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納米摻雜氧化錫溶膠的制備方法

文檔序號(hào):6929660閱讀:331來源:國知局
專利名稱:納米摻雜氧化錫溶膠的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種納米摻雜氧化錫溶膠的制備方法,屬半導(dǎo)體納米薄膜材料制備工藝技術(shù) 領(lǐng)域。
背景技術(shù)
氧化錫(Sn02)是一種寬帶隙n型半導(dǎo)體材料(純Sn02禁帶寬度為3.57ev),具有良好的 化學(xué)穩(wěn)定性、光學(xué)各向異性等優(yōu)點(diǎn)。由于Sn02納米材料具有粒度小、比表面積大等優(yōu)點(diǎn),因 而在氣敏材料、鋰離子電池材料、光電材料等領(lǐng)域成為人們研究的熱點(diǎn)。Sn02納米微粒的制 備方法包括沉淀法、溶膠-凝膠法、微乳液法、水解法、噴霧熱解法、水熱法等。溶膠-凝膠 法工藝過程溫度低,易于制備薄膜,易于均勻定量地?fù)饺胍恍┪⒘吭兀M(jìn)而實(shí)現(xiàn)分子水平 上地均勻摻雜,因此是用來制備涂層的良好方法。S. Das (Physical Chemistry, 2008, 112(16), 6213-6219)等通過水熱法合成不同形態(tài)的Sn02,李愛武(功能材料,2001, 32(6), 645-648)等用溶膠-凝膠法制備的低阻Sn02薄膜氣敏元件對(duì)H2S氣體有較好的氣敏特性,但 是他們都經(jīng)過了高溫?zé)Y(jié),不能用在不同基底(特別是柔性基底)上低溫構(gòu)建半導(dǎo)體薄膜。 J.H. Pan (J. Phys. Chem. 2007, 111, 5582-5587)等用蒸發(fā)誘導(dǎo)自組裝方法合成Sn02薄膜, 在可見光區(qū)的透過率大于99%,但方塊電阻比較大。
未摻雜的Sn02薄膜導(dǎo)電率低,當(dāng)摻入氟后,由于氟原子半徑(0.133 nm)和氧原子半徑 (0.132 nm)相差不大,氟原子以替位離子的形式占據(jù)氧離子位置,因此產(chǎn)生自由載流子,在 晶格中自由移動(dòng)。摻雜氟對(duì)Sn02晶格的影響很小,摻氟Sn(V薄膜根據(jù)它的載流子類型為n型半 導(dǎo)體。摻氟SrA納米材料廣泛用于玻璃電極、信息材料和敏感材料等方面,將其制成薄膜是 一種抗紅外、高透明的良好導(dǎo)電薄膜,是一種良好的透明電極和傳感器材料。摻氟Sn(V薄膜 的制備主要是以噴涂、高溫?zé)岱纸狻VD等方法為主,對(duì)于FTO薄膜來說,很少有用無機(jī)鹽溶 膠-凝膠法來制備,A.V. Moholkar (Materials Letter, 2007, 61, 3030-3036)等用噴霧熱 分解的方法合成氟摻雜Sn02導(dǎo)電薄膜,方塊電阻達(dá)到5. 1Q/口;但是使用了有毒的有機(jī)溶劑。 B. Russo (A卯l. Phys.2008, 90, 311 - 315)用噴霧熱分解的方法合成氟摻雜Sn02導(dǎo)電薄膜 和用模板合成納米棒陣列,合成的氟摻雜Sn02導(dǎo)電薄膜電阻率達(dá)到2.2X10—4 ^cm。 A. N. Banerjee (Phys. Stat. Sol. 2004, 201(5), 983 -989)等用溶膠凝膠經(jīng)高溫煅燒得到高透光 率導(dǎo)電性好的氟摻雜Sn02導(dǎo)電薄膜。
Sn02材料的良好光電性能主要是由雙電離的氧空位、非化學(xué)計(jì)量比性缺陷和摻雜效應(yīng)等 綜合因素來調(diào)控的。而多種離子摻雜可以避免單一元素過量摻雜,并調(diào)控其非化學(xué)計(jì)量比性
