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物鏡驅(qū)動裝置及具有該裝置的光頭裝置的制作方法

文檔序號:6757011閱讀:130來源:國知局
專利名稱:物鏡驅(qū)動裝置及具有該裝置的光頭裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及所謂金屬線懸掛型的物鏡驅(qū)動裝置及具有該裝置的光頭裝置。
背景技術(shù)
作為CD或DVD等的光記錄盤片的記錄、再生等中使用的光頭裝置,使用的是具有所謂金屬線懸掛型的物鏡驅(qū)動裝置的光頭裝置,該物鏡驅(qū)動裝置具有物鏡、保持物鏡的透鏡支架、可使透鏡支架移動并由多根金屬線支承的固定側(cè)構(gòu)件、以及將透鏡支架至少朝聚焦方向及跟蹤方向驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu)。
作為這種光頭裝置中所使用的物鏡驅(qū)動裝置,已知有一種雙軸驅(qū)動的物鏡驅(qū)動裝置,在這種物鏡驅(qū)動裝置中,將透鏡支架朝聚焦方向及跟蹤方向驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu),是由通過U字形狀的磁極邊界部分而具有配置成不同磁極的磁化對置面的一對驅(qū)動磁鐵;跨越磁極邊界部分狀地與磁化對置面相對配置的聚焦驅(qū)動線圈及跟蹤驅(qū)動線圈所構(gòu)成(例如、參照專利文獻1)。在該專利文獻1所記載的物鏡驅(qū)動裝置中,在印刷線圈基板上形成了聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈。
日本專利特開2003-45720號公報然而,專利文獻1所記載的物鏡驅(qū)動裝置,不具有傾斜驅(qū)動機構(gòu),在設(shè)置具有由U字形狀的磁極邊界部分作出分極磁化的磁化對置面的驅(qū)動磁鐵的物鏡驅(qū)動裝置中,沒有具體的傾斜驅(qū)動機構(gòu)的提案。
另一方面,在光頭裝置中,對于其記錄·再生速度的高速化要求逐年增高。為了適應(yīng)這種記錄·再生速度的高速化要求,在物鏡驅(qū)動裝置中,需要將物鏡朝聚焦方向、跟蹤方向或傾斜方向進行驅(qū)動,提高對其位置進行控制的伺服頻率,以更高的頻率對各方向的物鏡進行位置控制。
在此,當(dāng)處于比伺服頻率高的數(shù)值場合,一旦該伺服頻率接近于物鏡驅(qū)動裝置所具有的高次共振頻率時,裝置中會發(fā)生共振。因此,當(dāng)減小高次共振頻率的數(shù)值時,想要以高速朝聚焦方向、跟蹤方向或傾斜方向進行物鏡控制是很困難的。因此,為了適應(yīng)高速化,必須預(yù)先將高次共振頻率設(shè)定得更高。

發(fā)明內(nèi)容
為此,本發(fā)明的課題在于,在采用了通過大致U字形狀的磁極邊界部分而具有不同磁極鄰接的磁化對置面的驅(qū)動磁鐵的物鏡驅(qū)動裝置中,提供一種具有傾斜功能且能適應(yīng)高速化的結(jié)構(gòu)。
為了解決上述課題,本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置,具有物鏡、保持該物鏡的透鏡支架、可使該透鏡支架移動地由多根金屬線支承的固定側(cè)構(gòu)件、以及將所述透鏡支架至少朝聚焦方向及跟蹤方向驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu),其特征在于,所述驅(qū)動機構(gòu),具有通過大致U字形狀的磁極邊界部分而具有不同磁極鄰接的磁化對置面的驅(qū)動磁鐵;跨越磁極邊界部分狀地與所述磁化對置面相對配置的聚焦驅(qū)動線圈及跟蹤驅(qū)動線圈;將所述透鏡支架朝傾斜方向驅(qū)動用的傾斜驅(qū)動線圈,該傾斜驅(qū)動線圈,在所述聚焦驅(qū)動線圈及所述跟蹤驅(qū)動線圈與所述磁化對置面的對置方向上,在與所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈的至少某一方重疊的位置上,與所述磁化對置面相對配置著。
