可轉(zhuǎn)移式研磨裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于涂料制備領(lǐng)域，具體涉及一種可轉(zhuǎn)移式研磨裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]涂料是指覆蓋在被保護(hù)或被裝飾的物體表面，并能與被涂物形成牢固附著的連續(xù)薄膜。涂料生產(chǎn)的過程就是把顏料固體粒子通過外力進(jìn)行破碎并分散在樹脂溶液或者乳液中，使之形成一個均勻微細(xì)的懸浮分散體。其生產(chǎn)過程主要包括預(yù)分散、研磨分散、調(diào)漆、凈化包裝等步驟。
[0003]其中，研磨分散是指將分散后的拌合色漿通過研磨分散設(shè)備進(jìn)行再次分散，得到顏料色漿。目前的研磨分散設(shè)備通常是于一個豎立的腔體內(nèi)裝入研磨介質(zhì)，如鋼球、瓷球、鵝卵石等而成，操作時，將待分散的漆料投入該腔體內(nèi)，轉(zhuǎn)動該腔體，使得研磨介質(zhì)之間相互撞擊或摩擦，從而使得顏料受到強(qiáng)烈的沖擊和強(qiáng)剪切作用，最后破碎、分散到漆料中。然而，由于腔體是豎立的，其在豎向上的空間較大，即漿料分布的高度空間較大，但是研磨介質(zhì)在自身重力作用下通常會沉積至腔體底部，即使在腔體旋轉(zhuǎn)的情況下亦很難上升至腔體的上部空間，從而導(dǎo)致腔體上部的漿料無法受到充分的研磨，最后導(dǎo)致漿料的研磨效果不好、分散效果不好，影響色漆的質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明意在提供一種可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，以解決目前漿料研磨時，位于腔體上部空間內(nèi)的漿料無法得到充分的研磨而導(dǎo)致漿料的研磨效果不好、分散效果不好的技術(shù)問題。
[0005]本方案中的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，包括研磨罐，研磨罐的上端設(shè)有上電磁鐵，研磨罐的下端設(shè)有下電磁鐵；研磨罐內(nèi)設(shè)有豎直的轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸上端延伸至研磨罐外，且轉(zhuǎn)軸上端連接有電機(jī)，轉(zhuǎn)軸的外壁上設(shè)有花鍵，花鍵的長度等于轉(zhuǎn)軸的長度；轉(zhuǎn)軸上設(shè)有轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)盤與轉(zhuǎn)軸通過花鍵連接，轉(zhuǎn)盤為中空結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)盤內(nèi)設(shè)有多個研磨球，所述中空結(jié)構(gòu)包括上層板和下層板，上層板和下層板上均設(shè)有通液孔。
[0006]采用本方案中的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，包括研磨罐，研磨罐提供研磨的空間，研磨罐的上端和下端均設(shè)有電磁鐵，電磁鐵通電可為轉(zhuǎn)盤提供上、下運(yùn)動的動力，研磨罐內(nèi)的轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動可帶動轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，從而帶動轉(zhuǎn)盤內(nèi)的研磨介質(zhì)、即研磨球轉(zhuǎn)動，實(shí)現(xiàn)研磨球之間的相互碰撞或摩擦，進(jìn)而使得顏料團(tuán)粒被破碎并分散至漆料中；轉(zhuǎn)軸的外壁上設(shè)有花鍵，轉(zhuǎn)盤通過花鍵與轉(zhuǎn)軸連接，可實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)軸帶動轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動，花鍵的長度等于轉(zhuǎn)軸的長度，從而可允許轉(zhuǎn)盤沿著轉(zhuǎn)軸的軸線方向上、下滑動；所述中空結(jié)構(gòu)包括上層板和下層板，上層板和下層板上均設(shè)有一組通液孔，通液孔可供漆料通過，即可供漆料做上下的運(yùn)動、并穿過轉(zhuǎn)盤。
