前工藝步驟進行工藝補償,如果確定需要進行工藝補償,則確定補償?shù)膮?shù)的類型,調(diào)用相應(yīng)的補償公式以當(dāng)前工藝所用靶材消耗的消耗值作為參數(shù)來計算參數(shù)補償值,然后采用計算得到的參數(shù)補償值對需要補償?shù)膮?shù)進行補償,得到補償后的參數(shù),并通過補償后的參數(shù)執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟。通過實施例提供的工藝補償方法,第一、工藝人員無需實時修改工藝配方中各工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)信息、而只是配置一次工藝配方即可,可見,相較于現(xiàn)有的方案,能夠減少人工操作、節(jié)省人力資源。第二、工藝補償是由半導(dǎo)體設(shè)備根據(jù)配方中的配置需求實時進行的,極大的降低了操作難度。第三、本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明了,由機械設(shè)備執(zhí)行的操作相較于依靠人工執(zhí)行的操作的無論是穩(wěn)定性、還是可重復(fù)性都要高,而本發(fā)明提供的工藝補償完全是由半導(dǎo)體設(shè)備執(zhí)行的,因此,相較于現(xiàn)有的工藝補償方案工藝的穩(wěn)定性以及可重復(fù)性均強。實施例三參照圖5,示出了本發(fā)明實施例三的一種工藝方法的步驟流程圖。本實施例中以磁控PVD設(shè)備進行工藝補償為例,對工藝補償方法進行說明。本實施例中,在磁控PVD設(shè)備中設(shè)置計數(shù)器,該計數(shù)器用于記錄靶材的已消耗的生命,本實施例中以濺射電源對靶材的歷史累計做功來表示靶材的已消耗的生命。同時本實施例中還提供一種優(yōu)選的工藝配方的設(shè)置格式如表1所示:表1NameStep1Step2……Time(s)105……Power(w)100500……CompensationYN……ComTypeTimePower…………………………通過設(shè)置的上述Recipe即工藝配方,工藝人員在編輯Recipe時,每一個Step即工藝步驟中增加是否進行時間或者功率補償,和補償類型(時間or功率)的選項,當(dāng)工藝配方配置完成后,磁控PVD設(shè)備即可執(zhí)行工藝流程。下面以磁控PVD設(shè)備執(zhí)行工藝配方中的一個工藝步驟為例,對磁控PVD設(shè)備對工藝補償方式進行說明,具體包括以下步驟:步驟S302:獲取工藝配方中當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的信息,即參數(shù)信息。本實施例中以執(zhí)行表1中的Step1為例,對本實施例的工藝補償方法進行說明。則當(dāng)前工藝步驟為Step1,獲取到的參數(shù)信息為:Time:10s、Power:100w、Compensation:Y、CompType:Time。其中,Time對應(yīng)的參數(shù)信息表示當(dāng)前工藝步驟的濺射時間,Power對應(yīng)的參數(shù)信息表示當(dāng)前工藝步驟的濺射功率,Compensation對應(yīng)的參數(shù)信息指示是否需要進行參數(shù)補償,CompType對應(yīng)的參數(shù)信息指示需要進行參 數(shù)補償?shù)难a償類型。步驟S304:確定是否需要進行參數(shù)補償。每次執(zhí)行Recipe的Step時,均會檢查是否要進行參數(shù)補償。而判斷的具體方式為:判斷獲取到的參數(shù)信息中是否包含用于指示對當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的參數(shù)進行補償?shù)难a償信息。例如:獲取到的參數(shù)信息中包含Compensation:Y,則確定需要進行參數(shù)補償,若Compensation:N,則確定不需要進行參數(shù)補償。若確定需要進行參數(shù)補償,則執(zhí)行步驟S306,若確定不需要進行參數(shù)補償,則執(zhí)行步驟S316。