掩模調(diào)整單元、掩模裝置以及掩模的制造裝置和制造方法
掩模調(diào)整單元、掩模裝置以及掩模的制造裝置和制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠適當?shù)卣{(diào)整掩模圖案的位置的諸如掩模調(diào)整單元等技術(shù)。這種掩模調(diào)整單元設(shè)置有基體、可動部件和調(diào)整機構(gòu)?？蓜硬考尉哂型饩壊康难谀Ｖ黧w的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在基體上。調(diào)整機構(gòu)將從掩模主體的外緣部拉向掩模主體的外側(cè)的張力和從外緣部壓向掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由可動部件施加到由可動部件支撐的掩模主體上。
【專利說明】掩模調(diào)整單元、掩模裝置以及掩模的制造裝置和制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本技術(shù)涉及一種調(diào)整施加到沉積等用的掩模上的應力的掩模調(diào)整單元、其上安裝有掩模調(diào)整單元的掩模裝置以及掩模裝置的制造裝置和制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]過去，例如，在使用有機EL(電致發(fā)光)器件制造顯示裝置的過程中，通過使用沉積用掩模的真空沉積在基板的紅、綠和藍(RGB)各像素上形成材料膜的圖案。
[0003]按以下方式制造這種沉積用掩模。首先，通過電鑄法和光刻法等制備其中設(shè)置有許多微細開口圖案的掩模箔。其次，在向該掩模施加張力的狀態(tài)下，通過焊接等將掩模固定到支撐框架上。如果如上所述固定掩模，那么在固定后很難調(diào)整掩模的張力。
[0004]通常，掩模取決于開口圖案的形成密度的粗密度或者在電鑄或軋制過程中引起的膜厚的不均勻分布而具有不同的應力分布。此外，因為存在掩模的支撐框架本身的變形量的個體差異，所以提前通過變形分析等預見變形非常難。鑒于以上所述，在專利文獻I中提出了一種在將掩模固定到框架上之后修正開口圖案的位置的方法。
[0005]專利文獻I中記載的沉積用掩模包括由掩模框架保持的掩模主體、與掩模主體的至少一側(cè)連接的導引構(gòu)件和用于經(jīng)由導引構(gòu)件向掩模主體施加預定張力的張力施加部件。張力施加部件包括在導引構(gòu)件的側(cè)壁上形成的螺絲孔和可以插入螺絲孔并且其前端部與掩?？蚣艿膫?cè)面接觸的螺絲。操作員可以通過擰緊或放松螺絲向掩模主體施加張力(例如，參照專利文獻I的說明書第
[0031]~
[0035]段和圖4)。
[0006]引用文獻列表
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本專利申請?zhí)亻_N0.2004-6257
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]發(fā)明要解決的問題
[0010]然而,專利文獻I中記載的張力施加部件的結(jié)構(gòu)是其中張力隨著擰緊度增大而增大的結(jié)構(gòu)。具體地，因為它僅是其中向掩模主體施加張力的結(jié)構(gòu)，所以難以適當?shù)卣{(diào)整在掩模上形成的掩模圖案的位置。
[0011]本發(fā)明的目的是提供一種能夠適當?shù)卣{(diào)整掩模圖案的位置的諸如掩模調(diào)整單元等的技術(shù)。
[0012]解決問題的手段
[0013]為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本技術(shù)的掩模調(diào)整單元包括基體、可動部件和調(diào)整機構(gòu)。
[0014]所述可動部件支撐具有外緣部的掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上。
[0015]所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐。
[0016]因為調(diào)整機構(gòu)可以同時向掩模主體施加張力和壓力，所以可以適當?shù)匚⒓氄{(diào)整設(shè)置在掩模主體上的掩模圖案的位置。
[0017]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括作用在所述可動部件上的至少一個螺栓。螺栓可以直接地或間接地作用在可動部件上。
[0018]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括向所述掩模主體施加所述張力的第一螺栓，和向所述掩模主體施加所述壓力的第二螺栓。
[0019]所述調(diào)整機構(gòu)可以具有支撐第一螺栓和第二螺栓的支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述基體上。另外，所述可動部件可以具有將第一螺栓插入其中的螺絲孔和與第二螺栓的端部接觸的接觸區(qū)域。
[0020]通過第一和第二螺栓這兩個螺栓，可以產(chǎn)生張力和壓力。
[0021]所述調(diào)整機構(gòu)還可以包括與第一螺栓和第二螺栓中的至少一個連接的轉(zhuǎn)換部件。所述轉(zhuǎn)換部件將所述至少一個螺栓在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0022]如上所述，轉(zhuǎn)換部件可以將在螺栓的移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在不同于該方向的方向上的動力，并且移動可動部件。
[0023]所述調(diào)整機構(gòu)還可以包括固定體和傳遞部件。所述固定體設(shè)置在所述基體上。所述傳遞部件可以通過所述固定體和所述可動部件之間的第一螺栓和第二螺栓中的任一個與所述基體連接、將第一螺栓和第二螺栓中的任一個在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0024]所述傳遞部件可以是通過彈性變形作用在所述可動部件上的彈性體。因為利用彈性體的彈性變形，所以可以高精度地微細調(diào)整掩模圖案的位置。
[0025]所述可動部件可以具有錐形面。所述固定體可以具有面向所述可動部件的錐形面的錐形面并可以設(shè)置在所述基體上，使得所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間的間隔朝著其上形成有掩模圖案的圖案面的垂直方向改變，所述掩模主體具有所述圖案面。所述傳遞部件可以是在所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間配置的阻擋部件，使得所述阻擋部件與所述錐形面接觸。
[0026]所述調(diào)整機構(gòu)還可以具有設(shè)置在所述基體上并支撐所述螺栓的支撐部，和調(diào)節(jié)所述螺栓沿著所述螺栓的插入和取出方向相對于所述支撐部的移動的調(diào)節(jié)部。因此，調(diào)整機構(gòu)可以通過調(diào)整用的一個螺栓同時產(chǎn)生張力和壓力。
[0027]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括向所述掩模主體施加所述張力的第一凸輪部件，和向所述掩模主體施加所述壓力的第二凸輪部件。因此，調(diào)整機構(gòu)可以不用調(diào)整用的螺栓同時產(chǎn)生張力和壓力。
[0028]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括能夠向所述掩模主體施加所述張力和所述壓力的壓電元件。
[0029]所述掩模調(diào)整單元還可以包括調(diào)整框架和調(diào)整部件。
[0030]所述調(diào)整框架與所述基體連接，使得所述調(diào)整框架在與其上形成有掩模圖案的圖案面垂直的方向上面向所述基體并且在所述調(diào)整框架和所述基體之間形成間隙，所述掩模主體具有所述圖案面。
[0031]所述調(diào)整部件調(diào)整在所述垂直方向上的間隙的距離。因此，因為在調(diào)整框架和基體之間形成間隙并且由調(diào)整部件調(diào)整間隙的距離，所以可以修正掩模主體的偏斜或在與重力方向相反的方向上向上拉掩模主體。
[0032]根據(jù)本技術(shù)的掩模裝置包括掩模主體和上述的支撐所述掩模主體的掩模調(diào)整單
[0033]根據(jù)本技術(shù)的掩模制造裝置是通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造裝置。
[0034]所述掩模制造裝置包括檢測部、操作裝置和控制器。
[0035]所述檢測部在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息。
[0036]所述操作裝置驅(qū)動所述掩模裝置的調(diào)整機構(gòu)。
[0037]所述控制器從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息，并基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量。然后，所述控制器基于所算出的位移量控制所述操作裝置。
[0038]因此，可以自動地適當調(diào)整掩模主體的掩模圖案的位置。因此，可以提高由所述掩模裝置制造的裝置的生產(chǎn)性。
[0039]所述操作裝置可以包括電機和使所述電機的驅(qū)動減速的減速器。因此，可以高精度地微細調(diào)整掩模圖案的位置。
[0040]所述掩模制造裝置還可以包括使所述操作裝置能夠沿著所述掩模主體移動的引導機構(gòu)。因此，可以改變由操作裝置經(jīng)由調(diào)整機構(gòu)施加應力的位置。
[0041]根據(jù)本技術(shù)的掩模制造方法是通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造方法。
[0042]在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息。
[0043]從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息。
[0044]基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量。
[0045]基于所算出的位移量控制驅(qū)動所述掩模的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置。
[0046]發(fā)明效果
[0047]根據(jù)本技術(shù)，可以適當?shù)卣{(diào)整掩模圖案的位置。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0048]圖1是示出包括根據(jù)本技術(shù)第一實施方案的掩模調(diào)整單元的掩模的立體圖。
[0049]圖2是圖1中所示的掩模調(diào)整單元的平面圖。
[0050]圖3是示出掩模圖案的例子的放大圖。
[0051]圖4是沿著圖2中的線C-C的斷面的示意圖。
[0052]圖5是示出由圖2中的點劃線E包圍的部位(調(diào)整機構(gòu)的一部分)放大后的視圖。
[0053]圖6A是沿著圖5中的線A-A的斷面圖，圖6B是沿著圖5中的線B-B的斷面圖。
[0054]圖7是沿著圖2中的線D-D的斷面圖。
[0055]圖8是示出基架的偏斜的視圖。
[0056]圖9A~圖9C是示出位置保持機構(gòu)的例子的斷面圖。
[0057]圖10是示出位置保持機構(gòu)的例子的斷面圖。
[0058]圖11示出在由圖10中所示的調(diào)整機構(gòu)調(diào)整位置之后保持掩模主體的位置的位置保持機構(gòu)。
[0059]圖12是根據(jù)本技術(shù)第三實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0060]圖13A是根據(jù)本技術(shù)第四實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖13B是沿著圖13A中的線E-E的斷面圖。
[0061]圖14是示出根據(jù)本技術(shù)第五實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。
[0062]圖15A是沿著圖14中的線F-F的斷面圖。圖15B是沿著圖14中的線G-G的斷面圖。
[0063]圖16是根據(jù)本技術(shù)第六實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0064]圖17是根據(jù)本技術(shù)第七實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Y軸方向上看到的斷面圖。
[0065]圖18A是示出根據(jù)本技術(shù)第八實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖18B是沿著圖18A中的線H-H的斷面圖。
[0066]圖19A是示出根據(jù)本技術(shù)第九實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖19B是沿著圖19A中的線1-1的斷面圖。
[0067]圖20是示出掩模制造裝置的視圖。
[0068]圖21是示出一個操作裝置的立體圖。
[0069]圖22是示出在掩模制造裝置上設(shè)定掩模裝置的狀態(tài)的立體圖。
[0070]圖23是示出根據(jù)另一個例子的掩模制造裝置的立體圖。
【具體實施方式】
[0071]下面，將參照【專利附圖】
【附圖說明】根據(jù)本技術(shù)的實施方案。
[0072][第一實施方案]
[0073](掩模調(diào)整單元和掩模裝置)
[0074]圖1是示出包括根據(jù)本技術(shù)第一實施方案的掩模調(diào)整單元的掩模裝置的立體圖。圖2是其平面圖。
[0075]掩模裝置100包括形成為掩模箔的掩模主體55和支撐掩模主體55的掩模調(diào)整單元50。掩模裝置100通?？梢栽谑褂糜袡CEL器件制造顯示裝置的過程中用作沉積用掩模。
[0076]掩模主體55主要包括諸如鎳(Ni)、殷鋼(Fe/Ni合金)和銅(Cu)等金屬材料。掩模主體55的厚度通常為約10~50 μ m。掩模主體55具有其上形成有掩模圖案的圖案面551。例如，在掩模主體55上，以可以形成三個顯示面的方式形成三個圖案區(qū)域552。例如，在各個圖案區(qū)域552內(nèi)，形成相同的掩模圖案。
[0077]例如，掩模圖案是以矩陣圖案或鋸齒形圖案配置的多個通過孔(通孔)，并且一個通過孔是用于形成顯示裝置中的一個像素區(qū)域的要素。例如，通過孔具有狹縫、槽或圓形形狀。經(jīng)由通過孔，低分子有機EL材料沉積在未示出的基板上。在RGB三種顏色的情況下，取決于顏色的數(shù)量使用三個掩模裝置。掩模主體55的通過孔的例子包括圖3中所示的通過孔(黑色部分)。
[0078]在向掩模主體55施加某種程度的張力的狀態(tài)下，掩模主體55通過點焊(例如，通過電阻或激光)固定到掩模調(diào)整單元50上并被支撐。
[0079]掩模調(diào)整單元50包括具有開口 1a的矩形基架(基體)10。另外，掩模調(diào)整單元50包括對應于基架10的四邊設(shè)置的四個可動部件20。各可動部件20具有沿著X和Y軸的長形形狀。
[0080]由四個可動部件20形成的矩形部的外形的尺寸與掩模主體55的外形的尺寸幾乎相同或稍大于掩模主體55的外形的尺寸。在可動部件20的上表面上，通過焊接固定掩模主體55的外緣部553。以當在Z軸方向上觀看時在基架10的開口 1a中收容掩模主體55的三個圖案區(qū)域552的方式使掩模主體55固定到可動部件20上。Z軸方向是與掩模主體55的其上形成有掩模圖案的圖案面551垂直的方向。
[0081 ] 各可動部件20具有幾乎相同的結(jié)構(gòu)。例如，在一個可動部件20的兩個端部的上表面上形成螺絲孔，并且通過未示出的螺絲使可動部件20與基架10連接。因此，如將在后面描述的，除了可動部件20的端部之外的區(qū)域可沿著X軸方向(或Y軸方向)移動而變形。
[0082]掩模調(diào)整單元50包括經(jīng)由上述的可動部件20向掩模主體55施加應力的調(diào)整機構(gòu)40。調(diào)整機構(gòu)40包括向掩模主體55施加張力(拉力)的拉螺栓(第一螺栓)41和向掩模主體55施加壓力的壓螺栓(第二螺栓)42。另外，調(diào)整機構(gòu)40包括支撐拉螺栓41和壓螺栓42的支撐部件(支撐部)30。
[0083]例如，四個支撐部件30對應于基架10的四邊設(shè)置，并且每個都具有長形形狀。這些支撐部件30具有幾乎相同的結(jié)構(gòu)。這些支撐部件30在基架10上配置在可動部件20的外側(cè)。支撐部件30沿著其縱向方向具有許多螺絲孔30a，并且通過未示出的螺絲使各支撐部件30固定到基架10上。
[0084]應當指出的是，支撐部件30可以通過與基架10的材料一體成形來形成。
[0085]拉螺栓41和壓螺栓42彼此相鄰地配置。拉螺栓41和壓螺栓42作為一組螺栓，多組螺栓以預定的間距在X和Y軸方向上配置。拉螺栓41和壓螺栓42之間的距離可以適當?shù)卦O(shè)定。另外，各組螺栓(41和42)的間距可以類似地適當設(shè)定。
[0086]在掩模調(diào)整單元50中，通常，基架10、支撐部件30和可動部件20等的材料包括具有作為處理對象的基板(其上沉積有機材料的基板)的材料的熱膨脹系數(shù)的材料。其目的在于，隨著沉積處理過程中的溫度變化使掩模裝置100和基板彼此同步地膨脹/收縮并且使由于膨脹和收縮而引起的尺寸的變化量相等。另外，有利的是，基架10具有足夠的厚度和高剛性以使變形量盡可能少，并且考慮到運輸或處理使基架10的重量減小到現(xiàn)實的重量。
[0087]另外，至少通過使用較軟材料(即，具有低的楊氏模量的材料)作為可動部件20的材料，可以高精度地進行微細調(diào)整。例如，通過在可動部件20中產(chǎn)生切口，可以進一步擴大可動范圍。
