用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置，包括垂直設(shè)置于承載支架上的支撐針，承載支架第一端部設(shè)置有一傳感器支架，傳感器支架上設(shè)置有第一傳感器，在第一傳感器下方承載支架上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第二傳感器，第一傳感器和第二傳感器位于垂直于承載支架的一直線上；承載支架第二端部高于支撐針的位置設(shè)置有第三傳感器，在承載支架的第一端部與第三傳感器同一水平線的位置上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第四傳感器。本實(shí)用新型在原有晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置上加裝一組水平方向的傳感器，當(dāng)晶圓偏斜/斜跨時(shí)，保護(hù)裝置可以感知到晶圓的位置不正常，從而阻止晶圓交接，防止撞片的現(xiàn)象發(fā)生。
【專利說(shuō)明】用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]晶圓制造設(shè)備主要由涂膠、曝光和現(xiàn)象等部分組成。本實(shí)用新型涉及的是晶圓成像部分的晶圓制造設(shè)備，屬于前段制造的瓶頸設(shè)備之一，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域起著重要的作用。晶圓成像部分制造設(shè)備的核心部分為晶圓的運(yùn)載裝置，晶圓運(yùn)載裝置能否實(shí)現(xiàn)晶圓的正常交接會(huì)對(duì)晶圓產(chǎn)量產(chǎn)生顯著的影響，在晶圓生產(chǎn)交接過(guò)程中一旦運(yùn)送發(fā)生偏斜/斜跨的情況會(huì)導(dǎo)致撞片的故障發(fā)生，會(huì)嚴(yán)重影響到產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量和效率，嚴(yán)重時(shí)還會(huì)引發(fā)產(chǎn)品的重制，甚至還會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)生廢片。
[0003]現(xiàn)有晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置在生產(chǎn)運(yùn)送晶圓過(guò)程中只能檢測(cè)到是否有晶圓位于運(yùn)載裝置，無(wú)法檢測(cè)是否發(fā)生晶圓偏斜/斜跨的情況，導(dǎo)致晶圓在生產(chǎn)過(guò)程中若晶圓偏斜/斜跨晶圓生產(chǎn)設(shè)備的無(wú)法停機(jī)造成設(shè)備故障或產(chǎn)生廢片。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種能探測(cè)到晶圓偏斜/斜跨用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置，包括垂直設(shè)置于運(yùn)載支架I上的支撐針2，運(yùn)載支架I第一端部3設(shè)置有一傳感器支架4，傳感器支架4上設(shè)置有第一傳感器5,在第一傳感器5下方運(yùn)載支架I上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第二傳感器6,第一傳感器5和第二傳感器6位于垂直于運(yùn)載支架I的一直線上；其中，運(yùn)載支架I第二端部7高于支撐針2的位置設(shè)置有第三傳感器8，在運(yùn)載支架I的第一端部3與第三傳感器8同一水平線的位置上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第四傳感器9。
[0006]其中，第三傳感器8底面與支撐針2頂端的高度差大于零小于等于其所生產(chǎn)晶圓的半徑，這樣設(shè)置能保證晶圓出現(xiàn)偏斜/斜跨時(shí)會(huì)對(duì)第三傳感器8和第四傳感器9之間的對(duì)射光線形成阻擋；
[0007]第一傳感器5和第二傳感器6之間形成豎直的對(duì)射光線(例如米用紅外光線對(duì)射)，能感應(yīng)到生產(chǎn)設(shè)備支撐針2上是否有晶圓；第三傳感器8和第四傳感器9形成水平的對(duì)射光線，當(dāng)生產(chǎn)設(shè)備支撐針2上的晶圓出現(xiàn)偏斜/斜跨的情況，偏斜/斜跨的晶圓會(huì)對(duì)第三傳感器8和第四傳感器9之間的對(duì)射光線形成阻擋，第三傳感器8和第四傳感器9就能探測(cè)偏斜/斜跨的情況的發(fā)生，發(fā)出報(bào)警或停機(jī)晶圓生產(chǎn)設(shè)備的機(jī)械手的運(yùn)作。