本發(fā)明中,由于驅(qū)動機構(gòu)具有傾斜驅(qū)動線圈、該傾斜驅(qū)動線圈與驅(qū)動磁鐵的磁化對置面對置,因此,可使用共同的驅(qū)動磁鐵來進行傾斜驅(qū)動。特別是由于傾斜驅(qū)動線圈,在聚焦驅(qū)動線圈及跟蹤驅(qū)動線圈與磁化對置面的對置方向上,在與聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈的至少某一方重疊的位置上,與磁化對置面相對配置,因此,可將各驅(qū)動線圈集中配置在聚焦方向和跟蹤方向上。這樣,可緊湊地作成物鏡驅(qū)動裝置,可提高裝置的剛性,通過提高裝置的剛性,可增高裝置的高次共振頻率的數(shù)值。
本發(fā)明中,最好是將所述傾斜驅(qū)動線圈卷繞成大致方形,并跨越所述磁極邊界部分狀地與所述磁化對置面相對配置。在此場合,可將方狀線圈的2條邊用于傾斜驅(qū)動。這樣,可提高傾斜驅(qū)動時的物鏡的靈敏度。
本發(fā)明中,最好是將所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈卷繞成具有斜邊部的大致梯形,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈被配置成雙方的斜邊部相互間鄰接的狀態(tài),并位于大致同一平面上。
在將聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈配置在大致同一平面上的場合,在聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈與磁化對置面的對置方向上,可以進行這些驅(qū)動線圈和傾斜驅(qū)動線圈的集中配置。但是,在將聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈配置在大致同一平面上的場合,比如,若將聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈卷繞成矩狀時,則各自的驅(qū)動線圈的角部會發(fā)生干擾,難以將聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈集中配置。然而,本發(fā)明中,由于將聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈卷繞成了具有斜邊部的大致梯形,因此可將斜邊部相互鄰接配置,由此,可將包含傾斜驅(qū)動線圈的驅(qū)動線圈更加集中地進行配置。
本發(fā)明中,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈,在分別被卷繞成具有短邊部、長邊部、連接所述短邊部與長邊部的2條斜邊部的大致梯形時,最好是將所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈配置在大致同一平面上,形成雙方的長邊部成為相互正交方向的狀態(tài)。
本發(fā)明中,在所述透鏡支架的側(cè)面設(shè)置凹部,該凹部中配設(shè)所述傾斜驅(qū)動線圈,若在所述凹部中配設(shè)了所述傾斜驅(qū)動線圈,則可容易地將所述聚焦驅(qū)動線圈配置成與所述傾斜驅(qū)動線圈重疊的狀態(tài)。最好是將所述凹部凹設(shè)成比所述傾斜驅(qū)動線圈的厚度稍許深一點。
在此場合,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈,在預(yù)先分別被卷繞成具有短邊部、長邊部、連接所述短邊部與長邊部的2條斜邊部的大致梯形時,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈,可以在將雙方的斜邊部相互鄰接的同時,配置成雙方的長邊部成為相互正交方向的狀態(tài),可作成小型化且能進行聚焦控制、跟蹤控制的物鏡驅(qū)動裝置。
最好是將配設(shè)有所述傾斜驅(qū)動線圈的凹部,形成于所述透鏡支架的基端側(cè)側(cè)面和前端側(cè)側(cè)面的雙方,通過在雙方的側(cè)面分別配置所述傾斜驅(qū)動線圈、聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈,在透鏡支架的兩側(cè)分別進行傾斜控制、聚焦控制和跟蹤控制。