[0088]圖4是沿著圖2中的線C-C的斷面的示意圖。固定螺栓21與可動部件20的兩個端部和基架10連接。通過利用這些固定螺栓21，可動部件20的端部固定到基架10上。除了可動部件20的端部之外的區(qū)域可通過相對于基架10的變形在水平方向(X或Y軸方向)上移動。
[0089]圖5是示出由圖2中的點劃線E包圍的部位(調(diào)整機構(gòu)40的一部分)放大后的視圖。圖6A是沿著圖5中的線A-A的斷面圖，圖6B是沿著圖5中的線B-B的斷面圖。
[0090]如圖6A和圖6B所示，掩模主體55通過焊接(由焊接點L示出)與可動部件20接合。作為拉螺栓41和壓螺栓42，使用基本上相同的螺栓。例如，使用尺寸為M2 (2mm的直徑)~M5(5mm的直徑)的螺栓。然而，不限于此。
[0091]其中配置有多組螺栓(41和42)的在X軸方向(和Y軸方向)上的范圍可以適當?shù)卦O(shè)定。
[0092]如圖6A所示，支撐部件30和可動部件20之間的距離t考慮到由調(diào)整機構(gòu)40調(diào)整的范圍可以適當?shù)卦O(shè)定。例如，在具有約600mm的邊長的掩模的情況下，可以使它們之間的距離t為約100 μ m。距離t僅需要是比用于調(diào)整形成為掩模圖案的通過孔的位置的距離足夠長的距離。
[0093]如圖6A所示，拉螺栓41包括頭部41a。在可動部件20上設(shè)置沿著X軸方向的螺絲孔，并且在支撐部件30上設(shè)置在X軸方向上的通孔32。在通孔32中沒有設(shè)置螺紋。拉螺栓41由通孔32支撐并插入可動部件20的螺絲孔22。通過在拉螺栓41的頭部41a與支撐部件30接觸的狀態(tài)下將拉螺栓41擰緊，拉螺栓41的動力作用在可動部件20上并且可動部件20在朝向支撐部件30的方向上移動。
[0094]因此，在掩模主體55上產(chǎn)生從外緣部553拉向掩模主體55的外側(cè)的張力。因此，使在掩模主體55上形成的通過孔的位置調(diào)整為朝向掩模主體55的外側(cè)移動。
[0095]如圖6B所示，壓螺栓42包括頭部42a。在支撐部件30上設(shè)置沿著X軸方向的螺絲孔33，并且壓螺栓42插入螺絲孔33并由支撐部件30支撐。然后，壓螺栓42的前端部(端部)42b與可動部件20的側(cè)面24接觸。具體地，可動部件20具有壓螺栓42的前端部42b的接觸區(qū)域24a。
[0096]通過在使壓螺栓42的前端部與可動部件20的側(cè)面24接觸的狀態(tài)下擰緊壓螺栓42，壓螺栓42的動力作用在可動部件20上并且可動部件20在遠離支撐部件30的方向上移動。因此，在掩模主體55上產(chǎn)生從外緣部553壓向掩模主體55的內(nèi)側(cè)(中心)的壓力。結(jié)果，使在掩模主體55上形成的通過孔的位置調(diào)整為朝向掩模主體55的內(nèi)側(cè)移動。
[0097]應當指出的是，在圖6A和圖6B中，代替拉螺栓41的頭部41a和壓螺栓42的頭部42a，可以使螺母旋擰到螺栓(的螺絲部)上。在這種情況下，螺母的旋轉(zhuǎn)動力經(jīng)由螺栓傳遞到可動部件20上。
[0098]如上所述，由于調(diào)整機構(gòu)40可以向掩模主體55施加張力和壓力，所以可以適當?shù)匚⒓氄{(diào)整設(shè)置在掩模主體55上的掩模圖案的位置。
[0099]圖7是沿著圖2中的線D-D的斷面圖。掩模調(diào)整單元50包括調(diào)整基架10在Z軸方向上的位置的Z調(diào)整機構(gòu)45。Z調(diào)整機構(gòu)45包括沿著X軸的兩個支撐部件301和由這些支撐部件301支撐的多個Z調(diào)整螺栓31。在這種情況下，支撐部件301起到調(diào)整框架的作用，并且Z調(diào)整螺栓31起到調(diào)整部件的作用。作為Z調(diào)整螺栓31，使用尺寸為M2~M5的螺栓。然而，不限于此。
[0100]例如，在支撐部件301上設(shè)置在Z軸方向上通過支撐部件301的通孔301a。在基架10的對應通孔301a的位置設(shè)置螺絲孔10b。經(jīng)由支撐部件301的通孔301a，使Z調(diào)整螺栓31插入螺絲孔1b中。另外，固定螺栓311與支撐部件301的兩個端部連接。固定螺栓311具有使支撐部件301 (的兩個端部)和基架10彼此固定的功能。
[0101]在支撐部件301和基架10之間，形成間隙G。具體地，在支撐部件301的下部，設(shè)置以使間隙G的尺寸從端部朝向中心增大的方式形成的錐形面301b。然而，不限于錐形面，并且包括曲面(例如，圓弧形)和/或平面的凹面僅需要在支撐部件301的下部形成。
[0102]在基架10的具有幾乎正方形的開口 1a的邊長為900mm的情況下，由錐形面形成的間隙G的最高值hi為約2mm或大于2mm(取決于基架10的形狀和材料而變化)。這是因為考慮到基架10將偏斜約2mm。最高值hi可以大于2mm,因為支撐部件301本身可能偏斜。間隙G的最高值hi還考慮到高度h2可以通過結(jié)構(gòu)分析等適當?shù)卦O(shè)定。
[0103]在這種Z調(diào)整機構(gòu)45中，通過擰緊Z調(diào)整螺栓31使基架10在Z軸方向上提升。因此，可以用支撐部件301的高度作為基準，調(diào)整基架10在Z軸方向上的位置。特別地，可以修正基架10在Z軸方向上的偏斜。另外，通過設(shè)置間隙G，可以消除由于重力而引起的偏斜，因為間隙G在與重力方向相反的方向上提升基架10。因此，可以維持基架10和作為處理對象的基板的水平狀態(tài)。
[0104]另外，因為進行拉調(diào)整和壓調(diào)整的支撐部件30還起到Z軸調(diào)整用的框架的作用，所以可以減小掩模調(diào)整單元50的尺寸。
[0105]如上所述，根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，因為調(diào)整機構(gòu)40可以向掩模主體55施加張力和壓力，所以可以適當?shù)匚⒓氄{(diào)整設(shè)置在掩模主體55上的掩模圖案的位置。
[0106]通常，有機EL顯示裝置的開口率和精密度彼此之間具有權(quán)衡關(guān)系。通過使用根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，提高了沉積用掩模的開口(通過孔)的位置精度，并可以實現(xiàn)相對于權(quán)衡界線具有高開口率和高精密度的顯示裝置。開口率得以增大，即，可以實現(xiàn)具有高亮度和更長使用壽命的有機El顯示裝置。
[0107]另外，因為根據(jù)本實施方案的掩模裝置100產(chǎn)生張力和壓力，所以可以通過利用兩個應力之間的平衡維持調(diào)整后的掩模主體55的位置(應力狀態(tài))。因此，不需要用于維持調(diào)整后的掩模主體55的位置的單獨機構(gòu)。
[0108]在本實施方案中，通過在相同的擰緊方向擰緊拉螺栓41和壓螺栓42，可以產(chǎn)生張力和與張力相反的壓力。因此，在操作員手動進行調(diào)整的情況下，可以容易進行操作。
[0109]另外，在本實施方案中，Z調(diào)整機構(gòu)45可以防止基架10在Z軸方向上偏斜。
[0110]根據(jù)本實施方案，可以修正在制造掩模的過程中在電鑄時產(chǎn)生的內(nèi)部殘余應變或者取決于光刻的各處理的位置精度下降的精度下降。
[0111]另外，在過去制造掩模的過程中，掩模圖案的位置精度超出規(guī)格。本技術(shù)可以克服這個問題，并且在制造中有助于提高產(chǎn)量。
[0112]此外，如將在后面描述的，即使在掩模裝置100用于沉積處理之后通過洗滌處理等使掩模圖案的位置位移，也可以根據(jù)本公開修正該位移。因此，可以有助于延長掩模裝置的壽命。
[0113]根據(jù)本實施方案的掩模裝置100在未示出的沉積裝置中用作沉積用掩模。例如，某些沉積裝置包括利用滾筒輸送方式的輸送機，并且未示出的多個沉積源沿著作為其輸送方向的Y軸方向配置。在根據(jù)本技術(shù)的掩模裝置100上安裝作為沉積處理對象的未示出的基板，并且在掩模裝置100的沿著Y軸方向的兩邊由輸送機支撐的的同時向基板施加沉積處理。
[0114]在根據(jù)本實施方案的掩模裝置100用作這種沉積裝置的情況下，如果沒有采取相應措施，那么在掩模裝置100的尺寸增大的近年來，如圖8所示，基架10偏斜。這是因為沉積裝置的輸送機如上所述僅支撐基架10的沿著Y軸方向的兩邊。
[0115]如上所述，在基架10具有預定的大尺寸的情況下，最大偏斜量為約2mm。通過根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，如上所述，Z調(diào)整機構(gòu)45可以真正地抑制基架10的偏斜。
[0116]專利文獻I中記載的沉積用掩模不能抑制這種在Z軸方向上的偏斜。另外，如上所述，專利文獻I的技術(shù)僅從掩模主體55到外側(cè)向掩模主體55施加張力，難以微細調(diào)整圖案。
[0117]日本專利申請?zhí)亻_N0.2006-310183提出了一種通過使用向其施加張力的金屬帶來修正重力方向上的偏斜的方法。在這種情況下，可以使框架跟隨金屬帶。然而，難以在重力方向上進行μ m級的微細調(diào)整，或者不象本技術(shù)那樣，難以使框架在與重力方向相反的方向上變形。另外，因為在某些情況下由于在加工過程中產(chǎn)生的翹曲或殘余應力的影響在框架中產(chǎn)生局部翹曲 ，所以可以抑制偏斜。
[0118]另外，作為修正框架中的翹曲的裝置，公開了日本專利申請?zhí)亻_N0.2007-257839中記載的張力施加裝置。在這種裝置中，因為連接金屬帶的位置限于框架背面(與掩模面相反的面)，所以在實際沉積時難以再現(xiàn)支撐狀態(tài)，并且難以調(diào)整到適于實際沉積時的狀態(tài)的框架翹曲狀態(tài)。
[0119]通過根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，可以解決上述的問題。
[0120](在位置調(diào)整之后保持位置的位置保持機構(gòu))
[0121]在以上的說明中，不需要在通過由于張力和壓力而引起的應力的平衡來調(diào)整掩模圖案的位置之后保持掩模主體55的位置的機構(gòu)。然而，如將在下面說明的，掩模調(diào)整單元可以包括在調(diào)整掩模圖案的位置之后保持掩模主體55的位置的保持機構(gòu)。圖9A~圖9C和圖10是不出位置保持機構(gòu)的例子的斷面圖。
[0122]在圖9A所示的例子中，例如，在壓螺栓42上擰緊螺母43。在未示出的拉螺栓41上，也類似地擰緊螺母。
[0123]在圖9B所示的例子中，從支撐部件30的上面?zhèn)扔面i緊螺絲35固定壓螺栓42。雖然未示出，但是類似地用鎖緊螺絲固定拉螺栓41。
[0124]在圖9C所示的例子中，固定螺栓25從可動部件20的上面?zhèn)炔迦氩迦肟?0b中，并與基架的螺絲孔1c連接。因此，基架10和可動部件20彼此固定。插入孔20b的尺寸為即使可動部件20在圖中水平方向上移動以調(diào)整掩模圖案位置也使螺絲孔1c不被可動部件20覆蓋的尺寸。
[0125]通過設(shè)置這種位置保持機構(gòu)，可以可靠地在調(diào)整掩模圖案的位置之后保持掩模主體55的位置。
[0126]應當指出的是，當可動部件20移動時，為了防止可動部件20與基架10卡住可以在可動部件20的邊緣上進行R處理或階梯處理。當可動部件20移動時，至少在移動部件與基架10滑動接觸的部分上進行用于減小摩擦阻力的處理。因此，可以容易移動可動部件20。
[0127][第二實施方案]
[0128]圖10是示出根據(jù)本技術(shù)第二實施方案的掩模調(diào)整單元的一部分(即，調(diào)整機構(gòu))的斷面圖。在以下的說明中，簡化或省略了與根據(jù)圖6A和圖6B等中所示的實施方案的調(diào)整機構(gòu)40相似的部件和功能等，并且主要示出了不同點。
[0129]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在設(shè)置于基架10上的支撐部件80和可動部件70之間設(shè)置的壓電元件60。一個壓電元件60可以拉動和按壓可動部件70。因此，向掩模主體55施加張力和壓力，并且微細調(diào)整掩模圖案的位置。調(diào)整機構(gòu)僅需要包括多個壓電元件60，并且壓電元件60在X軸方向和Y軸方向上都設(shè)置多個。
[0130]例如，即使在如上所述使用壓電元件60的情況下，也可以實現(xiàn)與M2~M5螺栓相等的驅(qū)動力。因此，可以實現(xiàn)可動部件70所需的移動距離。
[0131]圖11示出了在由圖10中所示的調(diào)整機構(gòu)調(diào)整位置之后保持掩模主體55的位置的位置保持機構(gòu)。該保持機構(gòu)與圖9C中所示的位置保持機構(gòu)相同，從可動部件70的上面?zhèn)冗B接固定螺栓75，并固定可動部件70。如圖10所示，在切斷供給到壓電元件60的電力之后，壓電元件60回到初始狀態(tài)。因此，例如，如圖11所示，在切斷電力供給之前，需要用固定螺栓保持位置。
[0132][第三實施方案]
[0133]圖12是根據(jù)本技術(shù)第三實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0134]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在可動部件20和支撐部件30之間設(shè)置的凸輪部件47。凸輪部件47具有與壓螺栓46的螺絲部連接的連接部471和與可動部件20接觸并施加壓力的作用部472。作用部472具有橢圓板形狀或與其類似的形狀，但是可以具有除此以外的形狀。在連接部471上形成螺絲孔，并且壓螺栓46的螺絲部旋擰到螺絲孔中。壓螺栓46經(jīng)由在支撐部件30上設(shè)置的通孔32與凸輪部件47連接。
[0135]拉螺栓45、支撐部件30和可動部件20之間的機械關(guān)系與根據(jù)第一實施方案的拉螺栓45、支撐部件30和可動部件20之間的機械關(guān)系相同。
[0136]當擰緊壓螺栓46時，凸輪部件47以Z軸方向為旋轉(zhuǎn)軸繞著連接部471側(cè)在圖中順時針旋轉(zhuǎn)。即，以凸輪部件47的連接部471側(cè)接近壓螺栓46的頭部側(cè)并且作用部472側(cè)按壓可動部件20的方式旋轉(zhuǎn)。
[0137]如上所述，調(diào)整機構(gòu)包括當壓螺栓46操作時將壓螺栓46在沿著X軸方向的移動方向(第一移動方向)上的動力轉(zhuǎn)換成在不同于該方向的移動方向(第二移動方向)上的動力(即，此處旋轉(zhuǎn)方向上的動力)并將其傳遞到可動部件20的凸輪部件47。在這種情況下，凸輪部件47起到轉(zhuǎn)換部件的作用。
[0138]根據(jù)本實施方案，還可以通過在相同的擰緊方向上擰緊兩個螺栓來產(chǎn)生張力和與其相反的壓力。因此，在操作員手動進行調(diào)整的情況下，可以容易進行操作。另外，因為螺栓45和46的頭部處于按壓支撐部件30的狀態(tài)，所以通過設(shè)置例如彈簧墊圈，即使產(chǎn)生諸如振動和溫度變化等干擾，也可以抑制螺栓45和46的偏斜。
[0139]應當指出的是，轉(zhuǎn)換部件可以與拉螺栓45連接，并且轉(zhuǎn)換部件可以從掩模主體55的外緣部553向掩模主體55的外側(cè)方向拉動可動部件20。
[0140][第四實施方案]
[0141]圖13A是根據(jù)本技術(shù)第四實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖13B是沿著圖13A中的線E-E的斷面圖。
[0142]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在基架10上設(shè)置的支撐部件30和可動部件20之間配置的作為傳遞部件的彈性體49。支撐部件30起到固定到基架10上的固定體的作用。彈性體49是具有管形狀的部件。壓螺栓48在Z軸方向上與彈性體49和基架10連接，并且彈性體49和基架10彼此連接。
[0143]例如，彈性體49形成為在Y軸方向上長。彈性體49可以具有與掩模調(diào)整單元或掩模主體55的一個邊長相似的長度?？梢匝刂贿呉灶A定的間距設(shè)置多個彈性體49。
[0144]拉螺栓45通過在支撐部件30上設(shè)置的通孔32和在彈性體49上設(shè)置的橫通孔旋擰到可動部件20上。
[0145]通過擰緊螺栓48，螺栓48的頭部48a接近基架10。因此，使彈性體49被按壓和變形以在X軸方向上延伸。因此，向內(nèi)按壓可動部件20，并且應力從外緣部553向內(nèi)施加到掩模主體55上。
[0146]根據(jù)本實施方案，因為由于彈性變形引起的變形量相對于螺栓48在Z軸方向上的移動距離要小，所以可以高精度地微細調(diào)整掩模圖案的位置。
[0147]作為彈性體49，不僅可以使用具有管形狀的部件(即，中空部件)，而且可以使用實心部件。在圖13中，彈性體49在Y軸方向上看到的外形可以不是圓形形狀，而是橢圓形狀或多邊形。
[0148]在Y軸方向上看到的可動部件20的內(nèi)側(cè)(基于可動部件20，外側(cè)的支撐部件30的相反側(cè))，可以設(shè)置支撐部件。然后，在外側(cè)的支撐部件30和可動部件20之間配置第一彈性體49，并且在內(nèi)側(cè)的支撐部件和可動部件20之間配置未示出的第二彈性體。外側(cè)的第一彈性體49用螺栓48與基架10連接。第二彈性體用未示出的拉螺栓與基架10連接。根據(jù)調(diào)整機構(gòu)的這種構(gòu)造，可以利用第一彈性體49和第二彈性體產(chǎn)生張力和壓力。
[0149]可選擇地，在可動部件20的外側(cè)不設(shè)置支撐部件30，并且可以在可動部件20和在內(nèi)側(cè)設(shè)置的支撐部件之間設(shè)置彈性體。在這種情況下，彈性體在掩模主體55上產(chǎn)生張力，并且圖6B中所示的壓螺栓42產(chǎn)生壓向掩模主體55的壓力。
[0150][第五實施方案]
[0151]圖14是示出根據(jù)本技術(shù)第五實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖15A是沿著圖14中的線F-F的斷面圖。圖15B是沿著圖14中的線G-G的斷面圖。