[0007]本發(fā)明的技術(shù)原理及技術(shù)效果為:轉(zhuǎn)盤位于一個高度處時，轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動可使得轉(zhuǎn)盤內(nèi)的研磨介質(zhì)、即研磨球轉(zhuǎn)動，實(shí)現(xiàn)研磨球之間的相互碰撞或摩擦，進(jìn)而使得顏料團(tuán)粒被破碎并分散至漆料中；上電磁鐵通電，由于轉(zhuǎn)盤是鐵質(zhì)的，因此轉(zhuǎn)盤在上電磁鐵的吸引下，轉(zhuǎn)盤會向上運(yùn)動，即改變了轉(zhuǎn)盤所處的高度，使得研磨球被轉(zhuǎn)移，研磨球可對新的高度空間里的漆料進(jìn)行作用，使得該高度空間內(nèi)的漆料被研磨、分散；同理，下電磁鐵通電，轉(zhuǎn)盤又會向下移動，同樣可以對不同高度空間內(nèi)的漆料進(jìn)行研磨、分散，即采用本發(fā)明的研磨裝置對漆料進(jìn)行研磨時，整個研磨罐內(nèi)的所有漆料均可受到研磨、分散，研磨充分，研磨效果好，分散效果好。
[0008]值得注意的是，由于漆料的阻力作用，轉(zhuǎn)盤的移動會較為緩慢，從而使得轉(zhuǎn)盤在每一個高度空間內(nèi)的停留時間均較長，研磨充分，研磨效果好。
[0009]以下是基于上述方案的優(yōu)選方案:
優(yōu)選方案一:所述轉(zhuǎn)軸上位于轉(zhuǎn)盤的上方處設(shè)有上連接塊，轉(zhuǎn)軸上位于轉(zhuǎn)盤的下方處設(shè)有下連接塊，上連接塊和下連接塊均與轉(zhuǎn)軸固定連接，上連接塊與轉(zhuǎn)盤之間設(shè)有上彈簧，下連接塊與轉(zhuǎn)盤之間設(shè)有下彈簧。轉(zhuǎn)盤上、下移動時，上彈簧和下彈簧對轉(zhuǎn)盤有一個阻力的作用，進(jìn)一步使得轉(zhuǎn)盤移動緩慢，保證研磨充分，分散充分。
[0010]優(yōu)選方案二:基于優(yōu)選方案一，所述上彈簧和下彈簧均有兩根，兩根上彈簧分別位于轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)，兩根下彈簧分別位于轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)。從而上彈簧和下彈簧對轉(zhuǎn)盤的作用平穩(wěn)，保證轉(zhuǎn)盤平穩(wěn)地做上、下移動。
[0011]優(yōu)選方案三:基于優(yōu)選方案二，所述上連接塊和下連接塊均為長條狀。長條狀的連接塊較為細(xì)長，避免對電磁鐵和轉(zhuǎn)盤之間造成阻礙而影響電磁鐵對轉(zhuǎn)盤的吸引作用。
[0012]優(yōu)選方案四:基于優(yōu)選方案三，所述轉(zhuǎn)盤的邊緣與研磨罐的內(nèi)壁接觸。從而保證轉(zhuǎn)盤上、下移動時，研磨罐內(nèi)的漆料均能穿過轉(zhuǎn)盤，接受轉(zhuǎn)盤內(nèi)研磨球的研磨。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明實(shí)施例可轉(zhuǎn)移式研磨裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面通過【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明:
說明書附圖中的附圖標(biāo)記包括:轉(zhuǎn)軸1、上電磁鐵2、上連接塊3、上彈簧4、研磨罐5、轉(zhuǎn)盤6、研磨球7、通液孔8、下彈簧9、下連接塊10、下電磁鐵11。
[0015]如圖1所示，可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，包括研磨罐5，研磨罐5的上端設(shè)有上電磁鐵2，研磨罐5的下端設(shè)有下電磁鐵11 ;研磨罐5內(nèi)設(shè)有豎直的轉(zhuǎn)軸1，轉(zhuǎn)軸1上端延伸至研磨罐5夕卜，且轉(zhuǎn)軸1上端連接有電機(jī)，轉(zhuǎn)軸1的外壁上設(shè)有花鍵，花鍵的長度等于轉(zhuǎn)軸1的長度；轉(zhuǎn)軸1上位于轉(zhuǎn)盤6的上方處設(shè)有上連接塊3，轉(zhuǎn)軸1上位于轉(zhuǎn)盤6的下方處設(shè)有下連接塊10，上連接塊3和下連接塊10均與轉(zhuǎn)軸1固定連接，上連接塊3和下連接塊10均為長條狀；轉(zhuǎn)軸1上設(shè)有鐵質(zhì)的轉(zhuǎn)盤6，轉(zhuǎn)盤6與轉(zhuǎn)軸1通過花鍵連接，轉(zhuǎn)盤6可沿轉(zhuǎn)軸1上、下滑動，轉(zhuǎn)盤6的邊緣與研磨罐5的內(nèi)壁接觸，轉(zhuǎn)盤6為中空結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)盤6內(nèi)設(shè)有多個研磨球7，所述中空結(jié)構(gòu)包括上層板和下層板，上層板和下層板上均設(shè)有通液孔8 ;上層板與上連接塊3之間設(shè)有上彈簧4，下層板與下連接塊10之間設(shè)有下彈簧9，上彈簧4和下彈簧9均有兩根，兩根上彈簧4分別位于轉(zhuǎn)軸1的兩側(cè)，兩根下彈簧9亦分別位于轉(zhuǎn)軸1的兩側(cè)。