本發(fā)明中,所述聚焦驅(qū)動線圈、所述跟蹤驅(qū)動線圈和所述傾斜驅(qū)動線圈中的至少1個最好是繞組型線圈。這樣,與印刷基板上形成驅(qū)動線圈的印刷線圈基板的情況相比,可提高線圈的占空因數(shù)。由此可進一步得到高驅(qū)動力。
本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置可用于光頭裝置。
本發(fā)明中,由于傾斜驅(qū)動線圈,在聚焦驅(qū)動線圈及跟蹤驅(qū)動線圈與磁化對置面的對置方向上、以與聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈的至少某一方重疊的狀態(tài)與磁化對置面相對配置著,因此,可將各驅(qū)動線圈集中配置。這樣,可緊湊地作成物鏡驅(qū)動裝置,可提高裝置的剛性。其結(jié)果,由于可提高裝置的高次共振頻率的數(shù)值,因此具有傾斜功能并可適應(yīng)高速化。


圖1為表示本發(fā)明的實施狀態(tài)中的物鏡驅(qū)動裝置的俯視圖。
圖2為圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置的側(cè)視圖。
圖3為圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置的仰視圖。
圖4為圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置中的物鏡和各驅(qū)動線圈安裝狀態(tài)的透鏡支架的說明圖,(A)為透鏡支架的俯視圖,(B)、(C)為從基端側(cè)側(cè)面看透鏡支架時的說明圖和從前端側(cè)側(cè)面看透鏡支架時的說明圖。
圖5(A)、(B)為分別表示圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置中使用的驅(qū)動磁鐵的俯視圖及側(cè)視圖。
圖6為說明圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置中的聚焦驅(qū)動線圈、跟蹤驅(qū)動線圈及傾斜驅(qū)動線圈與驅(qū)動磁鐵的配置關(guān)系的說明圖。
具體實施例方式
下面參照

實施本發(fā)明用的最佳形態(tài)。
圖1為表示本發(fā)明的實施狀態(tài)中的物鏡驅(qū)動裝置的俯視圖。圖2為圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置的側(cè)視圖。圖3為圖1所示的物鏡驅(qū)動裝置的仰視圖。圖4表示物鏡和各驅(qū)動線圈安裝狀態(tài)的透鏡支架,(A)為透鏡支架的俯視圖,(B)、(C)為從基端側(cè)側(cè)面看透鏡支架時的說明圖和從前端側(cè)側(cè)面看透鏡支架時的說明圖。
(物鏡驅(qū)動裝置的概略結(jié)構(gòu))圖1~圖4中,本形態(tài)的物鏡驅(qū)動裝置1是一種具有規(guī)定的光學(xué)系統(tǒng)、在對CD或DVD等的光記錄盤片進行信息記錄、信息再生的光頭裝置中所使用的裝置。對于光頭裝置的裝置框架等的結(jié)構(gòu),因能使用眾所周知的結(jié)構(gòu),故省略其詳細的說明,物鏡驅(qū)動裝置1,具有物鏡2;保持物鏡2的透鏡支架3;由6根金屬線4將透鏡支架3支承成可向聚焦方向(箭頭Fo所示的方向)、跟蹤方向(箭頭Tr所示的方向)和傾斜方向(箭頭Ti所示的方向)移動的固定側(cè)構(gòu)件7;以及將透鏡支架3朝聚焦方向Fo、跟蹤方向Tr、傾斜方向Ti進行驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu)。
固定側(cè)構(gòu)件7,由在前端側(cè)將透鏡支架3支承的6根金屬線4、在其基端側(cè)將金屬線4支承的支架支承構(gòu)件5、以及構(gòu)成本體框架并構(gòu)成驅(qū)動機構(gòu)一部分的軛鐵6所構(gòu)成。
6根金屬線4,分別作為向后述的聚焦驅(qū)動線圈9、跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11供電的金屬線來使用。為此,金屬線4的前端側(cè)被分別錫焊固定在與透鏡支架3固接的一對中繼基板15、15上,而對于金屬線4的基端側(cè),則錫焊在支架支承構(gòu)件5背面所安裝的印刷基極14的配線圖形上。