[0152]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在基架10上設(shè)置的固定體130、面向固定體130的可動部件120、在固定體130和可動部件120之間設(shè)置的作為傳遞部件的阻擋部件90、壓螺栓62和拉螺栓61。
[0153]固定體130具有面向可動部件120的錐形面131?？蓜硬考?20還具有面向固定體130的錐形面131的錐形面121。以錐形面121和131之間的間隔朝向Z軸方向改變(即，此處朝向垂直方向的上側(cè)擴大)的方式形成可動部件120和固定體130。阻擋部件90配置在錐形面121和131之間以使阻擋部件90與錐形面121和131接觸。具體地，阻擋部件90的兩個側(cè)面也都是錐形面。
[0154]如圖15A所示，壓螺栓62經(jīng)由例如從阻擋部件90的上面?zhèn)仍O(shè)置在阻擋部件90上的縱通孔92與基架10連接。如圖15B所示，拉螺栓61經(jīng)由從固定體130的外側(cè)面的通孔132和設(shè)置在阻擋部件90上的縱通孔94與可動部件120連接。
[0155]縱通孔92和橫通孔94的內(nèi)徑形成為足夠大于壓螺栓62和拉螺栓61的螺絲部的直徑。考慮到其中通過螺栓61和62的擰緊作用使阻擋部件90在水平和垂直方向上移動的范圍設(shè)計內(nèi)徑。
[0156]例如，通過擰緊壓螺栓62，阻擋部件90沿著Z軸方向向下移動。因此，可動部件120與固定體130分開，并且向掩模主體55施加向內(nèi)的壓力。
[0157]可動部件120和固定體130的錐形面121和131可以不是平面,而是曲面。
[0158]應當指出的是，在圖15B中，通過使錐形面的圖示角度接近水平，可以減小用于向掩模主體55施加張力的擰緊拉螺栓61的力。
[0159]在本實施方案中，不必須設(shè)置壓螺栓62和拉螺栓61。在這種情況下，僅需要通過未示出的夾具垂直和水平地移動阻擋部件90。例如，如圖15B所示，為了使阻擋部件90在向上方向上移動，夾具需要經(jīng)由在基架10上設(shè)置的操作開口(未示出)按壓阻擋部件。
[0160][第六實施方案]
[0161]圖16是根據(jù)本技術(shù)第六實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0162]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括用于進行按壓和拉動的螺栓63和沿著螺栓63的安裝和取出方向(即，X軸方向)調(diào)節(jié)螺栓63相對于支撐部件30的移動的調(diào)節(jié)部件(調(diào)節(jié)部)110。調(diào)節(jié)部件110通過另一個螺栓111等固定到支撐部件30的側(cè)面30d上。
[0163]在頭部63a與支撐部件30的側(cè)面30d接觸的狀態(tài)下，使螺栓63經(jīng)由支撐部件30的通孔32旋擰到可動部件20上。調(diào)節(jié)部件110具有覆蓋螺栓63的頭部63a的空間110b，并且空間IlOb經(jīng)由操作孔IlOc與調(diào)節(jié)部件110的外部連通。使諸如扳手等操作部件64插入操作孔IlOc中，并且操作部件64可以與螺栓63的頭部63a連接。
[0164]經(jīng)由操作部件64擰緊螺栓63，可動部件20接近支撐部件30，從而在掩模主體上產(chǎn)生張力。經(jīng)由操作部件64放松螺栓63，使可動部件20與支撐部件30分開，并且使在掩模主體上的張力減弱。
[0165]如上所述，在本實施方案中，可以通過一個螺栓63進行按壓和拉動。
[0166][第七實施方案]
[0167]圖17是根據(jù)本技術(shù)第七實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Y軸方向上看到的斷面圖。
[0168]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括用于進行按壓和拉動的螺栓66和作為調(diào)節(jié)螺栓66相對于支撐部件30在X軸方向上的移動的調(diào)節(jié)部的墊圈67。使螺栓66插入支撐部件30的通孔32中。螺栓66的頭部66a與支撐部件30的外側(cè)面接觸，并且使墊圈67旋擰到螺栓66上，與支撐部件30的內(nèi)側(cè)面接觸，并固定。
[0169]另外，調(diào)整機構(gòu)包括固定在可動部件170的橫孔170a內(nèi)的兩個螺母68和69，并且使螺栓66旋擰到螺母68和69上。螺母68和69可以防止由于外力而引起的位移和反彈。
[0170][第八實施方案]
[0171]圖18A是示出根據(jù)本技術(shù)第八實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖18B是沿著圖18A中的線H-H的斷面圖。
[0172]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在可動部件220的內(nèi)側(cè)和外側(cè)設(shè)置的凸輪部件19和29 (第一凸輪部件和第二凸輪部件)。凸輪部件19 (29)包括與可動部件220的兩側(cè)面接觸的凸輪頭部191(291)和偏心地設(shè)置在凸輪頭部191(291)上的的偏心軸194(294)。偏心軸194(294)通過軸承192(292)與基架10可旋轉(zhuǎn)地連接。
[0173]按壓用的凸輪部件19配置在可動部件220的外側(cè)，拉動用的凸輪部件29配置在可動部件220的內(nèi)側(cè)。另外，按壓用的凸輪部件19和拉動用的凸輪部件29例如在Y軸方向交替配置。
[0174]在凸輪頭部191(291)的上表面上，設(shè)置操作用的手柄193(293)。經(jīng)由手柄193 (293)，凸輪部件19 (29)以偏心軸194(294)作為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。因此，可以向固定到可動部件220上的掩模主體55施加張力和壓力。
[0175]上述的任意一個位置保持機構(gòu)(參照圖9A~圖9C)也可以適用于根據(jù)上述第三至第八實施方案的掩模調(diào)整單元。
[0176][第九實施方案]
[0177]圖19A是示出根據(jù)本技術(shù)第九實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖19B是沿著圖19A中的線1-1的斷面圖。
[0178]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)的可動部件270包括沿著Y軸方向的溝槽272。壓電元件161和162與由溝槽272形成的壁部274的內(nèi)側(cè)面和外側(cè)面連接。
[0179]按壓壁部274的外側(cè)面的壓電元件162向掩模主體55施加向內(nèi)的壓力。按壓壁部274的內(nèi)側(cè)面的壓電兀件161向掩模主體55施加向外的張力。
[0180]在本實施方案中，設(shè)置保持各壓電元件161和162的保持架163。例如，保持架163與可在X軸方向上移動的平臺166連接。使用步進電機等作為驅(qū)動源，通過驅(qū)動機構(gòu)167驅(qū)動平臺166。通過驅(qū)動平臺166，可以經(jīng)由保持架163和可動部件270粗調(diào)整掩模主體55的掩模圖案的位置。
[0181]不必須設(shè)置粗調(diào)整用的平臺166和驅(qū)動機構(gòu)167。
[0182]應當指出的是，在可動部件270和基架10上，作為用于保持調(diào)整后的掩模主體55的位置的機構(gòu)(位置保持機構(gòu))，形成與固定螺栓75連接的螺絲孔273。
[0183][掩模制造裝置的實施方案]
[0184]操作員可以使用根據(jù)各實施方案的掩模調(diào)整單元手動調(diào)整掩模圖案的位置，并且如將在后面描述的，掩模制造裝置可以自動地調(diào)整位置。
[0185][掩模制造裝置的例子I]
[0186]圖20是示出根據(jù)一個實施方案的掩模制造裝置的視圖。在本實施方案中，將說明其中調(diào)整(制造)根據(jù)第一實施方案的掩模裝置100的例子。
[0187]掩模制造裝置400包括支撐基座401、在支撐基座401上設(shè)置的基架支撐部404和設(shè)置在基架支撐部404的外側(cè)并操作調(diào)整機構(gòu)40的操作裝置450。另外，掩模制造裝置400包括驅(qū)動操作裝置450的電機驅(qū)動器405、在上部設(shè)置的相機420和控制器410。
[0188]多個操作裝置450沿著具有矩形形狀的支撐基座401的四邊的方向配置。另外，在支撐基座401上，設(shè)置使操作裝置450的位置改變的引導機構(gòu)403。引導機構(gòu)403包括導軌。導軌使操作裝置450的位置沿著各邊改變，并且操作裝置450可以用螺栓等固定在預定的位置。
[0189]圖21是示出一個操作裝置450的立體圖。操作裝置450包括設(shè)置有減速器(例如，減速齒輪)的電機451和與電機451的輸出軸連接的扳手適配器452。例如，如圖22所示，扳手適配器452的端部可以與調(diào)整機構(gòu)40的拉螺栓41和壓螺栓42連接。例如，在扳手適配器452的端部上設(shè)置未示出的凹部，并且拉螺栓41和壓螺栓42的頭部41a和42a (參照圖6A和圖6B)嵌合到扳手適配器452的端部的凹部中。因此，操作裝置450與調(diào)整機構(gòu)40連接(參照圖1)。
[0190]作為電機451，使用例如步進電機或伺服電機。減速齒輪大多安裝在常用的步進電機上。
[0191]例如，減速器的減速比設(shè)定為約1/60~1/40，通常為1/50。在M3螺栓用于減速比為1/50的操作裝置450的情況下，可以實現(xiàn)1ym/轉(zhuǎn)的驅(qū)動量。因此，可以容易進行ym級的位置調(diào)整。
[0192]應當指出的是，電機451還設(shè)置有手柄453。操作員可以手動旋轉(zhuǎn)手柄453，因而，操作裝置450驅(qū)動調(diào)整機構(gòu)40。
[0193]相機420通過對在由支撐基座401支撐的掩模裝置100 (參照圖22)中的特別是掩模主體55的圖案面551進行拍攝來檢測掩模圖案的位置信息(實際位置信息)。相機420可以在X或Y軸上移動。
[0194]例如， 控制器410至少儲存在提前儲存的掩模主體55的設(shè)計信息中作為掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息。另外，控制器410獲取由相機420檢測的掩模圖案的實際位置信息，并基于實際位置信息和上述的設(shè)計位置信息進行后述的預定的計算。
[0195]控制器410通常可以包括諸如CPU、RAM和ROM等計算機。掩模圖案的設(shè)計位置信息可以儲存在通過有線或無線與控制器410連接的其他儲存裝置中。
[0196]例如，可以僅在支撐基座401的一邊設(shè)置至少一個操作裝置450，并且可以在至少兩邊的各邊設(shè)置至少一個操作裝置450。操作裝置450的數(shù)量和配置可以取決于掩模圖案的形狀或者在圖案面551內(nèi)將要修正的位置適當?shù)卦O(shè)定。
[0197]下面將說明掩模制造裝置400的操作。
[0198]首先，例如，如圖22所示，操作員將圖1和圖2所示的掩模裝置100放置在基架支撐部404上，并通過未示出的固定裝置等將其固定。然后，操作員設(shè)定在引導機構(gòu)403上的各操作裝置450的位置，并使各操作裝置450定位。另外，操作員將操作裝置450的扳手適配器452連接到調(diào)整機構(gòu)40的拉螺栓41和壓螺栓42。
[0199]作為放置在掩模制造裝置400上的掩模裝置100，使用通過焊接與掩模調(diào)整單元50接合的掩模主體55。另外，可以使用實際上在由沉積裝置使用之后并且施加洗滌過程等之前的掩模裝置100。
[0200]控制器410通過用相機420對掩模主體55的圖案面551整體進行拍攝來獲取掩模圖案的實際位置信息。實際位置信息是對拍攝的掩模圖案的圖像信息通過圖像處理進行二進制化而獲得的信息。
[0201]控制器410從存儲器獲取掩模主體55的設(shè)計位置信息，并基于獲取的設(shè)計位置信息和獲得的由相機420檢測的實際位置信息計算實際位置信息相對于設(shè)計位置信息的位移量。例如，控制器410通過計算作為設(shè)計位置信息的通過孔的坐標信息和作為實際位置信息的實際的通過孔的坐標信息之間的差值來計算位移量。
[0202]控制器410向電機驅(qū)動器405傳遞修正算出的位移量的控制信號(即，用于使算出的位移量接近零的控制信號)。電機驅(qū)動器405基于控制信號驅(qū)動操作裝置450。因此，可以自動地使掩模圖案的位置接近設(shè)計上的位置。
[0203]控制器410可以使用查詢表將位移量和由電機驅(qū)動器405進行的驅(qū)動信號的值之間的相關(guān)性儲存在存儲器等中。查詢表可以儲存各掩模圖案和掩模主體55的各材料。
[0204]創(chuàng)建查詢表的方法的例子包括以下方法。通過操作裝置450產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩，并且開始將轉(zhuǎn)矩傳遞到拉螺栓41和壓螺栓42?？蓜硬考?0 (例如，參照圖1)和掩模圖案的位置不移動，直到操作裝置450的旋轉(zhuǎn)的響聲(rattling)消除。在這種情況下，控制器410或操作裝置450僅需要具有檢測轉(zhuǎn)矩的功能。這是因為可以檢測利用轉(zhuǎn)矩值響聲消除的點，并可以將該點設(shè)定為在調(diào)整時的零點(基準點)。通過這種功能，可以實現(xiàn)位移量和將要輸出的驅(qū)動信號之間的相關(guān)性。
[0205]可選擇地，控制器410可以基于算出的位移量使用預定的算法計算將要輸出的控制信號的值。
[0206]在掩模裝置100包括上述的位置保持機構(gòu)(例如，參照圖9A~圖9C)的情況下，如上所述，在由掩模制造裝置400進行自動位置調(diào)整之后，操作員通過位置保持機構(gòu)保持調(diào)整后的掩模圖案的位置。
[0207]通過根據(jù)本實施方案的掩模制造裝置400，可以適當?shù)刈詣诱{(diào)整掩模主體55的掩模圖案的位置。因此 ，可以提高由掩模裝置100制造顯示裝置的生產(chǎn)性。
[0208](掩模制造裝置的例子2)
[0209]圖23是示出根據(jù)另一個例子的掩模制造裝置的立體圖。掩模制造裝置600和圖20所示的掩模制造裝置400之間的區(qū)別在于掩模制造裝置600包括Z操作裝置650。Z操作裝置650通過掩模裝置100的Z調(diào)整機構(gòu)45操作Z調(diào)整螺栓31 (參照圖7)。Z操作裝置650包括與上述的操作裝置450類似的機構(gòu)(具有減速器的電機451)。
[0210]設(shè)置多個Z操作裝置650。例如，多個Z操作裝置650通過上述的引導機構(gòu)403可滑動并可固定地與在支撐基座401上設(shè)置的沿著X軸方向的(例如，兩個)梁部連接。
[0211]另外，未示出的千分表與各梁部連接。千分表通過測量掩模裝置100的基架10的在X軸方向上的兩邊的高度位置來測量偏斜量。測量偏斜量的裝置不限于千分表，例如，可以使用光敏元件。
[0212]例如，控制器410可以通過提前儲存當基架10沿著X軸方向的邊處于水平狀態(tài)時千分表到基架10的邊的距離并比較儲存的信息與實際測量的距離來計算偏斜量。
[0213]應當指出的是，在支撐基座401和601上，沒有設(shè)置支撐基架10在X軸方向上的兩邊的部件。因此，當基架10支撐在支撐基座401和601上時，由掩模裝置100重量引起偏斜。即，如圖20所示，支撐基座401的基架支撐部404僅沿著Y軸方向設(shè)置。即，掩模制造裝置400和600都是在上述的沉積裝置中假定輸送機僅支撐基架10沿著Y軸方向的邊的裝置。
[0214]控制器410(參照圖20)獲取由千分表檢測的偏斜量。然后，控制器410向未示出的驅(qū)動Z操作裝置650的電機驅(qū)動器傳遞控制信號，從而修正偏斜量(使偏斜量接近零)。電機驅(qū)動器根據(jù)控制信號驅(qū)動Z操作裝置650，并擰緊Z調(diào)整螺栓31。
[0215]控制器410僅需要使用查詢表將偏斜量和將要輸出的控制信號的值之間的對應關(guān)系儲存在存儲器等中。查詢表可以儲存各掩模圖案和掩模主體55的各材料。
[0216]可選擇地，控制器410可以基于算出的偏斜量使用預定的算法計算將要輸出的控制信號的值。
[0217]通過掩模制造裝置600調(diào)整張力和壓力的方法與通過掩模制造裝置400的方法相同。
[0218]根據(jù)本實施方案的掩模制造裝置600，不僅可以自動地調(diào)整掩模主體55的掩模圖案的位置，而且可以調(diào)整掩模裝置100的基架10的偏斜。
[0219]作為掩模制造裝置400和600的另一個例子，在掩模調(diào)整單元50包括壓電元件60 (例如，參照圖10)的情況下，不需要操作裝置450并且設(shè)置與壓電元件60連接的配線。因此，可以實現(xiàn)掩模制造裝置400和600的小型化和簡單化。
[0220][其他實施方案]
[0221]本技術(shù)不限于上述的實施方案，并且可以實現(xiàn)其他各種實施方案。
[0222]根據(jù)本技術(shù)的掩模用于使用有機EL器件制造顯示裝置的過程中，并且描述了其中掩模用于沉積有機材料的過程中的例子。然而，根據(jù)本技術(shù)的掩模不僅可以應用到有機材料的沉積工藝，而且可以應用到金屬材料和介電材料等的沉積工藝?？蛇x擇地，掩模不僅可以用作沉積用掩模，而且可以用作曝光用掩模和印刷用掩模等。
[0223]另外，顯示裝置不限于有機EL器件，并且可以是液晶顯示裝置。作為通過掩模制造的對象的裝置不限于顯示裝置。
[0224]在第一實施方案中，一個拉螺栓41和一個壓螺栓42交替配置。然而，可以連續(xù)配置多個拉螺栓，或者可以連續(xù)配置多個壓螺栓42。
[0225]在第一實施方案中，四個可動部件20對應于具有矩形框架形狀的基架10的四邊設(shè)置。然而，至少一個可動部件20可以對應于至少一邊設(shè)置。例如，兩個可動部件20可以設(shè)置在兩個相對的邊上。這同樣適用于第二至第九實施方案。