4缺陷,以達(dá)到優(yōu)化其光電性能的目的。多種離子摻雜的文獻(xiàn)報(bào)道較少,S.I. Choi (Chem. Mater. 2008, 20, 2609-2611)等合成排布均勻的ITO顆粒。雷智(公開號(hào)CN1546407) 等公開了F、 Mn共摻雜沉積納米Sn02隔熱薄膜。A. Cabot (Sensors and Actuators B. 2000, 70, 87-100)等用溶膠凝膠法合成Pd、 Pt和Au共摻雜Sn02。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種納米摻雜氧化錫溶膠的的方法。
本發(fā)明一種納米摻雜氧化錫溶膠的的方法,其特征在于具有以下的過程和步驟 a、摻氟Sn02溶膠的制備
以錫鹽為主體材料,以氟化物為摻雜劑,錫與氟的摩爾質(zhì)量比,即Sn:F=l: 0.1~0.8; 將兩者分別溶解于去離子水中,配成一定濃度的溶液,在不斷攪拌下加入NH3'H20或Na0H堿 溶液,調(diào)節(jié)pH值至6 8,反應(yīng)生成沉淀,靜置陳化,將得到的沉淀進(jìn)行滌以除去雜質(zhì)離子; 然后在所述沉淀中加入一定量的去離子水,接著在低溫下滴入雙氧水或草酸解膠,然后逐漸 升溫,回流2、小時(shí);然后再加入上述一定量的摻雜劑氟化物,并在120 160。C下水熱2(T30 小時(shí);將得到的產(chǎn)物離心洗漆或真空抽濾洗滌,直到濾液的電導(dǎo)率小于100 PS/cm;再將產(chǎn) 物溶于一定量的去離子水中進(jìn)行超聲分散,最終得到納米摻氟氧化錫溶膠;所述的錫鹽為 Sn(N03)4、 Sn(S04)2、 SnCl,或SnCl2中的任一種;所述的氟化物為NH4F或HF中的任一種; b、摻銻Sn02溶膠的制備
以錫鹽為主體材料,以三氯化銻為摻雜劑,錫與銻的摩爾質(zhì)量比,即Sn:Sb=l: 0. 01 0. 05; 將兩者分別溶解于去離子水中,配成一定濃度的溶液,在不斷攪拌下加入NH3'H20或NaOH堿 溶液,調(diào)節(jié)pH值至6^8;反應(yīng)生成沉淀,靜置陳化,將得到的沉淀進(jìn)行滌以除去雜質(zhì)離子; 然后在所述沉淀中加入一定量的去離子水,接著在低溫下滴入雙氧水或草酸解膠,然后逐漸 升溫,回流3、小時(shí);然后在14CT180 °C下水熱44、0小時(shí);將得到的產(chǎn)物離心洗滌或真空 抽濾洗滌,直到濾液的電導(dǎo)率小于100 US/cm;再將產(chǎn)物溶于一定量的去離子水中進(jìn)行超聲 分散,最終得到納米摻銻氧化錫溶膠;所述的錫鹽為Sn(NO丄、Sn(S04)2、 SnCl4或SnCl2中的 任一種;所用的摻雜劑為三氯化銻; b、摻銻和氟的Sn(V溶膠的制備
以錫鹽為主體材料,以氟化物和銻化物為摻雜劑,錫與銻與氟的摩爾質(zhì)量比,即Sn:Sb: F=l: 0. 02: 0. 1;將其分別溶解于去離子水中,配成一定濃度的溶液,在不斷攪拌下加入NfkH20 或NaOH堿溶液,調(diào)節(jié)pH值至6^;反應(yīng)生成沉淀,靜置陳化,將得到的沉淀進(jìn)行滌以除去 雜質(zhì)離子;然后在所述沉淀中加入一定量的去離子水,接著在低溫下滴入雙氧水或草酸解膠,然后逐漸升溫,回流5 7小時(shí);然后再加入上述一定量的氟化物,并在然后在180 220 °C下 水熱120 150小時(shí);將得到的產(chǎn)物離心洗滌或真空抽濾洗滌,直到濾液的電導(dǎo)率小于100 yS/cm;再將產(chǎn)物溶于一定量的去離子水中進(jìn)行超聲分散,最終得到納米摻銻和氟氧化錫溶 膠。納米摻雜氧化錫溶膠的制備方法制得的產(chǎn)物的用途即其使用方法為制取溶膠薄膜;其方 法是將上述方法制得的任一種摻雜氧化錫溶膠,通過噴涂、旋涂或浸漬提拉方法制取薄膜; 在制膜時(shí)需加入少量增粘劑以增加粘度;增粘劑為KH-550、乙二醇、聚乙二醇或2-丁酮中的 任意一種;所述薄膜可用于低輻射玻璃、顯示設(shè)備、氣敏傳感器以及太陽能電池的透明電極 等各領(lǐng)域。