[0008]本實(shí)用新型在原有晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置上加裝一組水平方向的傳感器，當(dāng)晶圓發(fā)生偏斜/斜跨時(shí)，保護(hù)裝置可以感知到晶圓的位置不正常，從而阻止晶圓交接，防止撞片的現(xiàn)象發(fā)生?！緦＠綀D】

【附圖說(shuō)明】
[0009]下面結(jié)合附圖與【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明:
[0010]圖1是一種現(xiàn)有晶圓生產(chǎn)設(shè)備晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖3是本實(shí)用新型的使用狀態(tài)參考圖。
[0013]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0014]I運(yùn)載支架
[0015]2支撐針
[0016]3運(yùn)載支架第一端部
[0017]4傳感器支架
[0018]5第一傳感器
[0019]6第二傳感器
[0020]7運(yùn)載支架第二端部
[0021]8第三傳感器
[0022]9第四傳感器
[0023]a第三傳感器與支撐針的高度差
[0024]b是晶圓
【具體實(shí)施方式】
[0025]如圖2所示，本實(shí)用新型用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置一實(shí)施例，包括垂直設(shè)置于運(yùn)載支架I上的支撐針2，運(yùn)載支架I第一端部3設(shè)置有一傳感器支架4，傳感器支架4上設(shè)置有第一傳感器5,在第一傳感器5下方運(yùn)載支架I上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第二傳感器6，第一傳感器5和第二傳感器6位于垂直于運(yùn)載支架I的一直線上；其中，運(yùn)載支架I第二端部7高于支撐針2的位置設(shè)置有第三傳感器8，在運(yùn)載支架I的第一端部3與第三傳感器8同一水平線的位置上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第四傳感器9，第三傳感器8底面與支撐針2頂端的高度差a大于零小于等于其所生產(chǎn)晶圓的半徑。
[0026]如圖3所示，當(dāng)發(fā)生晶圓出現(xiàn)偏斜/斜跨的情況，偏斜/斜跨的晶圓b會(huì)對(duì)第三傳感器8和第四傳感器9之間的對(duì)射光線形成阻擋，觸發(fā)傳感器報(bào)警或停機(jī)晶圓生產(chǎn)設(shè)備的機(jī)械手的運(yùn)作。
[0027]以上通過(guò)【具體實(shí)施方式】和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，但這些并非構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。在不脫離本實(shí)用新型原理的情況下，本領(lǐng)域的技術(shù)人員還可做出許多變形和改進(jìn)，這些也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置，包括垂直設(shè)置于承載支架(I)上的支撐針(2 )，承載支架(I)第一端部(3 )設(shè)置有一傳感器支架(4 )，傳感器支架(4 )上設(shè)置有第一傳感器(5 ),在第一傳感器(5 )下方承載支架(I)上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第二傳感器(6 ),第一傳感器(5)和第二傳感器(6)位于垂直于承載支架(I)的一直線上；其特征是: 承載支架(I)第二端部(7 )高于支撐針(2 )的位置設(shè)置有第三傳感器(8 )，在承載支架Cl)的第一端部(3)與第三傳感器(8)同一水平線的位置上對(duì)應(yīng)設(shè)置有第四傳感器(9)。
2.如權(quán)利要求1所述用于晶圓生產(chǎn)設(shè)備的晶圓運(yùn)載保護(hù)裝置，其特征是:第三傳感器(8)底面與支撐針(2)頂端的高度差大于零小于等于其所生產(chǎn)晶圓的半徑。
【文檔編號(hào)】H01L21/683GK203553122SQ201320638970
【公開(kāi)日】2014年4月16日 申請(qǐng)日期:2013年10月16日 優(yōu)先權(quán)日:2013年10月16日
【發(fā)明者】陳巍, 陳群琦 申請(qǐng)人:上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司