[0226]在上述的實施方案中，如圖7所示，在起到調(diào)整框架作用的支撐部件301的下表面上設(shè)置錐形面301b。然而，支撐部件301的下表面可以是平面，并且可以在基架10的面向支撐部件301的表面(即，基架10的上表面)上形成這種凹面?？蛇x擇地，可以在支撐部件30和基架10上設(shè)置凹面。
[0227]例如，如圖1和圖2所示，沿著X軸方向在支撐部件301上設(shè)置拉螺栓41和壓螺栓42。然而，不必須在支撐部件301上設(shè)置拉螺栓41和壓螺栓42，并且可以僅設(shè)置用于調(diào)整Z軸的器具。
[0228]可選擇地，除了支撐部件301之外，還可以在基架10上單獨設(shè)置調(diào)整Z軸用的調(diào)整框架。另外，調(diào)整Z軸用的調(diào)整框架可以設(shè)置在基架10的所有四邊上。
[0229]在上述的實施方案中，螺栓(固定螺栓)用作位置保持機構(gòu)的主要元件。除了螺栓之外，還可以使用夾緊機構(gòu)、壓電元件或其他機構(gòu)。
[0230]在根據(jù)各實施方案的掩模制造裝置400的支撐基座401上設(shè)置的基架支撐部404的配置可以取決于使用掩模裝置100處理基板的處理裝置(例如上述的沉積裝置)的設(shè)計適當?shù)馗淖?。這也同樣適用于掩模制造裝置600。
[0231]上述的掩模制造裝置可以安裝在沉積裝置上或者與沉積裝置直線連接。因此，通過掩模制造裝置制造掩模裝置的處理和通過沉積裝置進行的沉積處理自動進行。因此，可以不用手動操作地進行這些處理。在這種情況下，制造掩模裝置的處理可以在真空下進行。
[0232]上述實施方案的至少兩個特征部分可以組合。
[0233]應當指出的是，本技術(shù)也可以采取以下構(gòu)成。
[0234](I).一種掩模調(diào)整單元，包括:
[0235]基體；
[0236]可動部件，所述可動部件支撐具有外緣部的掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和
[0237]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐。
[0238](2).根據(jù)⑴所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0239]所述調(diào)整機構(gòu)包括作用在所述可動部件上的至少一個螺栓。
[0240](3).根據(jù)⑵所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0241]所述調(diào)整機構(gòu)包括
[0242]向所述掩模主體施加所述張力的第一螺栓，和
[0243]向所述掩模主體施加所述壓力的第二螺栓。
[0244](4).根據(jù)(3)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0245]所述調(diào)整機構(gòu)具有支撐第一螺栓和第二螺栓的支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述基體上，以及
[0246]所述可動部件具有將第一螺栓插入其中的螺絲孔和與第二螺栓的端部接觸的接觸區(qū)域。
[0247](5).根據(jù)(3)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0248]所述調(diào)整機構(gòu)還包括與第一螺栓和第二螺栓中的至少一個連接、將所述至少一個螺栓在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的轉(zhuǎn)換部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0249](6).根據(jù)(3)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0250]所述調(diào)整機構(gòu)還包括
[0251]設(shè)置在所述基體上的固定體，和
[0252]通過所述固定體和所述可動部件之間的第一螺栓和第二螺栓中的任一個與所述基體連接、將第一螺栓和第二螺栓中的任一個在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的傳遞部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0253](7).根據(jù)(6)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0254]所述傳遞部件是通過彈性變形作用在所述可動部件上的彈性體。
[0255](8).根據(jù)(6)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0256]所述可動部件具有錐形面，
[0257]所述固定體具有面向所述可動部件的錐形面的錐形面并設(shè)置在所述基體上，使得所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間的間隔朝著其上形成有掩模圖案的圖案面的垂直方向改變，所述掩模主體具有所述圖案面，以及
[0258]所述傳遞部件是在所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間配置的阻擋部件，使得所述阻擋部件與所述錐形面接觸。
[0259](9).根據(jù)⑵所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0260]所述調(diào)整機構(gòu)還具有
[0261]設(shè)置在所述基體上并支撐所述螺栓的支撐部，和
[0262]調(diào)節(jié)所述螺栓沿著所述螺栓的插入和取出方向相對于所述支撐部的移動的調(diào)節(jié)部。
[0263](10).根據(jù)⑴所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0264]所述調(diào)整機構(gòu)包括
[0265]向所述掩模主體施加所述張力的第一凸輪部件，和
[0266]向所述掩模主體施加所述壓力的第二凸輪部件。
[0267](11).根據(jù)⑴所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0268]所述調(diào)整機構(gòu)包括能夠向所述掩模主體施加所述張力和所述壓力的壓電元件。
[0269](12).根據(jù)⑴~(11)中任一項所述的掩模調(diào)整單元，還包括:
[0270]調(diào)整框架，所述調(diào)整框架與所述基體連接，使得所述調(diào)整框架在與其上形成有掩模圖案的圖案面垂直的方向上面向所述基體并且在所述調(diào)整框架和所述基體之間形成間隙，所述掩模主體具有所述圖案面；和
[0271]在所述垂直方向上調(diào)整所述間隙的距離的調(diào)整部件。
[0272](13).—種掩模裝置，包括:
[0273]具有外緣部的掩模主體；
[0274]基體；
[0275]可動部件，所述可動部件支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和
[0276]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐。
[0277](14).一種用于通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造裝置，所述掩模制造裝置包括:
[0278]檢測部，所述檢測部在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括
[0279]所述掩模主體，
[0280]基體，
[0281]支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和
[0282]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐；
[0283]驅(qū)動所述掩模裝置的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置；和
[0284]控制器，所述控制器從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息，基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量，以及基于所算出的位移量控制所述操作裝置。
[0285](15).根據(jù)(14)所述的掩模制造裝置，其中
[0286]所述操作裝置包括
[0287]電機，和
[0288]使所述電機的驅(qū)動減速的減速器。
[0289](16).根據(jù)(14)或(15)所述的掩模制造裝置，還包括
[0290]使所述操作裝置能夠沿著所述掩模主體移動的引導機構(gòu)。
[0291](17).一種通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造方法，所述掩模制造方法包括:
[0292]在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括
[0293]所述掩模主體，
[0294]基體，
[0295]支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和
[0296]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐；
[0297]從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息；
[0298]基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量；和
[0299]基于所算出的位移量控制驅(qū)動所述掩模的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置。
[0300]附圖標記說明
[0301]10基架
[0302]19，29凸輪部件
[0303]20，70，120，170，220，270 可動部件
[0304]21固定螺栓
[0305]24a接觸區(qū)域
[0306]30,80,301 支撐部件
[0307]40調(diào)整機構(gòu)
[0308]41，61拉螺栓
[0309]42，62壓螺栓
[0310]45Z調(diào)整機構(gòu)[0311 ] 46,48,63,66 螺檢
[0312]49彈性體
[0313]50掩模調(diào)整單元
[0314]55掩模主體
[0315]60，161，162壓電元件
[0316]90阻擋部件
[0317]100掩模裝置
[0318]110調(diào)節(jié)部件
[0319]121，131錐形面
[0320]130固定體
[0321]301支撐部件
[0322]400,600掩模制造裝置
[0323]403引導機構(gòu)
[0324]410控制器
[0325]420相機
[0326]450操作裝置
[0327]551圖案面
[0328]553外緣部
【權(quán)利要求】
1.一種掩模調(diào)整單元,包括: 基體； 可動部件，所述可動部件支撐具有外緣部的掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和 調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括作用在所述可動部件上的至少一個螺栓。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括 向所述掩模主體施加所述張力的第一螺栓，和 向所述掩模主體施加所述壓力的第二螺栓。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)具有支撐第一螺栓和第二螺栓的支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述基體上，以及 所述可動部件具有將第一螺栓插入其中的螺絲孔和與第二螺栓的端部接觸的接觸區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)還包括與第一螺栓和第二螺栓中的至少一個連接、將所述至少一個螺栓在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的轉(zhuǎn)換部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)還包括 設(shè)置在所述基體上的固定體，和 通過所述固定體和所述可動部件之間的第一螺栓和第二螺栓中的任一個與所述基體連接、將第一螺栓和第二螺栓中的任一個在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的傳遞部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述傳遞部件是通過彈性變形作用在所述可動部件上的彈性體。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述可動部件具有錐形面， 所述固定體具有面向所述可動部件的錐形面的錐形面并設(shè)置在所述基體上，使得所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間的間隔朝著其上形成有掩模圖案的圖案面的垂直方向改變，所述掩模主體具有所述圖案面，以及 所述傳遞部件是在所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間配置的阻擋部件，使得所述阻擋部件與所述錐形面接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模調(diào)整單元，其中所述調(diào)整機構(gòu)還具有 設(shè)置在所述基體上并支撐所述螺栓的支撐部，和 調(diào)節(jié)所述螺栓沿著所述螺栓的插入和取出方向相對于所述支撐部的移動的調(diào)節(jié)部。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括 向所述掩模主體施加所述張力的第一凸輪部件，和 向所述掩模主體施加所述壓力的第二凸輪部件。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括能夠向所述掩模主體施加所述張力和所述壓力的壓電元件。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，還包括: 調(diào)整框架，所述調(diào)整框架與所述基體連接，使得所述調(diào)整框架在與其上形成有掩模圖案的圖案面垂直的方向上面向所述基體并且在所述調(diào)整框架和所述基體之間形成間隙，所述掩模主體具有所述圖案面；和 在所述垂直方向上調(diào)整所述間隙的距離的調(diào)整部件。
13.—種掩模裝置,包括: 具有外緣部的掩模主體； 基體； 可動部件，所述可動部件支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和 調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐。
14.一種用于通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造裝置，所述掩模制造裝置包括: 檢測部，所述檢測部在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括所述掩模主體， 基體， 支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè) 的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐； 驅(qū)動所述掩模裝置的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置；和 控制器，所述控制器從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息，基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量，以及基于所算出的位移量控制所述操作裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩模制造裝置，其中 所述操作裝置包括 電機，和使所述電機的驅(qū)動減速的減速器。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩模制造裝置，還包括 使所述操作裝置能夠沿著所述掩模主體移動的引導機構(gòu)。
17.—種通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造方法，所述掩模制造方法包括: 在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括所述掩模主體， 基體， 支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐； 從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息；基于所獲取的設(shè)計位置信息 和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量；和 基于所算出的位移量控制驅(qū)動所述掩模的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置。
【文檔編號】H01L51/50GK104169455SQ201380015636
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2013年1月31日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月5日