步驟S306:在確定需要進行參數(shù)補償后,確定需要進行時間參數(shù)值補償、還是進行功率參數(shù)值補償;當(dāng)確定進行功率參數(shù)值補償時,執(zhí)行步驟S308,當(dāng)確定進行時間參數(shù)值補償時,執(zhí)行步驟S312。每次執(zhí)行Recipe的Step時,均會檢查是否要進行參數(shù)補償,若是,則進一步檢查補償類型,是時間還是功率補償。由于本實施例中是以表1中的Step1為例進行的說明,因此,判斷結(jié)果為需要對時間參數(shù)進行補償,故,需要執(zhí)行步驟S312。需要說明的是,當(dāng)需要進行功率參數(shù)值補償時,則執(zhí)行步驟S308。步驟S308:當(dāng)確定進行功率參數(shù)值補償時,計算功率補償值△P。步驟S310:修改Step1的功率參數(shù)值,然后,執(zhí)行步驟S316。本實施例中根據(jù)補償類型確定補償公式,并通過確定的補償公式進行相應(yīng)的計算,得出功率參數(shù)值的補償值并對相應(yīng)的功率參數(shù)直接進行補償修改。比如說,Recipe的當(dāng)前工藝步驟設(shè)置了功率補償?shù)姆绞?,而Recipe中當(dāng)前步驟的功率參數(shù)的設(shè)置值為P。在執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟時,會去計算功率補償值,得出結(jié)果為△P單位功率的功率補償值,那么當(dāng)前工藝步驟執(zhí)行的實際功率參數(shù)值為P=P×(1+△P)。本實施例中,工作人員通過實驗、根據(jù)沉積速率與靶材已使用壽命的關(guān)系,并通過分析擬合等手段總結(jié)得出兩個計算公式△P=Ax3+Bx2+Cx+D,△T=ax3+bx2+cx+d?!鱌為單位功率的功率補償,△T為 單位時間內(nèi)的時間補償,x為靶材已使用壽命,A、B、C、D、a、b、c、d為相關(guān)系數(shù),這些系數(shù)值的確定需要通過實驗才能確定,它們的取值范圍為[-1,1]。且A、B、C、D、a、b、c、d會因為靶材和腔室的不同而不同,因此系數(shù)為可修改的。在步驟S308中就采用△P=Ax3+Bx2+Cx+D進行計算,得到功率補償值△P。步驟S312:當(dāng)確定進行時間參數(shù)值補償時,計算時間補償值△P。步驟S310:修改Step1的時間參數(shù)值,然后,執(zhí)行步驟S316。比如說,Recipe的當(dāng)前步驟設(shè)置了時間補償?shù)姆绞剑鳵ecipe中當(dāng)前步驟的時間參數(shù)的設(shè)置值為T。在執(zhí)行當(dāng)前步驟時,會去計算時間補償值,得出結(jié)果為△T單位時間內(nèi)的時間補償值,那么當(dāng)前步驟執(zhí)行的實際時間參數(shù)值為T=T×(1+△T)。相應(yīng)地,在步驟S312中就采用△T=ax3+bx2+cx+d進行計算,得到時間補償值△T。假設(shè)獲取到的靶材的使用壽命為10kwh,a=0,b=0,c=1,d=1。則計算得到的△T=1×10+1=11s,而當(dāng)前的時間參數(shù)值為10,因此,通過公式T=T×(1+△T)計算后,得到的補償后的時間參數(shù)值為120s。步驟S316:采用補償后的參數(shù)值執(zhí)行當(dāng)前工藝步驟即Step1。本實施例中,開始執(zhí)行Step1,設(shè)置濺射電源功率為100w(Recipe中的其他參數(shù)若存在,也分別進行設(shè)置),讓上述狀態(tài)持續(xù)120s,Step1執(zhí)行結(jié)束。需要說明的是,上述僅是以執(zhí)行表1中的Step1為例對本實施例的工藝補償方法進行的說明,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明了,由于Recipe中設(shè)置有Step,因此,在執(zhí)行完Step1后,還需要重復(fù)上述流程執(zhí)行Recipe中設(shè)置的其他未執(zhí)行的Step。通過本實施例提供的工藝方法,保持Recipe不變的前提下,在執(zhí)行工藝的過程中自動對Recipe時間和功率參數(shù)進行實時的調(diào)整,從而達到工藝結(jié)果的穩(wěn)定和可重復(fù)的目的。對因靶材的消耗帶來的工藝的結(jié)果的不穩(wěn)定 和不可重復(fù)的問題,進行了補救,還解決了現(xiàn)有的工藝參數(shù)補償人為手動操作難以實現(xiàn)的問題。