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)如下所述(1) 本發(fā)明方法制備的Sn02溶膠分散性、穩(wěn)定性好,晶化程度高,適合提拉、旋涂或噴涂制 膜。(2) 本發(fā)明方法制備Sn(V溶膠的過程中不加入任何有機(jī)物,制備過程比較環(huán)保,且制得的溶 膠適合做透明導(dǎo)電膜。且薄膜的方塊電阻小于100Q/口。(3) 本發(fā)明方法在溫和條件下進(jìn)行,無需高溫煅燒即可得到結(jié)晶良好的Sn02納米晶。(4) 本發(fā)明工藝方法中,摻雜的方法簡單。


圖1為本發(fā)明方法制得的納米摻氟Sn02的一維結(jié)構(gòu)透射電鏡(TEM)照片。 圖2為本發(fā)明方法制得的納米摻氟Sn02的X射線衍射(XRD)圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)將本發(fā)明的具體實(shí)施例陳述于下。實(shí)施例1:摻氟Sn(V溶液的制備0. 6mol/L的Sn(N03) 4溶液125ml中攪拌下加入NaOH溶 液,至pH為7,靜置陳化后洗滌產(chǎn)品得到沉淀,然后向得到的沉淀加入去離子水,再低溫下 滴入草酸解膠,逐漸升溫,回流3小時(shí),產(chǎn)物加入0. 0075mol的NH4F,最后140 °C下水熱24 h。產(chǎn)品洗滌超聲分散,得到穩(wěn)定摻氟SrA溶膠。草酸的加入量為Sn(NO3)4用量的60鬼。實(shí)施例2:摻銻Sn02溶液的制備0. 5mol/L的SnCl4溶液125mL加入0. 002mol SbCl3,攪 拌下加入NH3化0,至pH為8,靜置陳化后洗滌產(chǎn)品得到沉淀,然后向得到的沉淀加入去離子 水,再低溫下滴入雙氧水解膠,逐漸升溫,回流4小時(shí),最后160 "C下水熱48h。產(chǎn)品洗滌 超聲分散,得到穩(wěn)定的摻銻Sn02溶膠。雙氧水的加入量為SnCl4用量的120%。實(shí)施例3:摻銻和氟的Sn(V溶液的制備:0. 4mol/L的Sn(S04)2溶液125mL加入0. OOlmolSbCl3,攪拌下加入NaOH,至pH為9,靜置陳化后洗滌產(chǎn)品得到沉淀,然后向得到的沉淀加 入去離子水,之后低溫下滴入雙氧水解膠,逐漸升溫,回流6小時(shí),產(chǎn)品加入0. 005mol的 NH4F,最后200。C下水熱144h。產(chǎn)品洗滌超聲分散,得到穩(wěn)定的摻銻和氟Sn02溶膠。雙氧水 的加入量為Sn(S0》2用量的140%。本實(shí)施例1中的摻氟Sn(V溶液產(chǎn)物經(jīng)透射電鏡(TEM)和X射線衍射儀(XRD)的檢測結(jié)果參 見附圖中的圖l和圖2.圖l表明了納米摻氟Sn02的結(jié)構(gòu),可看出摻氟氧化錫粒徑分布均勻,且粒徑大小在10nm 左右。圖2表明,曲線峰值存在處表示摻氟Sn02為金紅石型,且結(jié)晶度較高。
權(quán)利要求
1.一種納米摻雜氧化錫溶膠的的制備方法,其特征在于具有以下的過程和步驟a、摻氟SnO2溶膠的制備以錫鹽為主體材料,以氟化物為摻雜劑,錫與氟的摩爾質(zhì)量比,即Sn∶F=1∶0.1~0.8;將兩者分別溶解于去離子水中,配成一定濃度的溶液;在不斷攪拌下加入NH3·H2O或NaOH堿溶液,調(diào)節(jié)pH值至6~8,反應(yīng)生成沉淀,經(jīng)靜置陳化,將得到的沉淀進(jìn)行滌以除去雜質(zhì)離子;然后在所述沉淀中加入一定量的去離子水,接著在低溫下滴入雙氧水或草酸解膠,然后逐漸升溫,回流2~4小時(shí);然后再加入上述一定量的摻雜劑氟化物,并在120~160℃下水熱20~30小時(shí);將得到的產(chǎn)物離心洗滌或真空抽濾洗滌,直到濾液的電導(dǎo)率小于100μS/cm;再將產(chǎn)物溶于一定量的去離子水中進(jìn)行超聲分散,最終得到納米摻氟氧化錫溶膠;所述的錫鹽為Sn(NO3)4、Sn(SO4)2、SnCl4或SnCl2中的任一種;所述的氟化物為NH4F或HF中的任一種;b、摻銻SnO2溶膠的制備以錫鹽為主體材料,以三氯化銻為摻雜劑,錫與銻的摩爾質(zhì)量比,即Sn∶Sb=1∶0.01~0.05;將兩者分別溶解于去離子水中,配成一定濃度的溶液;在不斷攪拌下加入NH3·H2O或NaOH堿溶液,調(diào)節(jié)pH值至6~8;反應(yīng)生成沉淀,靜置陳化,將得到的沉淀進(jìn)行滌以除去雜質(zhì)離子;然后在所述沉淀中加入一定量的去離子水,接著在低溫下滴入雙氧水或草酸解膠,然后逐漸升溫,回流3~5小時(shí);然后在140~180℃下水熱44~50小時(shí);將得到的產(chǎn)物離心洗滌或真空抽濾洗滌,直到濾液的電導(dǎo)率小于100μS/cm;再將產(chǎn)物溶于一定量的去離子水中進(jìn)行超聲分散,最終得到納米摻銻氧化錫溶膠;所述的錫鹽為Sn(NO3)4、Sn(SO4)2、SnCl4或SnCl2中的任一種;所用的摻雜劑為三氯化銻;c、摻銻和氟的SnO2溶膠的制備以錫鹽為主體材料,以氟化物和銻化物為摻雜劑,錫與銻與氟的摩爾質(zhì)量比,即Sn∶Sb∶F=1∶0.02∶0.1;將其分別溶解于去離子水中,配成一定濃度的溶液,在不斷攪拌下加入NH3·H2O或NaOH堿溶液,調(diào)節(jié)pH值至6~8;反應(yīng)生成沉淀,靜置陳化,將得到的沉淀進(jìn)行滌以除去雜質(zhì)離子;然后在所述沉淀中加入一定量的去離子水,接著在低溫下滴入雙氧水或草酸解膠,然后逐漸升溫,回流5~7小時(shí);然后再加入上述一定量的氟化物,并在然后在180~220℃下水熱120~150小時(shí);將得到的產(chǎn)物離心洗滌或真空抽濾洗滌,直到濾液的電導(dǎo)率小于100μS/cm;再將產(chǎn)物溶于一定量的去離子水中進(jìn)行超聲分散,最終得到納米摻銻和氟氧化錫溶膠。
2. —種根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法制得的納米摻雜氧化錫溶膠的用途為制取溶膠薄膜;其方 法是將上述方法制得的任一種摻雜氧化錫溶膠,通過噴涂、旋涂或浸漬提拉方法制取薄 膜;在制膜時(shí)需加入少量增粘劑以增加粘度;增粘劑為KH-550、乙二醇、聚乙二醇或2_丁酮中的任意一種;所述薄膜可用于低輻射玻璃、顯示設(shè)備、氣敏傳感器以及太陽能電池 的透明電極等各領(lǐng)域。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種納米摻雜氧化錫溶膠的制備方法,屬半導(dǎo)體納米薄膜制備工藝技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明方法主要是采用溶膠-凝膠法,經(jīng)過水熱,通過適宜的反應(yīng)條件制備摻雜納米SnO<sub>2</sub>溶膠。本發(fā)明方法采用錫鹽為主體原料,適量加入氟鹽、銻鹽或兩者銻或氟鹽作為摻雜劑,制取摻雜SnO<sub>2</sub>溶膠。在合成工藝中無須高溫煅燒,即可制得粒徑均勻、分散性好的摻雜納米SnO<sub>2</sub>溶膠。將得到的溶膠可通過噴涂、旋涂、浸漬提拉方法制取摻雜納米SnO<sub>2</sub>薄膜。該薄膜可用于低輻射玻璃、顯示設(shè)備、氣敏傳感器以及太陽能電池的透明電極等的各領(lǐng)域。
文檔編號(hào)H01B5/14GK101580270SQ20091005387
公開日2009年11月18日 申請(qǐng)日期2009年6月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月26日
發(fā)明者吳珊珊, 方建慧, 施利毅, 帥 袁, 尹 趙 申請(qǐng)人:上海大學(xué)
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