【發(fā)明者】栗山健太朗, 久保智弘 申請人:索尼公司
【專利摘要】本發(fā)明提供一種能夠適當?shù)卣{(diào)整掩模圖案的位置的諸如掩模調(diào)整單元等技術(shù)。這種掩模調(diào)整單元設(shè)置有基體、可動部件和調(diào)整機構(gòu)?？蓜硬考尉哂型饩壊康难谀Ｖ黧w的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在基體上。調(diào)整機構(gòu)將從掩模主體的外緣部拉向掩模主體的外側(cè)的張力和從外緣部壓向掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由可動部件施加到由可動部件支撐的掩模主體上。
【專利說明】掩模調(diào)整單元、掩模裝置以及掩模的制造裝置和制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本技術(shù)涉及一種調(diào)整施加到沉積等用的掩模上的應力的掩模調(diào)整單元、其上安裝有掩模調(diào)整單元的掩模裝置以及掩模裝置的制造裝置和制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]過去，例如，在使用有機EL(電致發(fā)光)器件制造顯示裝置的過程中，通過使用沉積用掩模的真空沉積在基板的紅、綠和藍(RGB)各像素上形成材料膜的圖案。
[0003]按以下方式制造這種沉積用掩模。首先，通過電鑄法和光刻法等制備其中設(shè)置有許多微細開口圖案的掩模箔。其次，在向該掩模施加張力的狀態(tài)下，通過焊接等將掩模固定到支撐框架上。如果如上所述固定掩模，那么在固定后很難調(diào)整掩模的張力。
[0004]通常，掩模取決于開口圖案的形成密度的粗密度或者在電鑄或軋制過程中引起的膜厚的不均勻分布而具有不同的應力分布。此外，因為存在掩模的支撐框架本身的變形量的個體差異，所以提前通過變形分析等預見變形非常難。鑒于以上所述，在專利文獻I中提出了一種在將掩模固定到框架上之后修正開口圖案的位置的方法。
[0005]專利文獻I中記載的沉積用掩模包括由掩模框架保持的掩模主體、與掩模主體的至少一側(cè)連接的導引構(gòu)件和用于經(jīng)由導引構(gòu)件向掩模主體施加預定張力的張力施加部件。張力施加部件包括在導引構(gòu)件的側(cè)壁上形成的螺絲孔和可以插入螺絲孔并且其前端部與掩?？蚣艿膫?cè)面接觸的螺絲。操作員可以通過擰緊或放松螺絲向掩模主體施加張力(例如，參照專利文獻I的說明書第
[0031]~
[0035]段和圖4)。
[0006]引用文獻列表
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本專利申請?zhí)亻_N0.2004-6257
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009]發(fā)明要解決的問題
[0010]然而,專利文獻I中記載的張力施加部件的結(jié)構(gòu)是其中張力隨著擰緊度增大而增大的結(jié)構(gòu)。具體地，因為它僅是其中向掩模主體施加張力的結(jié)構(gòu)，所以難以適當?shù)卣{(diào)整在掩模上形成的掩模圖案的位置。
[0011]本發(fā)明的目的是提供一種能夠適當?shù)卣{(diào)整掩模圖案的位置的諸如掩模調(diào)整單元等的技術(shù)。
[0012]解決問題的手段
[0013]為了實現(xiàn)上述目的，根據(jù)本技術(shù)的掩模調(diào)整單元包括基體、可動部件和調(diào)整機構(gòu)。
[0014]所述可動部件支撐具有外緣部的掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上。
[0015]所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐。
[0016]因為調(diào)整機構(gòu)可以同時向掩模主體施加張力和壓力，所以可以適當?shù)匚⒓氄{(diào)整設(shè)置在掩模主體上的掩模圖案的位置。
[0017]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括作用在所述可動部件上的至少一個螺栓。螺栓可以直接地或間接地作用在可動部件上。
[0018]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括向所述掩模主體施加所述張力的第一螺栓，和向所述掩模主體施加所述壓力的第二螺栓。
[0019]所述調(diào)整機構(gòu)可以具有支撐第一螺栓和第二螺栓的支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述基體上。另外，所述可動部件可以具有將第一螺栓插入其中的螺絲孔和與第二螺栓的端部接觸的接觸區(qū)域。
[0020]通過第一和第二螺栓這兩個螺栓，可以產(chǎn)生張力和壓力。
[0021]所述調(diào)整機構(gòu)還可以包括與第一螺栓和第二螺栓中的至少一個連接的轉(zhuǎn)換部件。所述轉(zhuǎn)換部件將所述至少一個螺栓在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0022]如上所述，轉(zhuǎn)換部件可以將在螺栓的移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在不同于該方向的方向上的動力，并且移動可動部件。
[0023]所述調(diào)整機構(gòu)還可以包括固定體和傳遞部件。所述固定體設(shè)置在所述基體上。所述傳遞部件可以通過所述固定體和所述可動部件之間的第一螺栓和第二螺栓中的任一個與所述基體連接、將第一螺栓和第二螺栓中的任一個在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0024]所述傳遞部件可以是通過彈性變形作用在所述可動部件上的彈性體。因為利用彈性體的彈性變形，所以可以高精度地微細調(diào)整掩模圖案的位置。
[0025]所述可動部件可以具有錐形面。所述固定體可以具有面向所述可動部件的錐形面的錐形面并可以設(shè)置在所述基體上，使得所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間的間隔朝著其上形成有掩模圖案的圖案面的垂直方向改變，所述掩模主體具有所述圖案面。所述傳遞部件可以是在所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間配置的阻擋部件，使得所述阻擋部件與所述錐形面接觸。
[0026]所述調(diào)整機構(gòu)還可以具有設(shè)置在所述基體上并支撐所述螺栓的支撐部，和調(diào)節(jié)所述螺栓沿著所述螺栓的插入和取出方向相對于所述支撐部的移動的調(diào)節(jié)部。因此，調(diào)整機構(gòu)可以通過調(diào)整用的一個螺栓同時產(chǎn)生張力和壓力。
[0027]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括向所述掩模主體施加所述張力的第一凸輪部件，和向所述掩模主體施加所述壓力的第二凸輪部件。因此，調(diào)整機構(gòu)可以不用調(diào)整用的螺栓同時產(chǎn)生張力和壓力。
[0028]所述調(diào)整機構(gòu)可以包括能夠向所述掩模主體施加所述張力和所述壓力的壓電元件。
[0029]所述掩模調(diào)整單元還可以包括調(diào)整框架和調(diào)整部件。
[0030]所述調(diào)整框架與所述基體連接，使得所述調(diào)整框架在與其上形成有掩模圖案的圖案面垂直的方向上面向所述基體并且在所述調(diào)整框架和所述基體之間形成間隙，所述掩模主體具有所述圖案面。
[0031]所述調(diào)整部件調(diào)整在所述垂直方向上的間隙的距離。因此，因為在調(diào)整框架和基體之間形成間隙并且由調(diào)整部件調(diào)整間隙的距離，所以可以修正掩模主體的偏斜或在與重力方向相反的方向上向上拉掩模主體。
[0032]根據(jù)本技術(shù)的掩模裝置包括掩模主體和上述的支撐所述掩模主體的掩模調(diào)整單
[0033]根據(jù)本技術(shù)的掩模制造裝置是通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造裝置。
[0034]所述掩模制造裝置包括檢測部、操作裝置和控制器。
[0035]所述檢測部在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息。
[0036]所述操作裝置驅(qū)動所述掩模裝置的調(diào)整機構(gòu)。
[0037]所述控制器從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息，并基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量。然后，所述控制器基于所算出的位移量控制所述操作裝置。
[0038]因此，可以自動地適當調(diào)整掩模主體的掩模圖案的位置。因此，可以提高由所述掩模裝置制造的裝置的生產(chǎn)性。
[0039]所述操作裝置可以包括電機和使所述電機的驅(qū)動減速的減速器。因此，可以高精度地微細調(diào)整掩模圖案的位置。
[0040]所述掩模制造裝置還可以包括使所述操作裝置能夠沿著所述掩模主體移動的引導機構(gòu)。因此，可以改變由操作裝置經(jīng)由調(diào)整機構(gòu)施加應力的位置。
[0041]根據(jù)本技術(shù)的掩模制造方法是通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造方法。
[0042]在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息。
[0043]從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息。
[0044]基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量。
[0045]基于所算出的位移量控制驅(qū)動所述掩模的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置。
[0046]發(fā)明效果
[0047]根據(jù)本技術(shù)，可以適當?shù)卣{(diào)整掩模圖案的位置。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0048]圖1是示出包括根據(jù)本技術(shù)第一實施方案的掩模調(diào)整單元的掩模的立體圖。
[0049]圖2是圖1中所示的掩模調(diào)整單元的平面圖。
[0050]圖3是示出掩模圖案的例子的放大圖。
[0051]圖4是沿著圖2中的線C-C的斷面的示意圖。
[0052]圖5是示出由圖2中的點劃線E包圍的部位(調(diào)整機構(gòu)的一部分)放大后的視圖。
[0053]圖6A是沿著圖5中的線A-A的斷面圖，圖6B是沿著圖5中的線B-B的斷面圖。
[0054]圖7是沿著圖2中的線D-D的斷面圖。
[0055]圖8是示出基架的偏斜的視圖。
[0056]圖9A~圖9C是示出位置保持機構(gòu)的例子的斷面圖。
[0057]圖10是示出位置保持機構(gòu)的例子的斷面圖。
[0058]圖11示出在由圖10中所示的調(diào)整機構(gòu)調(diào)整位置之后保持掩模主體的位置的位置保持機構(gòu)。
[0059]圖12是根據(jù)本技術(shù)第三實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0060]圖13A是根據(jù)本技術(shù)第四實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖13B是沿著圖13A中的線E-E的斷面圖。
[0061]圖14是示出根據(jù)本技術(shù)第五實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。
[0062]圖15A是沿著圖14中的線F-F的斷面圖。圖15B是沿著圖14中的線G-G的斷面圖。
[0063]圖16是根據(jù)本技術(shù)第六實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0064]圖17是根據(jù)本技術(shù)第七實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Y軸方向上看到的斷面圖。
[0065]圖18A是示出根據(jù)本技術(shù)第八實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖18B是沿著圖18A中的線H-H的斷面圖。
[0066]圖19A是示出根據(jù)本技術(shù)第九實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖19B是沿著圖19A中的線1-1的斷面圖。
[0067]圖20是示出掩模制造裝置的視圖。
[0068]圖21是示出一個操作裝置的立體圖。
[0069]圖22是示出在掩模制造裝置上設(shè)定掩模裝置的狀態(tài)的立體圖。
[0070]圖23是示出根據(jù)另一個例子的掩模制造裝置的立體圖。
【具體實施方式】
[0071]下面，將參照【專利附圖】
【附圖說明】根據(jù)本技術(shù)的實施方案。
[0072][第一實施方案]
[0073](掩模調(diào)整單元和掩模裝置)
[0074]圖1是示出包括根據(jù)本技術(shù)第一實施方案的掩模調(diào)整單元的掩模裝置的立體圖。圖2是其平面圖。
[0075]掩模裝置100包括形成為掩模箔的掩模主體55和支撐掩模主體55的掩模調(diào)整單元50。掩模裝置100通?？梢栽谑褂糜袡CEL器件制造顯示裝置的過程中用作沉積用掩模。
[0076]掩模主體55主要包括諸如鎳(Ni)、殷鋼(Fe/Ni合金)和銅(Cu)等金屬材料。掩模主體55的厚度通常為約10~50 μ m。掩模主體55具有其上形成有掩模圖案的圖案面551。例如，在掩模主體55上，以可以形成三個顯示面的方式形成三個圖案區(qū)域552。例如，在各個圖案區(qū)域552內(nèi)，形成相同的掩模圖案。
[0077]例如，掩模圖案是以矩陣圖案或鋸齒形圖案配置的多個通過孔(通孔)，并且一個通過孔是用于形成顯示裝置中的一個像素區(qū)域的要素。例如，通過孔具有狹縫、槽或圓形形狀。經(jīng)由通過孔，低分子有機EL材料沉積在未示出的基板上。在RGB三種顏色的情況下，取決于顏色的數(shù)量使用三個掩模裝置。掩模主體55的通過孔的例子包括圖3中所示的通過孔(黑色部分)。
[0078]在向掩模主體55施加某種程度的張力的狀態(tài)下，掩模主體55通過點焊(例如，通過電阻或激光)固定到掩模調(diào)整單元50上并被支撐。
[0079]掩模調(diào)整單元50包括具有開口 1a的矩形基架(基體)10。另外，掩模調(diào)整單元50包括對應于基架10的四邊設(shè)置的四個可動部件20。各可動部件20具有沿著X和Y軸的長形形狀。
[0080]由四個可動部件20形成的矩形部的外形的尺寸與掩模主體55的外形的尺寸幾乎相同或稍大于掩模主體55的外形的尺寸。在可動部件20的上表面上，通過焊接固定掩模主體55的外緣部553。以當在Z軸方向上觀看時在基架10的開口 1a中收容掩模主體55的三個圖案區(qū)域552的方式使掩模主體55固定到可動部件20上。Z軸方向是與掩模主體55的其上形成有掩模圖案的圖案面551垂直的方向。
[0081 ] 各可動部件20具有幾乎相同的結(jié)構(gòu)。例如，在一個可動部件20的兩個端部的上表面上形成螺絲孔，并且通過未示出的螺絲使可動部件20與基架10連接。因此，如將在后面描述的，除了可動部件20的端部之外的區(qū)域可沿著X軸方向(或Y軸方向)移動而變形。
[0082]掩模調(diào)整單元50包括經(jīng)由上述的可動部件20向掩模主體55施加應力的調(diào)整機構(gòu)40。調(diào)整機構(gòu)40包括向掩模主體55施加張力(拉力)的拉螺栓(第一螺栓)41和向掩模主體55施加壓力的壓螺栓(第二螺栓)42。另外，調(diào)整機構(gòu)40包括支撐拉螺栓41和壓螺栓42的支撐部件(支撐部)30。
[0083]例如，四個支撐部件30對應于基架10的四邊設(shè)置，并且每個都具有長形形狀。這些支撐部件30具有幾乎相同的結(jié)構(gòu)。這些支撐部件30在基架10上配置在可動部件20的外側(cè)。支撐部件30沿著其縱向方向具有許多螺絲孔30a，并且通過未示出的螺絲使各支撐部件30固定到基架10上。
[0084]應當指出的是，支撐部件30可以通過與基架10的材料一體成形來形成。
[0085]拉螺栓41和壓螺栓42彼此相鄰地配置。拉螺栓41和壓螺栓42作為一組螺栓，多組螺栓以預定的間距在X和Y軸方向上配置。拉螺栓41和壓螺栓42之間的距離可以適當?shù)卦O(shè)定。另外，各組螺栓(41和42)的間距可以類似地適當設(shè)定。
[0086]在掩模調(diào)整單元50中，通常，基架10、支撐部件30和可動部件20等的材料包括具有作為處理對象的基板(其上沉積有機材料的基板)的材料的熱膨脹系數(shù)的材料。其目的在于，隨著沉積處理過程中的溫度變化使掩模裝置100和基板彼此同步地膨脹/收縮并且使由于膨脹和收縮而引起的尺寸的變化量相等。另外，有利的是，基架10具有足夠的厚度和高剛性以使變形量盡可能少，并且考慮到運輸或處理使基架10的重量減小到現(xiàn)實的重量。
[0087]另外，至少通過使用較軟材料(即，具有低的楊氏模量的材料)作為可動部件20的材料，可以高精度地進行微細調(diào)整。例如，通過在可動部件20中產(chǎn)生切口，可以進一步擴大可動范圍。