[0016]在具體實(shí)施過程中，將待研磨的漆料投入至研磨罐5內(nèi)，開啟與轉(zhuǎn)軸1連接的電機(jī)，使得轉(zhuǎn)軸1帶動轉(zhuǎn)盤6轉(zhuǎn)動，再將上電磁鐵2通電，使得轉(zhuǎn)盤6在上電磁鐵2的吸引作用下向上運(yùn)動，待轉(zhuǎn)盤6向上運(yùn)動至極限時，上電磁鐵2斷電，下電磁鐵11通電，使得轉(zhuǎn)盤6在下電磁鐵11的吸引作用下向下運(yùn)動，直至運(yùn)動至極限，下電磁鐵11斷電，上電磁鐵2重新通電，以此類推，上電磁鐵2和下電磁鐵11間隔通電，使得轉(zhuǎn)盤6做上、下的往復(fù)運(yùn)動，保證研磨罐5內(nèi)各個高度空間的漆料均能得到研磨、分散，研磨效果好，分散效果好。
[0017]對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明結(jié)構(gòu)的前提下，還可以作出若干變形和改進(jìn)，這些也應(yīng)該視為本發(fā)明的保護(hù)范圍，這些都不會影響本發(fā)明實(shí)施的效果和專利的實(shí)用性。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，其特征在于:包括研磨罐，研磨罐的上端設(shè)有上電磁鐵，研磨罐的下端設(shè)有下電磁鐵；研磨罐內(nèi)設(shè)有豎直的轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸上端延伸至研磨罐外，且轉(zhuǎn)軸上端連接有電機(jī)，轉(zhuǎn)軸的外壁上設(shè)有花鍵，花鍵的長度等于轉(zhuǎn)軸的長度；轉(zhuǎn)軸上設(shè)有鐵質(zhì)的轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)盤與轉(zhuǎn)軸通過花鍵連接，轉(zhuǎn)盤為中空結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)盤內(nèi)設(shè)有多個研磨球，所述中空結(jié)構(gòu)包括上層板和下層板，上層板和下層板上均設(shè)有通液孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，其特征在于:所述轉(zhuǎn)軸上位于轉(zhuǎn)盤的上方處設(shè)有上連接塊，轉(zhuǎn)軸上位于轉(zhuǎn)盤的下方處設(shè)有下連接塊，上連接塊和下連接塊均與轉(zhuǎn)軸固定連接，上連接塊與轉(zhuǎn)盤之間設(shè)有上彈簧，下連接塊與轉(zhuǎn)盤之間設(shè)有下彈簧。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，其特征在于:所述上彈簧和下彈簧均有兩根，兩根上彈簧分別位于轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)，兩根下彈簧分別位于轉(zhuǎn)軸的兩側(cè)。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，其特征在于:所述上連接塊和下連接塊均為長條狀。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，其特征在于:所述轉(zhuǎn)盤的邊緣與研磨罐的內(nèi)壁接觸。
【專利摘要】本發(fā)明屬于涂料制備領(lǐng)域，公開了一種可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，包括研磨罐，研磨罐的上端設(shè)有上電磁鐵，研磨罐的下端設(shè)有下電磁鐵；研磨罐內(nèi)設(shè)有豎直的轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸上端延伸至研磨罐外，且轉(zhuǎn)軸上端連接有電機(jī)，轉(zhuǎn)軸的外壁上設(shè)有花鍵，花鍵的長度等于轉(zhuǎn)軸的長度；轉(zhuǎn)軸上設(shè)有鐵質(zhì)的轉(zhuǎn)盤，轉(zhuǎn)盤與轉(zhuǎn)軸通過花鍵連接，轉(zhuǎn)盤為中空結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)盤內(nèi)設(shè)有多個研磨球，所述中空結(jié)構(gòu)包括上層板和下層板，上層板和下層板上均設(shè)有通液孔。本發(fā)明提供的可轉(zhuǎn)移式研磨裝置，解決了目前漿料研磨時，位于腔體上部空間內(nèi)的漿料無法得到充分的研磨而導(dǎo)致漿料的研磨效果不好、分散效果不好的技術(shù)問題。
【IPC分類】B02C17/10, B02C17/18
【公開號】CN105344432
【申請?zhí)枴緾N201510879857
【發(fā)明人】吳全孫
【申請人】重慶百齊居建材有限公司
【公開日】2016年2月24日
【申請日】2015年12月5日