實施例四參照圖6,示出了本發(fā)明實施例四的一種工藝裝置的結(jié)構(gòu)框圖。本實施例的工藝裝置設(shè)置于半導(dǎo)體設(shè)備中,具體包括:設(shè)置模塊602,用于根據(jù)工藝配方中各工藝步驟的參數(shù)信息,預(yù)先設(shè)置各工藝步驟對應(yīng)的補償信息以及補償類型;獲取模塊604,用于對于需要進行補償?shù)牟襟E,獲取所述步驟對應(yīng)的補償類型,依據(jù)所述補償類型確定所述補償類型對應(yīng)的補償公式;參數(shù)信息更新模塊606,用于根據(jù)所述補償公式,結(jié)合當(dāng)前靶材的消耗值,計算所述步驟中對應(yīng)的參數(shù)補償值,通過所述參數(shù)補償值對所述步驟中的參數(shù)值進行補償,更新所述工藝步驟的參數(shù)信息;工藝步驟執(zhí)行模塊608,用于根據(jù)更新后的參數(shù)信息,執(zhí)行所述工藝步驟。優(yōu)選地,所述獲取模塊604包括:第一判斷子模塊6042,用于判斷所述工藝步驟是否需要進行補償,若是,執(zhí)行第二判斷子模塊;否則,按照工藝配方中的參數(shù)信息執(zhí)行所述工藝步驟;第二判斷子模塊6044,用于判斷所述工藝步驟的補償類型,若是時間補償類型,則調(diào)用時間補償公式;若是功率補償類型,則調(diào)用功率補償公式。優(yōu)選地,所述參數(shù)信息更新模塊606具體用于:確定所述工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,根據(jù)確定的所述時間參數(shù)值采用以下公式計算補償后的時間參數(shù)值:T=T(1+△T);其中,所述T為確定的所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的時間參數(shù)值,△T為單位時間內(nèi)的時間補償值;△T=ax3+bx2+cx+d,其中,x為靶材消耗的消耗值,a、b、c和d均為設(shè)定系數(shù)。優(yōu)選地,所述參數(shù)信息更新模塊606還用于:確定所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,根據(jù)確定的所述功率參數(shù)值采用以下公式計算補償后的功率參數(shù)值:P=P(1+△P);其中,所述P為確定的所述當(dāng)前工藝步驟對應(yīng)的功率參數(shù)值,△P為單位功率的功率補償值;△P=Ax3+Bx2+Cx+D,其中,x為靶材消耗的消耗值,A、B、C和D均為設(shè)定系數(shù)。優(yōu)選地,本實施例的工藝裝置,還包括消耗值獲取模塊610,用于實時 監(jiān)控靶材的使用狀態(tài),獲取所述靶材的消耗值。優(yōu)選地,所述消耗值獲取模塊610獲取所述靶材的消耗值時:獲取濺射電源對當(dāng)前工藝所用靶材的歷史累計做功,將所述歷史累計做功作為所述靶材消耗的消耗值。本實施例的工藝裝置用于實現(xiàn)前述實施例一、實施例二以及實施例三中相應(yīng)的工藝方法,并且具有相應(yīng)的方法實施例的有益效果,在此不再贅述。本說明書中的各個實施例均采用遞進的方式描述,每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處,各個實施例之間相同相似的部分互相參見即可。對于系統(tǒng)實施例而言,由于其與方法實施例基本相似,所以描述的比較簡單,相關(guān)之處參見方法實施例的部分說明即可。以上對本發(fā)明所提供的一種工藝方法和裝置進行了詳細(xì)介紹,本文中應(yīng)用了具體個例對本發(fā)明的原理及實施方式進行了闡述,以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想;同時,對于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員,依據(jù)本發(fā)明的思想,在具體實施方式及應(yīng)用范圍上均會有改變之處,綜上所述,本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對本發(fā)明的限制。當(dāng)前第1頁1 2 3