[0088]圖4是沿著圖2中的線C-C的斷面的示意圖。固定螺栓21與可動部件20的兩個端部和基架10連接。通過利用這些固定螺栓21，可動部件20的端部固定到基架10上。除了可動部件20的端部之外的區(qū)域可通過相對于基架10的變形在水平方向(X或Y軸方向)上移動。
[0089]圖5是示出由圖2中的點劃線E包圍的部位(調(diào)整機構(gòu)40的一部分)放大后的視圖。圖6A是沿著圖5中的線A-A的斷面圖，圖6B是沿著圖5中的線B-B的斷面圖。
[0090]如圖6A和圖6B所示，掩模主體55通過焊接(由焊接點L示出)與可動部件20接合。作為拉螺栓41和壓螺栓42，使用基本上相同的螺栓。例如，使用尺寸為M2 (2mm的直徑)~M5(5mm的直徑)的螺栓。然而，不限于此。
[0091]其中配置有多組螺栓(41和42)的在X軸方向(和Y軸方向)上的范圍可以適當?shù)卦O(shè)定。
[0092]如圖6A所示，支撐部件30和可動部件20之間的距離t考慮到由調(diào)整機構(gòu)40調(diào)整的范圍可以適當?shù)卦O(shè)定。例如，在具有約600mm的邊長的掩模的情況下，可以使它們之間的距離t為約100 μ m。距離t僅需要是比用于調(diào)整形成為掩模圖案的通過孔的位置的距離足夠長的距離。
[0093]如圖6A所示，拉螺栓41包括頭部41a。在可動部件20上設(shè)置沿著X軸方向的螺絲孔，并且在支撐部件30上設(shè)置在X軸方向上的通孔32。在通孔32中沒有設(shè)置螺紋。拉螺栓41由通孔32支撐并插入可動部件20的螺絲孔22。通過在拉螺栓41的頭部41a與支撐部件30接觸的狀態(tài)下將拉螺栓41擰緊，拉螺栓41的動力作用在可動部件20上并且可動部件20在朝向支撐部件30的方向上移動。
[0094]因此，在掩模主體55上產(chǎn)生從外緣部553拉向掩模主體55的外側(cè)的張力。因此，使在掩模主體55上形成的通過孔的位置調(diào)整為朝向掩模主體55的外側(cè)移動。
[0095]如圖6B所示，壓螺栓42包括頭部42a。在支撐部件30上設(shè)置沿著X軸方向的螺絲孔33，并且壓螺栓42插入螺絲孔33并由支撐部件30支撐。然后，壓螺栓42的前端部(端部)42b與可動部件20的側(cè)面24接觸。具體地，可動部件20具有壓螺栓42的前端部42b的接觸區(qū)域24a。
[0096]通過在使壓螺栓42的前端部與可動部件20的側(cè)面24接觸的狀態(tài)下擰緊壓螺栓42，壓螺栓42的動力作用在可動部件20上并且可動部件20在遠離支撐部件30的方向上移動。因此，在掩模主體55上產(chǎn)生從外緣部553壓向掩模主體55的內(nèi)側(cè)(中心)的壓力。結(jié)果，使在掩模主體55上形成的通過孔的位置調(diào)整為朝向掩模主體55的內(nèi)側(cè)移動。
[0097]應當指出的是，在圖6A和圖6B中，代替拉螺栓41的頭部41a和壓螺栓42的頭部42a，可以使螺母旋擰到螺栓(的螺絲部)上。在這種情況下，螺母的旋轉(zhuǎn)動力經(jīng)由螺栓傳遞到可動部件20上。
[0098]如上所述，由于調(diào)整機構(gòu)40可以向掩模主體55施加張力和壓力，所以可以適當?shù)匚⒓氄{(diào)整設(shè)置在掩模主體55上的掩模圖案的位置。
[0099]圖7是沿著圖2中的線D-D的斷面圖。掩模調(diào)整單元50包括調(diào)整基架10在Z軸方向上的位置的Z調(diào)整機構(gòu)45。Z調(diào)整機構(gòu)45包括沿著X軸的兩個支撐部件301和由這些支撐部件301支撐的多個Z調(diào)整螺栓31。在這種情況下，支撐部件301起到調(diào)整框架的作用，并且Z調(diào)整螺栓31起到調(diào)整部件的作用。作為Z調(diào)整螺栓31，使用尺寸為M2~M5的螺栓。然而，不限于此。
[0100]例如，在支撐部件301上設(shè)置在Z軸方向上通過支撐部件301的通孔301a。在基架10的對應通孔301a的位置設(shè)置螺絲孔10b。經(jīng)由支撐部件301的通孔301a，使Z調(diào)整螺栓31插入螺絲孔1b中。另外，固定螺栓311與支撐部件301的兩個端部連接。固定螺栓311具有使支撐部件301 (的兩個端部)和基架10彼此固定的功能。
[0101]在支撐部件301和基架10之間，形成間隙G。具體地，在支撐部件301的下部，設(shè)置以使間隙G的尺寸從端部朝向中心增大的方式形成的錐形面301b。然而，不限于錐形面，并且包括曲面(例如，圓弧形)和/或平面的凹面僅需要在支撐部件301的下部形成。
[0102]在基架10的具有幾乎正方形的開口 1a的邊長為900mm的情況下，由錐形面形成的間隙G的最高值hi為約2mm或大于2mm(取決于基架10的形狀和材料而變化)。這是因為考慮到基架10將偏斜約2mm。最高值hi可以大于2mm,因為支撐部件301本身可能偏斜。間隙G的最高值hi還考慮到高度h2可以通過結(jié)構(gòu)分析等適當?shù)卦O(shè)定。
[0103]在這種Z調(diào)整機構(gòu)45中，通過擰緊Z調(diào)整螺栓31使基架10在Z軸方向上提升。因此，可以用支撐部件301的高度作為基準，調(diào)整基架10在Z軸方向上的位置。特別地，可以修正基架10在Z軸方向上的偏斜。另外，通過設(shè)置間隙G，可以消除由于重力而引起的偏斜，因為間隙G在與重力方向相反的方向上提升基架10。因此，可以維持基架10和作為處理對象的基板的水平狀態(tài)。
[0104]另外，因為進行拉調(diào)整和壓調(diào)整的支撐部件30還起到Z軸調(diào)整用的框架的作用，所以可以減小掩模調(diào)整單元50的尺寸。
[0105]如上所述，根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，因為調(diào)整機構(gòu)40可以向掩模主體55施加張力和壓力，所以可以適當?shù)匚⒓氄{(diào)整設(shè)置在掩模主體55上的掩模圖案的位置。
[0106]通常，有機EL顯示裝置的開口率和精密度彼此之間具有權(quán)衡關(guān)系。通過使用根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，提高了沉積用掩模的開口(通過孔)的位置精度，并可以實現(xiàn)相對于權(quán)衡界線具有高開口率和高精密度的顯示裝置。開口率得以增大，即，可以實現(xiàn)具有高亮度和更長使用壽命的有機El顯示裝置。
[0107]另外，因為根據(jù)本實施方案的掩模裝置100產(chǎn)生張力和壓力，所以可以通過利用兩個應力之間的平衡維持調(diào)整后的掩模主體55的位置(應力狀態(tài))。因此，不需要用于維持調(diào)整后的掩模主體55的位置的單獨機構(gòu)。
[0108]在本實施方案中，通過在相同的擰緊方向擰緊拉螺栓41和壓螺栓42，可以產(chǎn)生張力和與張力相反的壓力。因此，在操作員手動進行調(diào)整的情況下，可以容易進行操作。
[0109]另外，在本實施方案中，Z調(diào)整機構(gòu)45可以防止基架10在Z軸方向上偏斜。
[0110]根據(jù)本實施方案，可以修正在制造掩模的過程中在電鑄時產(chǎn)生的內(nèi)部殘余應變或者取決于光刻的各處理的位置精度下降的精度下降。
[0111]另外，在過去制造掩模的過程中，掩模圖案的位置精度超出規(guī)格。本技術(shù)可以克服這個問題，并且在制造中有助于提高產(chǎn)量。
[0112]此外，如將在后面描述的，即使在掩模裝置100用于沉積處理之后通過洗滌處理等使掩模圖案的位置位移，也可以根據(jù)本公開修正該位移。因此，可以有助于延長掩模裝置的壽命。
[0113]根據(jù)本實施方案的掩模裝置100在未示出的沉積裝置中用作沉積用掩模。例如，某些沉積裝置包括利用滾筒輸送方式的輸送機，并且未示出的多個沉積源沿著作為其輸送方向的Y軸方向配置。在根據(jù)本技術(shù)的掩模裝置100上安裝作為沉積處理對象的未示出的基板，并且在掩模裝置100的沿著Y軸方向的兩邊由輸送機支撐的的同時向基板施加沉積處理。
[0114]在根據(jù)本實施方案的掩模裝置100用作這種沉積裝置的情況下，如果沒有采取相應措施，那么在掩模裝置100的尺寸增大的近年來，如圖8所示，基架10偏斜。這是因為沉積裝置的輸送機如上所述僅支撐基架10的沿著Y軸方向的兩邊。
[0115]如上所述，在基架10具有預定的大尺寸的情況下，最大偏斜量為約2mm。通過根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，如上所述，Z調(diào)整機構(gòu)45可以真正地抑制基架10的偏斜。
[0116]專利文獻I中記載的沉積用掩模不能抑制這種在Z軸方向上的偏斜。另外，如上所述，專利文獻I的技術(shù)僅從掩模主體55到外側(cè)向掩模主體55施加張力，難以微細調(diào)整圖案。
[0117]日本專利申請?zhí)亻_N0.2006-310183提出了一種通過使用向其施加張力的金屬帶來修正重力方向上的偏斜的方法。在這種情況下，可以使框架跟隨金屬帶。然而，難以在重力方向上進行μ m級的微細調(diào)整，或者不象本技術(shù)那樣，難以使框架在與重力方向相反的方向上變形。另外，因為在某些情況下由于在加工過程中產(chǎn)生的翹曲或殘余應力的影響在框架中產(chǎn)生局部翹曲 ，所以可以抑制偏斜。
[0118]另外，作為修正框架中的翹曲的裝置，公開了日本專利申請?zhí)亻_N0.2007-257839中記載的張力施加裝置。在這種裝置中，因為連接金屬帶的位置限于框架背面(與掩模面相反的面)，所以在實際沉積時難以再現(xiàn)支撐狀態(tài)，并且難以調(diào)整到適于實際沉積時的狀態(tài)的框架翹曲狀態(tài)。
[0119]通過根據(jù)本實施方案的掩模裝置100，可以解決上述的問題。
[0120](在位置調(diào)整之后保持位置的位置保持機構(gòu))
[0121]在以上的說明中，不需要在通過由于張力和壓力而引起的應力的平衡來調(diào)整掩模圖案的位置之后保持掩模主體55的位置的機構(gòu)。然而，如將在下面說明的，掩模調(diào)整單元可以包括在調(diào)整掩模圖案的位置之后保持掩模主體55的位置的保持機構(gòu)。圖9A~圖9C和圖10是不出位置保持機構(gòu)的例子的斷面圖。
[0122]在圖9A所示的例子中，例如，在壓螺栓42上擰緊螺母43。在未示出的拉螺栓41上，也類似地擰緊螺母。
[0123]在圖9B所示的例子中，從支撐部件30的上面?zhèn)扔面i緊螺絲35固定壓螺栓42。雖然未示出，但是類似地用鎖緊螺絲固定拉螺栓41。
[0124]在圖9C所示的例子中，固定螺栓25從可動部件20的上面?zhèn)炔迦氩迦肟?0b中，并與基架的螺絲孔1c連接。因此，基架10和可動部件20彼此固定。插入孔20b的尺寸為即使可動部件20在圖中水平方向上移動以調(diào)整掩模圖案位置也使螺絲孔1c不被可動部件20覆蓋的尺寸。
[0125]通過設(shè)置這種位置保持機構(gòu)，可以可靠地在調(diào)整掩模圖案的位置之后保持掩模主體55的位置。
[0126]應當指出的是，當可動部件20移動時，為了防止可動部件20與基架10卡住可以在可動部件20的邊緣上進行R處理或階梯處理。當可動部件20移動時，至少在移動部件與基架10滑動接觸的部分上進行用于減小摩擦阻力的處理。因此，可以容易移動可動部件20。
[0127][第二實施方案]
[0128]圖10是示出根據(jù)本技術(shù)第二實施方案的掩模調(diào)整單元的一部分(即，調(diào)整機構(gòu))的斷面圖。在以下的說明中，簡化或省略了與根據(jù)圖6A和圖6B等中所示的實施方案的調(diào)整機構(gòu)40相似的部件和功能等，并且主要示出了不同點。
[0129]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在設(shè)置于基架10上的支撐部件80和可動部件70之間設(shè)置的壓電元件60。一個壓電元件60可以拉動和按壓可動部件70。因此，向掩模主體55施加張力和壓力，并且微細調(diào)整掩模圖案的位置。調(diào)整機構(gòu)僅需要包括多個壓電元件60，并且壓電元件60在X軸方向和Y軸方向上都設(shè)置多個。
[0130]例如，即使在如上所述使用壓電元件60的情況下，也可以實現(xiàn)與M2~M5螺栓相等的驅(qū)動力。因此，可以實現(xiàn)可動部件70所需的移動距離。
[0131]圖11示出了在由圖10中所示的調(diào)整機構(gòu)調(diào)整位置之后保持掩模主體55的位置的位置保持機構(gòu)。該保持機構(gòu)與圖9C中所示的位置保持機構(gòu)相同，從可動部件70的上面?zhèn)冗B接固定螺栓75，并固定可動部件70。如圖10所示，在切斷供給到壓電元件60的電力之后，壓電元件60回到初始狀態(tài)。因此，例如，如圖11所示，在切斷電力供給之前，需要用固定螺栓保持位置。
[0132][第三實施方案]
[0133]圖12是根據(jù)本技術(shù)第三實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0134]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在可動部件20和支撐部件30之間設(shè)置的凸輪部件47。凸輪部件47具有與壓螺栓46的螺絲部連接的連接部471和與可動部件20接觸并施加壓力的作用部472。作用部472具有橢圓板形狀或與其類似的形狀，但是可以具有除此以外的形狀。在連接部471上形成螺絲孔，并且壓螺栓46的螺絲部旋擰到螺絲孔中。壓螺栓46經(jīng)由在支撐部件30上設(shè)置的通孔32與凸輪部件47連接。
[0135]拉螺栓45、支撐部件30和可動部件20之間的機械關(guān)系與根據(jù)第一實施方案的拉螺栓45、支撐部件30和可動部件20之間的機械關(guān)系相同。
[0136]當擰緊壓螺栓46時，凸輪部件47以Z軸方向為旋轉(zhuǎn)軸繞著連接部471側(cè)在圖中順時針旋轉(zhuǎn)。即，以凸輪部件47的連接部471側(cè)接近壓螺栓46的頭部側(cè)并且作用部472側(cè)按壓可動部件20的方式旋轉(zhuǎn)。
[0137]如上所述，調(diào)整機構(gòu)包括當壓螺栓46操作時將壓螺栓46在沿著X軸方向的移動方向(第一移動方向)上的動力轉(zhuǎn)換成在不同于該方向的移動方向(第二移動方向)上的動力(即，此處旋轉(zhuǎn)方向上的動力)并將其傳遞到可動部件20的凸輪部件47。在這種情況下，凸輪部件47起到轉(zhuǎn)換部件的作用。
[0138]根據(jù)本實施方案，還可以通過在相同的擰緊方向上擰緊兩個螺栓來產(chǎn)生張力和與其相反的壓力。因此，在操作員手動進行調(diào)整的情況下，可以容易進行操作。另外，因為螺栓45和46的頭部處于按壓支撐部件30的狀態(tài)，所以通過設(shè)置例如彈簧墊圈，即使產(chǎn)生諸如振動和溫度變化等干擾，也可以抑制螺栓45和46的偏斜。
[0139]應當指出的是，轉(zhuǎn)換部件可以與拉螺栓45連接，并且轉(zhuǎn)換部件可以從掩模主體55的外緣部553向掩模主體55的外側(cè)方向拉動可動部件20。
[0140][第四實施方案]
[0141]圖13A是根據(jù)本技術(shù)第四實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖13B是沿著圖13A中的線E-E的斷面圖。
[0142]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在基架10上設(shè)置的支撐部件30和可動部件20之間配置的作為傳遞部件的彈性體49。支撐部件30起到固定到基架10上的固定體的作用。彈性體49是具有管形狀的部件。壓螺栓48在Z軸方向上與彈性體49和基架10連接，并且彈性體49和基架10彼此連接。
[0143]例如，彈性體49形成為在Y軸方向上長。彈性體49可以具有與掩模調(diào)整單元或掩模主體55的一個邊長相似的長度?？梢匝刂贿呉灶A定的間距設(shè)置多個彈性體49。
[0144]拉螺栓45通過在支撐部件30上設(shè)置的通孔32和在彈性體49上設(shè)置的橫通孔旋擰到可動部件20上。
[0145]通過擰緊螺栓48，螺栓48的頭部48a接近基架10。因此，使彈性體49被按壓和變形以在X軸方向上延伸。因此，向內(nèi)按壓可動部件20，并且應力從外緣部553向內(nèi)施加到掩模主體55上。
[0146]根據(jù)本實施方案，因為由于彈性變形引起的變形量相對于螺栓48在Z軸方向上的移動距離要小，所以可以高精度地微細調(diào)整掩模圖案的位置。
[0147]作為彈性體49，不僅可以使用具有管形狀的部件(即，中空部件)，而且可以使用實心部件。在圖13中，彈性體49在Y軸方向上看到的外形可以不是圓形形狀，而是橢圓形狀或多邊形。
[0148]在Y軸方向上看到的可動部件20的內(nèi)側(cè)(基于可動部件20，外側(cè)的支撐部件30的相反側(cè))，可以設(shè)置支撐部件。然后，在外側(cè)的支撐部件30和可動部件20之間配置第一彈性體49，并且在內(nèi)側(cè)的支撐部件和可動部件20之間配置未示出的第二彈性體。外側(cè)的第一彈性體49用螺栓48與基架10連接。第二彈性體用未示出的拉螺栓與基架10連接。根據(jù)調(diào)整機構(gòu)的這種構(gòu)造，可以利用第一彈性體49和第二彈性體產(chǎn)生張力和壓力。
[0149]可選擇地，在可動部件20的外側(cè)不設(shè)置支撐部件30，并且可以在可動部件20和在內(nèi)側(cè)設(shè)置的支撐部件之間設(shè)置彈性體。在這種情況下，彈性體在掩模主體55上產(chǎn)生張力，并且圖6B中所示的壓螺栓42產(chǎn)生壓向掩模主體55的壓力。
[0150][第五實施方案]
[0151]圖14是示出根據(jù)本技術(shù)第五實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖15A是沿著圖14中的線F-F的斷面圖。圖15B是沿著圖14中的線G-G的斷面圖。
[0152]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在基架10上設(shè)置的固定體130、面向固定體130的可動部件120、在固定體130和可動部件120之間設(shè)置的作為傳遞部件的阻擋部件90、壓螺栓62和拉螺栓61。
