專利名稱：一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，尤其涉及一種用于硅片單面刻蝕設(shè)備硅片 自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置。
背景技術(shù)：
在硅片進(jìn)行濕法刻蝕的期間，為了節(jié)約藥液和降低藥液排放的污染，目的在于硅 片在正常運(yùn)輸傳遞時(shí)，使硅片的X、Y方向有一個(gè)正交旋轉(zhuǎn)達(dá)到硅片的另兩邊緣刻蝕工藝需 求。即當(dāng)硅片經(jīng)過了第一個(gè)刻蝕藥液槽之后，將硅片進(jìn)行旋轉(zhuǎn)一定的角度，再讓其經(jīng)過第二 個(gè)刻蝕藥液槽將硅片另外兩邊緣進(jìn)行刻蝕，使之達(dá)到硅片邊緣刻蝕的工藝需求?，F(xiàn)有設(shè)備 中的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，機(jī)構(gòu)包括平行排布的轉(zhuǎn)軸體和固定在轉(zhuǎn)軸體上的摩擦滾輪，在設(shè)備驅(qū)動(dòng)機(jī) 構(gòu)的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)軸體帶動(dòng)摩擦滾輪轉(zhuǎn)動(dòng)，從而驅(qū)動(dòng)摩擦滾輪上部的硅片運(yùn)輸傳遞。在這種結(jié) 構(gòu)上實(shí)現(xiàn)硅片旋轉(zhuǎn)的方法通常是通過人工將硅片旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度，雖然節(jié)約藥液而且生產(chǎn)效 率也大大降低。
發(fā)明內(nèi)容為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，其能在運(yùn)輸 不停止的情況下通過升降、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將硅片進(jìn)行頂升、旋轉(zhuǎn)一定的角度，在節(jié)約藥液同時(shí)有 效提高硅片刻蝕生產(chǎn)效率。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工 作裝置，包括傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括平行排布的轉(zhuǎn)軸體和固定在轉(zhuǎn)軸體上的摩擦滾輪。所 述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)上方中部設(shè)有一水平位置的圓形托盤，下方設(shè)有豎直依次連接的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和升 降機(jī)構(gòu)；托盤與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)通過穿透兩轉(zhuǎn)軸體間隙的一柱狀支桿連接；所述摩擦滾輪設(shè)置在 轉(zhuǎn)軸體上圓形托盤外圍。最優(yōu)選的所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)上平面保持水平，支桿保持豎直且垂直連 接在托盤底部中心。最優(yōu)選的，所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的旋轉(zhuǎn)中軸與支桿中軸線重合，升降機(jī)構(gòu)的升降路徑均 與支桿中軸線平行。這樣可以保持機(jī)構(gòu)在支桿中軸線上升降或旋轉(zhuǎn)，使動(dòng)作時(shí)托盤不會(huì)與 轉(zhuǎn)軸體碰撞。最優(yōu)選的，所述托盤的豎直方向最大厚度值小于摩擦滾輪與轉(zhuǎn)軸體的半徑差值； 當(dāng)升降機(jī)構(gòu)處于最低位置狀態(tài)時(shí)，托盤上、下兩面正好處于摩擦滾輪上端面與轉(zhuǎn)軸體的上 端面之間。這樣可以保證升降機(jī)構(gòu)最低位置狀態(tài)時(shí)，托盤即不與旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸體碰撞，又不影 響摩擦滾輪帶動(dòng)硅片水平移動(dòng)。所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)可以采用內(nèi)置步進(jìn)電機(jī)、轉(zhuǎn)向電磁鐵或超聲波電機(jī)驅(qū)動(dòng)的結(jié)構(gòu)。所 述升降機(jī)構(gòu)可采用內(nèi)置汽缸傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，通過在設(shè)置位于轉(zhuǎn)軸體和摩擦滾 輪之間的托盤，同時(shí)托盤與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及升降機(jī)構(gòu)配合，使其能在運(yùn)輸不停止的情況下通過 升降、旋轉(zhuǎn)作用將硅片進(jìn)行頂升、旋轉(zhuǎn)一定的角度后再進(jìn)行運(yùn)輸傳遞，在有效節(jié)約藥液同時(shí)提高硅片刻蝕生產(chǎn)效率。以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說明

圖1為本實(shí)用新型主視方向硅片頂起狀態(tài)示圖；圖2為本實(shí)用新型主視方向硅片傳遞狀態(tài)示圖；圖3為本實(shí)用新型局部俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1、圖2及圖3所示一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置優(yōu)選實(shí)施例，包括傳動(dòng) 機(jī)構(gòu)3，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括平行排布的轉(zhuǎn)軸體3a和固定在轉(zhuǎn)軸體3a上的摩擦滾輪3b，其特征在 于所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3上方中部設(shè)有一水平位置的圓形托盤2，下方設(shè)有豎直依次連接的旋轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu)4和升降機(jī)構(gòu)5 ；托盤2與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4通過穿透兩轉(zhuǎn)軸體3a間隙的一柱狀支桿6連接； 所述摩擦滾輪3b設(shè)置在轉(zhuǎn)軸體3a上圓形托盤2外圍，以保證傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3在運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)摩擦滾 輪3b不會(huì)與托盤2碰撞。傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3上平面保持水平，支桿6保持豎直且垂直連接在托盤 2底部中心。所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4的旋轉(zhuǎn)中軸與支桿6中軸線重合，升降機(jī)構(gòu)5的升降路徑均與 支桿6中軸線平行。這樣可以保持機(jī)構(gòu)在支桿6中軸線上升降或旋轉(zhuǎn)，使動(dòng)作時(shí)托盤2側(cè) 面不會(huì)與轉(zhuǎn)軸體3a碰撞。所述托盤2的豎直方向最大厚度值小于摩擦滾輪3b與轉(zhuǎn)軸體3a 的半徑差值；當(dāng)升降機(jī)構(gòu)5處于最低位置狀態(tài)時(shí)，托盤2上、下兩面正好處于摩擦滾輪3b上 端面與轉(zhuǎn)軸體3a的上端面之間。這樣可以保證升降機(jī)構(gòu)5最低位置狀態(tài)時(shí)，托盤2即不與 旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸體3a碰撞，又不影響摩擦滾輪3b帶動(dòng)硅片水平移動(dòng)。旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4和升降機(jī)構(gòu) 5結(jié)構(gòu)可以參照現(xiàn)有其它領(lǐng)域的技術(shù)，例如旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4可以為內(nèi)置步進(jìn)電機(jī)、轉(zhuǎn)向電磁鐵或 超聲波電機(jī)的驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)。升降機(jī)構(gòu)5可以為內(nèi)置汽缸傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)。使用時(shí)，當(dāng)硅 片1通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3行程一定位置時(shí)，升降機(jī)構(gòu)4開始驅(qū)動(dòng)托盤2將硅片1頂起，使硅片1 脫離摩擦滾輪3b，然后旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)4開始將硅片1進(jìn)行一定角度的旋轉(zhuǎn)，之后升降機(jī)構(gòu)4下降 將硅片1平穩(wěn)的放到傳動(dòng)機(jī)構(gòu)3的摩擦滾輪3b上面進(jìn)行傳輸，將硅片1送入下一道刻蝕藥 液槽進(jìn)行另外兩邊的邊緣刻蝕。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)硅片經(jīng)過第一個(gè)刻蝕藥液槽后，在運(yùn)輸不停止的情況下通過升 降、旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)將硅片進(jìn)行頂升、旋轉(zhuǎn)一定的角度，經(jīng)過第二個(gè)刻蝕藥液槽將硅片另外兩邊緣 進(jìn)行刻蝕，使之達(dá)到硅片邊緣刻蝕的工藝需求。
權(quán)利要求一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，包括傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括平行排布的轉(zhuǎn)軸體(3a)和固定在轉(zhuǎn)軸體(3a)上的摩擦滾輪(3b)，其特征在于所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)(3)上方中部設(shè)有一水平位置的圓形托盤(2)，下方設(shè)有豎直依次連接的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)和升降機(jī)構(gòu)(5)；托盤(2)與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(4)通過穿透兩轉(zhuǎn)軸體(3a)間隙的一柱狀支桿(6)連接；所述摩擦滾輪(3b)設(shè)置在轉(zhuǎn)軸體(3a)上圓形托盤(2)外圍。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，其特征在于所述傳動(dòng)機(jī) 構(gòu)(3)上平面保持水平，支桿(6)保持豎直且垂直連接在托盤(2)底部中心。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)(4)的旋轉(zhuǎn)中軸與支桿(6)中軸線重合，升降機(jī)構(gòu)(5)的升降路徑均與支桿(6)中軸線 平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，其特征在于所述托盤 (2)的豎直方向最大厚度值小于摩擦滾輪(3b)與轉(zhuǎn)軸體(3a)的半徑差值；當(dāng)升降機(jī)構(gòu)(5) 處于最低位置狀態(tài)時(shí)，托盤(2)上、下兩面正好處于摩擦滾輪(3b)上端面與轉(zhuǎn)軸體(3a)的 上端面之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，其特征在于所述旋轉(zhuǎn)機(jī) 構(gòu)(4)為內(nèi)置步進(jìn)電機(jī)、轉(zhuǎn)向電磁鐵或超聲波電機(jī)的驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，其特征在于所述升降機(jī) 構(gòu)(5)為內(nèi)置汽缸的驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種硅片自動(dòng)升降、旋轉(zhuǎn)工作裝置，應(yīng)用于硅片單面刻蝕設(shè)備；包括傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括平行排布的轉(zhuǎn)軸體和固定在轉(zhuǎn)軸體上的摩擦滾輪，其通過在設(shè)置位于轉(zhuǎn)軸體和摩擦滾輪之間的托盤，同時(shí)托盤與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)及升降機(jī)構(gòu)配合，使其能在運(yùn)輸不停止的情況下通過升降、旋轉(zhuǎn)作用將硅片進(jìn)行頂升、旋轉(zhuǎn)一定的角度后再進(jìn)行運(yùn)輸傳遞，在有效節(jié)約藥液同時(shí)提高硅片刻蝕生產(chǎn)效率。
文檔編號(hào)H01L21/683GK201681805SQ201020195709
公開日2010年12月22日 申請(qǐng)日期2010年5月14日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月14日
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