[0153]固定體130具有面向可動部件120的錐形面131?？蓜硬考?20還具有面向固定體130的錐形面131的錐形面121。以錐形面121和131之間的間隔朝向Z軸方向改變(即，此處朝向垂直方向的上側(cè)擴大)的方式形成可動部件120和固定體130。阻擋部件90配置在錐形面121和131之間以使阻擋部件90與錐形面121和131接觸。具體地，阻擋部件90的兩個側(cè)面也都是錐形面。
[0154]如圖15A所示，壓螺栓62經(jīng)由例如從阻擋部件90的上面?zhèn)仍O(shè)置在阻擋部件90上的縱通孔92與基架10連接。如圖15B所示，拉螺栓61經(jīng)由從固定體130的外側(cè)面的通孔132和設(shè)置在阻擋部件90上的縱通孔94與可動部件120連接。
[0155]縱通孔92和橫通孔94的內(nèi)徑形成為足夠大于壓螺栓62和拉螺栓61的螺絲部的直徑。考慮到其中通過螺栓61和62的擰緊作用使阻擋部件90在水平和垂直方向上移動的范圍設(shè)計內(nèi)徑。
[0156]例如，通過擰緊壓螺栓62，阻擋部件90沿著Z軸方向向下移動。因此，可動部件120與固定體130分開，并且向掩模主體55施加向內(nèi)的壓力。
[0157]可動部件120和固定體130的錐形面121和131可以不是平面,而是曲面。
[0158]應當指出的是，在圖15B中，通過使錐形面的圖示角度接近水平，可以減小用于向掩模主體55施加張力的擰緊拉螺栓61的力。
[0159]在本實施方案中，不必須設(shè)置壓螺栓62和拉螺栓61。在這種情況下，僅需要通過未示出的夾具垂直和水平地移動阻擋部件90。例如，如圖15B所示，為了使阻擋部件90在向上方向上移動，夾具需要經(jīng)由在基架10上設(shè)置的操作開口(未示出)按壓阻擋部件。
[0160][第六實施方案]
[0161]圖16是根據(jù)本技術(shù)第六實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Z軸方向上看到的斷面圖。
[0162]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括用于進行按壓和拉動的螺栓63和沿著螺栓63的安裝和取出方向(即，X軸方向)調(diào)節(jié)螺栓63相對于支撐部件30的移動的調(diào)節(jié)部件(調(diào)節(jié)部)110。調(diào)節(jié)部件110通過另一個螺栓111等固定到支撐部件30的側(cè)面30d上。
[0163]在頭部63a與支撐部件30的側(cè)面30d接觸的狀態(tài)下，使螺栓63經(jīng)由支撐部件30的通孔32旋擰到可動部件20上。調(diào)節(jié)部件110具有覆蓋螺栓63的頭部63a的空間110b，并且空間IlOb經(jīng)由操作孔IlOc與調(diào)節(jié)部件110的外部連通。使諸如扳手等操作部件64插入操作孔IlOc中，并且操作部件64可以與螺栓63的頭部63a連接。
[0164]經(jīng)由操作部件64擰緊螺栓63，可動部件20接近支撐部件30，從而在掩模主體上產(chǎn)生張力。經(jīng)由操作部件64放松螺栓63，使可動部件20與支撐部件30分開，并且使在掩模主體上的張力減弱。
[0165]如上所述，在本實施方案中，可以通過一個螺栓63進行按壓和拉動。
[0166][第七實施方案]
[0167]圖17是根據(jù)本技術(shù)第七實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)在Y軸方向上看到的斷面圖。
[0168]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括用于進行按壓和拉動的螺栓66和作為調(diào)節(jié)螺栓66相對于支撐部件30在X軸方向上的移動的調(diào)節(jié)部的墊圈67。使螺栓66插入支撐部件30的通孔32中。螺栓66的頭部66a與支撐部件30的外側(cè)面接觸，并且使墊圈67旋擰到螺栓66上，與支撐部件30的內(nèi)側(cè)面接觸，并固定。
[0169]另外，調(diào)整機構(gòu)包括固定在可動部件170的橫孔170a內(nèi)的兩個螺母68和69，并且使螺栓66旋擰到螺母68和69上。螺母68和69可以防止由于外力而引起的位移和反彈。
[0170][第八實施方案]
[0171]圖18A是示出根據(jù)本技術(shù)第八實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖18B是沿著圖18A中的線H-H的斷面圖。
[0172]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)包括在可動部件220的內(nèi)側(cè)和外側(cè)設(shè)置的凸輪部件19和29 (第一凸輪部件和第二凸輪部件)。凸輪部件19 (29)包括與可動部件220的兩側(cè)面接觸的凸輪頭部191(291)和偏心地設(shè)置在凸輪頭部191(291)上的的偏心軸194(294)。偏心軸194(294)通過軸承192(292)與基架10可旋轉(zhuǎn)地連接。
[0173]按壓用的凸輪部件19配置在可動部件220的外側(cè)，拉動用的凸輪部件29配置在可動部件220的內(nèi)側(cè)。另外，按壓用的凸輪部件19和拉動用的凸輪部件29例如在Y軸方向交替配置。
[0174]在凸輪頭部191(291)的上表面上，設(shè)置操作用的手柄193(293)。經(jīng)由手柄193 (293)，凸輪部件19 (29)以偏心軸194(294)作為旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。因此，可以向固定到可動部件220上的掩模主體55施加張力和壓力。
[0175]上述的任意一個位置保持機構(gòu)(參照圖9A~圖9C)也可以適用于根據(jù)上述第三至第八實施方案的掩模調(diào)整單元。
[0176][第九實施方案]
[0177]圖19A是示出根據(jù)本技術(shù)第九實施方案的掩模調(diào)整單元的調(diào)整機構(gòu)的平面圖。圖19B是沿著圖19A中的線1-1的斷面圖。
[0178]根據(jù)本實施方案的調(diào)整機構(gòu)的可動部件270包括沿著Y軸方向的溝槽272。壓電元件161和162與由溝槽272形成的壁部274的內(nèi)側(cè)面和外側(cè)面連接。
[0179]按壓壁部274的外側(cè)面的壓電元件162向掩模主體55施加向內(nèi)的壓力。按壓壁部274的內(nèi)側(cè)面的壓電兀件161向掩模主體55施加向外的張力。
[0180]在本實施方案中，設(shè)置保持各壓電元件161和162的保持架163。例如，保持架163與可在X軸方向上移動的平臺166連接。使用步進電機等作為驅(qū)動源，通過驅(qū)動機構(gòu)167驅(qū)動平臺166。通過驅(qū)動平臺166，可以經(jīng)由保持架163和可動部件270粗調(diào)整掩模主體55的掩模圖案的位置。
[0181]不必須設(shè)置粗調(diào)整用的平臺166和驅(qū)動機構(gòu)167。
[0182]應當指出的是，在可動部件270和基架10上，作為用于保持調(diào)整后的掩模主體55的位置的機構(gòu)(位置保持機構(gòu))，形成與固定螺栓75連接的螺絲孔273。
[0183][掩模制造裝置的實施方案]
[0184]操作員可以使用根據(jù)各實施方案的掩模調(diào)整單元手動調(diào)整掩模圖案的位置，并且如將在后面描述的，掩模制造裝置可以自動地調(diào)整位置。
[0185][掩模制造裝置的例子I]
[0186]圖20是示出根據(jù)一個實施方案的掩模制造裝置的視圖。在本實施方案中，將說明其中調(diào)整(制造)根據(jù)第一實施方案的掩模裝置100的例子。
[0187]掩模制造裝置400包括支撐基座401、在支撐基座401上設(shè)置的基架支撐部404和設(shè)置在基架支撐部404的外側(cè)并操作調(diào)整機構(gòu)40的操作裝置450。另外，掩模制造裝置400包括驅(qū)動操作裝置450的電機驅(qū)動器405、在上部設(shè)置的相機420和控制器410。
[0188]多個操作裝置450沿著具有矩形形狀的支撐基座401的四邊的方向配置。另外，在支撐基座401上，設(shè)置使操作裝置450的位置改變的引導機構(gòu)403。引導機構(gòu)403包括導軌。導軌使操作裝置450的位置沿著各邊改變，并且操作裝置450可以用螺栓等固定在預定的位置。
[0189]圖21是示出一個操作裝置450的立體圖。操作裝置450包括設(shè)置有減速器(例如，減速齒輪)的電機451和與電機451的輸出軸連接的扳手適配器452。例如，如圖22所示，扳手適配器452的端部可以與調(diào)整機構(gòu)40的拉螺栓41和壓螺栓42連接。例如，在扳手適配器452的端部上設(shè)置未示出的凹部，并且拉螺栓41和壓螺栓42的頭部41a和42a (參照圖6A和圖6B)嵌合到扳手適配器452的端部的凹部中。因此，操作裝置450與調(diào)整機構(gòu)40連接(參照圖1)。
[0190]作為電機451，使用例如步進電機或伺服電機。減速齒輪大多安裝在常用的步進電機上。
[0191]例如，減速器的減速比設(shè)定為約1/60~1/40，通常為1/50。在M3螺栓用于減速比為1/50的操作裝置450的情況下，可以實現(xiàn)1ym/轉(zhuǎn)的驅(qū)動量。因此，可以容易進行ym級的位置調(diào)整。
[0192]應當指出的是，電機451還設(shè)置有手柄453。操作員可以手動旋轉(zhuǎn)手柄453，因而，操作裝置450驅(qū)動調(diào)整機構(gòu)40。
[0193]相機420通過對在由支撐基座401支撐的掩模裝置100 (參照圖22)中的特別是掩模主體55的圖案面551進行拍攝來檢測掩模圖案的位置信息(實際位置信息)。相機420可以在X或Y軸上移動。
[0194]例如， 控制器410至少儲存在提前儲存的掩模主體55的設(shè)計信息中作為掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息。另外，控制器410獲取由相機420檢測的掩模圖案的實際位置信息，并基于實際位置信息和上述的設(shè)計位置信息進行后述的預定的計算。
[0195]控制器410通常可以包括諸如CPU、RAM和ROM等計算機。掩模圖案的設(shè)計位置信息可以儲存在通過有線或無線與控制器410連接的其他儲存裝置中。
[0196]例如，可以僅在支撐基座401的一邊設(shè)置至少一個操作裝置450，并且可以在至少兩邊的各邊設(shè)置至少一個操作裝置450。操作裝置450的數(shù)量和配置可以取決于掩模圖案的形狀或者在圖案面551內(nèi)將要修正的位置適當?shù)卦O(shè)定。
[0197]下面將說明掩模制造裝置400的操作。
[0198]首先，例如，如圖22所示，操作員將圖1和圖2所示的掩模裝置100放置在基架支撐部404上，并通過未示出的固定裝置等將其固定。然后，操作員設(shè)定在引導機構(gòu)403上的各操作裝置450的位置，并使各操作裝置450定位。另外，操作員將操作裝置450的扳手適配器452連接到調(diào)整機構(gòu)40的拉螺栓41和壓螺栓42。
[0199]作為放置在掩模制造裝置400上的掩模裝置100，使用通過焊接與掩模調(diào)整單元50接合的掩模主體55。另外，可以使用實際上在由沉積裝置使用之后并且施加洗滌過程等之前的掩模裝置100。
[0200]控制器410通過用相機420對掩模主體55的圖案面551整體進行拍攝來獲取掩模圖案的實際位置信息。實際位置信息是對拍攝的掩模圖案的圖像信息通過圖像處理進行二進制化而獲得的信息。
[0201]控制器410從存儲器獲取掩模主體55的設(shè)計位置信息，并基于獲取的設(shè)計位置信息和獲得的由相機420檢測的實際位置信息計算實際位置信息相對于設(shè)計位置信息的位移量。例如，控制器410通過計算作為設(shè)計位置信息的通過孔的坐標信息和作為實際位置信息的實際的通過孔的坐標信息之間的差值來計算位移量。
[0202]控制器410向電機驅(qū)動器405傳遞修正算出的位移量的控制信號(即，用于使算出的位移量接近零的控制信號)。電機驅(qū)動器405基于控制信號驅(qū)動操作裝置450。因此，可以自動地使掩模圖案的位置接近設(shè)計上的位置。
[0203]控制器410可以使用查詢表將位移量和由電機驅(qū)動器405進行的驅(qū)動信號的值之間的相關(guān)性儲存在存儲器等中。查詢表可以儲存各掩模圖案和掩模主體55的各材料。
[0204]創(chuàng)建查詢表的方法的例子包括以下方法。通過操作裝置450產(chǎn)生轉(zhuǎn)矩，并且開始將轉(zhuǎn)矩傳遞到拉螺栓41和壓螺栓42?？蓜硬考?0 (例如，參照圖1)和掩模圖案的位置不移動，直到操作裝置450的旋轉(zhuǎn)的響聲(rattling)消除。在這種情況下，控制器410或操作裝置450僅需要具有檢測轉(zhuǎn)矩的功能。這是因為可以檢測利用轉(zhuǎn)矩值響聲消除的點，并可以將該點設(shè)定為在調(diào)整時的零點(基準點)。通過這種功能，可以實現(xiàn)位移量和將要輸出的驅(qū)動信號之間的相關(guān)性。
[0205]可選擇地，控制器410可以基于算出的位移量使用預定的算法計算將要輸出的控制信號的值。
[0206]在掩模裝置100包括上述的位置保持機構(gòu)(例如，參照圖9A~圖9C)的情況下，如上所述，在由掩模制造裝置400進行自動位置調(diào)整之后，操作員通過位置保持機構(gòu)保持調(diào)整后的掩模圖案的位置。
[0207]通過根據(jù)本實施方案的掩模制造裝置400，可以適當?shù)刈詣诱{(diào)整掩模主體55的掩模圖案的位置。因此 ，可以提高由掩模裝置100制造顯示裝置的生產(chǎn)性。
[0208](掩模制造裝置的例子2)
[0209]圖23是示出根據(jù)另一個例子的掩模制造裝置的立體圖。掩模制造裝置600和圖20所示的掩模制造裝置400之間的區(qū)別在于掩模制造裝置600包括Z操作裝置650。Z操作裝置650通過掩模裝置100的Z調(diào)整機構(gòu)45操作Z調(diào)整螺栓31 (參照圖7)。Z操作裝置650包括與上述的操作裝置450類似的機構(gòu)(具有減速器的電機451)。
[0210]設(shè)置多個Z操作裝置650。例如，多個Z操作裝置650通過上述的引導機構(gòu)403可滑動并可固定地與在支撐基座401上設(shè)置的沿著X軸方向的(例如，兩個)梁部連接。
[0211]另外，未示出的千分表與各梁部連接。千分表通過測量掩模裝置100的基架10的在X軸方向上的兩邊的高度位置來測量偏斜量。測量偏斜量的裝置不限于千分表，例如，可以使用光敏元件。
[0212]例如，控制器410可以通過提前儲存當基架10沿著X軸方向的邊處于水平狀態(tài)時千分表到基架10的邊的距離并比較儲存的信息與實際測量的距離來計算偏斜量。
[0213]應當指出的是，在支撐基座401和601上，沒有設(shè)置支撐基架10在X軸方向上的兩邊的部件。因此，當基架10支撐在支撐基座401和601上時，由掩模裝置100重量引起偏斜。即，如圖20所示，支撐基座401的基架支撐部404僅沿著Y軸方向設(shè)置。即，掩模制造裝置400和600都是在上述的沉積裝置中假定輸送機僅支撐基架10沿著Y軸方向的邊的裝置。
[0214]控制器410(參照圖20)獲取由千分表檢測的偏斜量。然后，控制器410向未示出的驅(qū)動Z操作裝置650的電機驅(qū)動器傳遞控制信號，從而修正偏斜量(使偏斜量接近零)。電機驅(qū)動器根據(jù)控制信號驅(qū)動Z操作裝置650，并擰緊Z調(diào)整螺栓31。
[0215]控制器410僅需要使用查詢表將偏斜量和將要輸出的控制信號的值之間的對應關(guān)系儲存在存儲器等中。查詢表可以儲存各掩模圖案和掩模主體55的各材料。
[0216]可選擇地，控制器410可以基于算出的偏斜量使用預定的算法計算將要輸出的控制信號的值。
[0217]通過掩模制造裝置600調(diào)整張力和壓力的方法與通過掩模制造裝置400的方法相同。
[0218]根據(jù)本實施方案的掩模制造裝置600，不僅可以自動地調(diào)整掩模主體55的掩模圖案的位置，而且可以調(diào)整掩模裝置100的基架10的偏斜。
[0219]作為掩模制造裝置400和600的另一個例子，在掩模調(diào)整單元50包括壓電元件60 (例如，參照圖10)的情況下，不需要操作裝置450并且設(shè)置與壓電元件60連接的配線。因此，可以實現(xiàn)掩模制造裝置400和600的小型化和簡單化。
[0220][其他實施方案]
[0221]本技術(shù)不限于上述的實施方案，并且可以實現(xiàn)其他各種實施方案。
[0222]根據(jù)本技術(shù)的掩模用于使用有機EL器件制造顯示裝置的過程中，并且描述了其中掩模用于沉積有機材料的過程中的例子。然而，根據(jù)本技術(shù)的掩模不僅可以應用到有機材料的沉積工藝，而且可以應用到金屬材料和介電材料等的沉積工藝?？蛇x擇地，掩模不僅可以用作沉積用掩模，而且可以用作曝光用掩模和印刷用掩模等。
[0223]另外，顯示裝置不限于有機EL器件，并且可以是液晶顯示裝置。作為通過掩模制造的對象的裝置不限于顯示裝置。
[0224]在第一實施方案中，一個拉螺栓41和一個壓螺栓42交替配置。然而，可以連續(xù)配置多個拉螺栓，或者可以連續(xù)配置多個壓螺栓42。
[0225]在第一實施方案中，四個可動部件20對應于具有矩形框架形狀的基架10的四邊設(shè)置。然而，至少一個可動部件20可以對應于至少一邊設(shè)置。例如，兩個可動部件20可以設(shè)置在兩個相對的邊上。這同樣適用于第二至第九實施方案。
[0226]在上述的實施方案中，如圖7所示，在起到調(diào)整框架作用的支撐部件301的下表面上設(shè)置錐形面301b。然而，支撐部件301的下表面可以是平面，并且可以在基架10的面向支撐部件301的表面(即，基架10的上表面)上形成這種凹面?？蛇x擇地，可以在支撐部件30和基架10上設(shè)置凹面。
[0227]例如，如圖1和圖2所示，沿著X軸方向在支撐部件301上設(shè)置拉螺栓41和壓螺栓42。然而，不必須在支撐部件301上設(shè)置拉螺栓41和壓螺栓42，并且可以僅設(shè)置用于調(diào)整Z軸的器具。
[0228]可選擇地，除了支撐部件301之外，還可以在基架10上單獨設(shè)置調(diào)整Z軸用的調(diào)整框架。另外，調(diào)整Z軸用的調(diào)整框架可以設(shè)置在基架10的所有四邊上。
[0229]在上述的實施方案中，螺栓(固定螺栓)用作位置保持機構(gòu)的主要元件。除了螺栓之外，還可以使用夾緊機構(gòu)、壓電元件或其他機構(gòu)。
[0230]在根據(jù)各實施方案的掩模制造裝置400的支撐基座401上設(shè)置的基架支撐部404的配置可以取決于使用掩模裝置100處理基板的處理裝置(例如上述的沉積裝置)的設(shè)計適當?shù)馗淖?。這也同樣適用于掩模制造裝置600。
[0231]上述的掩模制造裝置可以安裝在沉積裝置上或者與沉積裝置直線連接。因此，通過掩模制造裝置制造掩模裝置的處理和通過沉積裝置進行的沉積處理自動進行。因此，可以不用手動操作地進行這些處理。在這種情況下，制造掩模裝置的處理可以在真空下進行。
[0232]上述實施方案的至少兩個特征部分可以組合。
[0233]應當指出的是，本技術(shù)也可以采取以下構(gòu)成。
[0234](I).一種掩模調(diào)整單元，包括:
[0235]基體；
[0236]可動部件，所述可動部件支撐具有外緣部的掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和
[0237]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐。
[0238](2).根據(jù)⑴所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0239]所述調(diào)整機構(gòu)包括作用在所述可動部件上的至少一個螺栓。
[0240](3).根據(jù)⑵所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0241]所述調(diào)整機構(gòu)包括
[0242]向所述掩模主體施加所述張力的第一螺栓，和
[0243]向所述掩模主體施加所述壓力的第二螺栓。
[0244](4).根據(jù)(3)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0245]所述調(diào)整機構(gòu)具有支撐第一螺栓和第二螺栓的支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述基體上，以及
[0246]所述可動部件具有將第一螺栓插入其中的螺絲孔和與第二螺栓的端部接觸的接觸區(qū)域。
[0247](5).根據(jù)(3)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0248]所述調(diào)整機構(gòu)還包括與第一螺栓和第二螺栓中的至少一個連接、將所述至少一個螺栓在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的轉(zhuǎn)換部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0249](6).根據(jù)(3)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0250]所述調(diào)整機構(gòu)還包括
[0251]設(shè)置在所述基體上的固定體，和
[0252]通過所述固定體和所述可動部件之間的第一螺栓和第二螺栓中的任一個與所述基體連接、將第一螺栓和第二螺栓中的任一個在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的傳遞部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
[0253](7).根據(jù)(6)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0254]所述傳遞部件是通過彈性變形作用在所述可動部件上的彈性體。
[0255](8).根據(jù)(6)所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0256]所述可動部件具有錐形面，
[0257]所述固定體具有面向所述可動部件的錐形面的錐形面并設(shè)置在所述基體上，使得所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間的間隔朝著其上形成有掩模圖案的圖案面的垂直方向改變，所述掩模主體具有所述圖案面，以及
[0258]所述傳遞部件是在所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間配置的阻擋部件，使得所述阻擋部件與所述錐形面接觸。
[0259](9).根據(jù)⑵所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0260]所述調(diào)整機構(gòu)還具有
[0261]設(shè)置在所述基體上并支撐所述螺栓的支撐部，和
[0262]調(diào)節(jié)所述螺栓沿著所述螺栓的插入和取出方向相對于所述支撐部的移動的調(diào)節(jié)部。
[0263](10).根據(jù)⑴所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0264]所述調(diào)整機構(gòu)包括
[0265]向所述掩模主體施加所述張力的第一凸輪部件，和
[0266]向所述掩模主體施加所述壓力的第二凸輪部件。
[0267](11).根據(jù)⑴所述的掩模調(diào)整單元，其中
[0268]所述調(diào)整機構(gòu)包括能夠向所述掩模主體施加所述張力和所述壓力的壓電元件。
[0269](12).根據(jù)⑴~(11)中任一項所述的掩模調(diào)整單元，還包括:
[0270]調(diào)整框架，所述調(diào)整框架與所述基體連接，使得所述調(diào)整框架在與其上形成有掩模圖案的圖案面垂直的方向上面向所述基體并且在所述調(diào)整框架和所述基體之間形成間隙，所述掩模主體具有所述圖案面；和
[0271]在所述垂直方向上調(diào)整所述間隙的距離的調(diào)整部件。
[0272](13).—種掩模裝置，包括:
[0273]具有外緣部的掩模主體；
[0274]基體；
[0275]可動部件，所述可動部件支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和
[0276]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐。
[0277](14).一種用于通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造裝置，所述掩模制造裝置包括:
[0278]檢測部，所述檢測部在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括
[0279]所述掩模主體，
[0280]基體，
[0281]支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和
[0282]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐；
[0283]驅(qū)動所述掩模裝置的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置；和
[0284]控制器，所述控制器從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息，基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量，以及基于所算出的位移量控制所述操作裝置。
[0285](15).根據(jù)(14)所述的掩模制造裝置，其中
[0286]所述操作裝置包括
[0287]電機，和
[0288]使所述電機的驅(qū)動減速的減速器。
[0289](16).根據(jù)(14)或(15)所述的掩模制造裝置，還包括
[0290]使所述操作裝置能夠沿著所述掩模主體移動的引導機構(gòu)。
[0291](17).一種通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造方法，所述掩模制造方法包括:
[0292]在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括
[0293]所述掩模主體，
[0294]基體，
[0295]支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和
[0296]調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上,所述掩模主體由所述可動部件支撐；
[0297]從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息；
[0298]基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量；和
[0299]基于所算出的位移量控制驅(qū)動所述掩模的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置。
[0300]附圖標記說明
[0301]10基架
[0302]19，29凸輪部件
[0303]20，70，120，170，220，270 可動部件
[0304]21固定螺栓
[0305]24a接觸區(qū)域
[0306]30,80,301 支撐部件
[0307]40調(diào)整機構(gòu)
[0308]41，61拉螺栓
[0309]42，62壓螺栓
[0310]45Z調(diào)整機構(gòu)[0311 ] 46,48,63,66 螺檢
[0312]49彈性體
[0313]50掩模調(diào)整單元
[0314]55掩模主體
[0315]60，161，162壓電元件
[0316]90阻擋部件
[0317]100掩模裝置
[0318]110調(diào)節(jié)部件
[0319]121，131錐形面
[0320]130固定體
[0321]301支撐部件
[0322]400,600掩模制造裝置
[0323]403引導機構(gòu)
[0324]410控制器
[0325]420相機
[0326]450操作裝置
[0327]551圖案面
[0328]553外緣部
【權(quán)利要求】
1.一種掩模調(diào)整單元,包括: 基體； 可動部件，所述可動部件支撐具有外緣部的掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和 調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括作用在所述可動部件上的至少一個螺栓。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括 向所述掩模主體施加所述張力的第一螺栓，和 向所述掩模主體施加所述壓力的第二螺栓。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)具有支撐第一螺栓和第二螺栓的支撐部，所述支撐部設(shè)置在所述基體上，以及 所述可動部件具有將第一螺栓插入其中的螺絲孔和與第二螺栓的端部接觸的接觸區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)還包括與第一螺栓和第二螺栓中的至少一個連接、將所述至少一個螺栓在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的轉(zhuǎn)換部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)還包括 設(shè)置在所述基體上的固定體，和 通過所述固定體和所述可動部件之間的第一螺栓和第二螺栓中的任一個與所述基體連接、將第一螺栓和第二螺栓中的任一個在第一移動方向上的動力轉(zhuǎn)換成在第二移動方向上的動力并將所轉(zhuǎn)換的動力傳遞到所述可動部件的傳遞部件，第二移動方向不同于第一移動方向。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述傳遞部件是通過彈性變形作用在所述可動部件上的彈性體。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述可動部件具有錐形面， 所述固定體具有面向所述可動部件的錐形面的錐形面并設(shè)置在所述基體上，使得所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間的間隔朝著其上形成有掩模圖案的圖案面的垂直方向改變，所述掩模主體具有所述圖案面，以及 所述傳遞部件是在所述可動部件的錐形面和所述固定體的錐形面之間配置的阻擋部件，使得所述阻擋部件與所述錐形面接觸。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模調(diào)整單元，其中所述調(diào)整機構(gòu)還具有 設(shè)置在所述基體上并支撐所述螺栓的支撐部，和 調(diào)節(jié)所述螺栓沿著所述螺栓的插入和取出方向相對于所述支撐部的移動的調(diào)節(jié)部。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括 向所述掩模主體施加所述張力的第一凸輪部件，和 向所述掩模主體施加所述壓力的第二凸輪部件。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，其中 所述調(diào)整機構(gòu)包括能夠向所述掩模主體施加所述張力和所述壓力的壓電元件。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模調(diào)整單元，還包括: 調(diào)整框架，所述調(diào)整框架與所述基體連接，使得所述調(diào)整框架在與其上形成有掩模圖案的圖案面垂直的方向上面向所述基體并且在所述調(diào)整框架和所述基體之間形成間隙，所述掩模主體具有所述圖案面；和 在所述垂直方向上調(diào)整所述間隙的距離的調(diào)整部件。
13.—種掩模裝置,包括: 具有外緣部的掩模主體； 基體； 可動部件，所述可動部件支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上；和 調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐。
14.一種用于通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造裝置，所述掩模制造裝置包括: 檢測部，所述檢測部在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括所述掩模主體， 基體， 支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè) 的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐； 驅(qū)動所述掩模裝置的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置；和 控制器，所述控制器從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息，基于所獲取的設(shè)計位置信息和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量，以及基于所算出的位移量控制所述操作裝置。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩模制造裝置，其中 所述操作裝置包括 電機，和使所述電機的驅(qū)動減速的減速器。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的掩模制造裝置，還包括 使所述操作裝置能夠沿著所述掩模主體移動的引導機構(gòu)。
17.—種通過調(diào)整具有外緣部、圖案面和在所述圖案面上形成的掩模圖案的掩模主體的掩模圖案的位置來制造掩模裝置的掩模制造方法，所述掩模制造方法包括: 在所述掩模裝置的掩模主體由可動部件支撐的狀態(tài)下檢測作為所述圖案面內(nèi)的所述掩模圖案的位置信息的實際位置信息，所述掩模裝置包括所述掩模主體， 基體， 支撐所述掩模主體的外緣部側(cè)并可移動地設(shè)置在所述基體上的所述可動部件，和調(diào)整機構(gòu)，所述調(diào)整機構(gòu)將從所述掩模主體的外緣部拉向所述掩模主體的外側(cè)的張力和從所述外緣部壓向所述掩模主體的內(nèi)側(cè)的壓力經(jīng)由所述可動部件施加到所述掩模主體上，所述掩模主體由所述可動部件支撐； 從所述掩模主體的設(shè)計信息獲取作為所述掩模圖案的位置信息的設(shè)計位置信息；基于所獲取的設(shè)計位置信息 和所檢測的實際位置信息計算所述實際位置信息相對于所述設(shè)計位置信息的位移量；和 基于所算出的位移量控制驅(qū)動所述掩模的調(diào)整機構(gòu)的操作裝置。
【文檔編號】H01L51/50GK104169455SQ201380015636
【公開日】2014年11月26日 申請日期:2013年1月31日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月5日
【發(fā)明者】栗山健太朗, 久保智弘 申請人:索尼公司
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