軛鐵6具有底面部6a和將構(gòu)成驅(qū)動機構(gòu)的后述的一對驅(qū)動磁鐵12進行保持的保持部6b、6c。底面部6a由大致長方形狀的磁性鋼板形成,在與該底面部6a相對的短邊側(cè)切起有保持部6b、6c。在底面部6a的中心部分設(shè)置矩狀的開口部,在開口端部形成有向下面?zhèn)韧钩龅?個凸起部6d、6d。在凸起部6d、6d上安裝著構(gòu)成光頭裝置的光學(xué)系統(tǒng)的1/4波長板17。支架支承構(gòu)件5相對于軛鐵6的底面部6a上的短邊側(cè),通過粘接等的固定手段進行固定。
透鏡支架3具有與跟蹤方向Tr正交的2個側(cè)面和與跟蹤方向Tr平行的2個側(cè)面,從俯視看形成了長方形狀,在其中央部分保持著物鏡2。在透鏡支架3上,與跟蹤方向Tr正交的2個側(cè)面固接著上述的中繼基板15、15。在其下面,在透鏡支架3的與跟蹤方向Tr平行的2個側(cè)面中,將支架支承構(gòu)件5側(cè)的側(cè)面作為基端側(cè)側(cè)面3a,將另一方的側(cè)面作為前端側(cè)側(cè)面3b。
在透鏡支架3的基端側(cè)側(cè)面3a上,凹設(shè)著配設(shè)有構(gòu)成驅(qū)動機構(gòu)的后述的傾斜驅(qū)動線圈11的凹部3a1。再具體地講,凹部3a1是圖4(C)中的基端側(cè)側(cè)面3a的下半部,在基端側(cè)側(cè)面3a的大致一半的面積部分上凹設(shè)成了矩狀。透鏡支架3的前端側(cè)側(cè)面3b也是同樣地凹設(shè)有凹部3b1(參照圖4(B))。
在透鏡支架3的上面,形成有對透鏡支架3的聚焦方向Fo的可動范圍進行限制的限制面3c。本形態(tài)中,在前端側(cè)側(cè)面3b側(cè)的跟蹤方向Tr的兩端部的2個部位上形成限制面3c、3c。該限制面3c、3c比如通過與未圖示的物鏡驅(qū)動裝置1的蓋子的一部分對接,對透鏡支架3的聚焦方向Fo的可動范圍進行限制。
(驅(qū)動機構(gòu)的結(jié)構(gòu))圖5(A)、(B)為分別表示驅(qū)動磁鐵的俯視圖及側(cè)視圖。
圖1、圖2和圖4中,驅(qū)動機構(gòu)包括分別配設(shè)在透鏡支架3的基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上的聚焦驅(qū)動線圈9、一對的跟蹤驅(qū)動線圈10、一對的傾斜驅(qū)動線圈11、軛鐵6的保持部6b、6c、以及保持在這些保持部6b、6c上并與各驅(qū)動線圈對置的一對的驅(qū)動磁鐵12。
如圖4所示,聚焦驅(qū)動線圈9是扁平的繞組型線圈,將銅線或鋁包層線卷繞成具有斜邊部的梯形。再具體地講,聚焦驅(qū)動線圈9被卷繞成了具有2個斜邊部9a、9a;作為短邊部的上邊部9b和作為長邊部的下邊部9c的大致左右對稱的大致梯形。特別是在本形態(tài)中,下邊部9c形成了橫向長度大于高度方向(圖4(C)中的上下方向)尺寸的梯形。
跟蹤驅(qū)動線圈10也是同樣,是扁平的繞組型線圈,將銅線或鋁包層線卷繞成具有斜邊部的梯形。再具體地講,跟蹤驅(qū)動線圈10被卷繞成了具有2個斜邊部10a、10a;作為短邊部的上邊部10b和作為長邊部的下邊部10c的大致左右對稱的梯形。
傾斜驅(qū)動線圈11是扁平的繞組型線圈,將銅線或鋁包層線卷繞成大致方形。本形態(tài)中,被卷繞成了具有長度相等的上邊部11a和下邊部11b的矩狀。
由此構(gòu)成了驅(qū)動線圈9、10、11,當(dāng)驅(qū)動線圈9、10、11使用了鋁包層線的場合,可減輕各驅(qū)動線圈的重量。
一對的傾斜驅(qū)動線圈11以并列的狀態(tài)通過粘接等方式,被分別固定配設(shè)在透鏡支架3的基端側(cè)側(cè)面3a的凹部3a1和前端側(cè)側(cè)面3b的凹部3b1中,通過有規(guī)定間隙地形成了沿圖示左右方向的大致對稱的狀態(tài)。再具體地講,一對的傾斜驅(qū)動線圈11配設(shè)成了上邊部11a和下邊部11b沿圖示左右方向平行延伸的狀態(tài)。在此,一對的傾斜驅(qū)動線圈11被卷繞成各自的卷繞方向不同,并電氣性串聯(lián)連接。凹部3a1和凹部3b1凹設(shè)成了比傾斜驅(qū)動線圈11的厚度稍許深一點,在將傾斜驅(qū)動線圈11配設(shè)于凹部3a1及凹部3b1的狀態(tài)下,傾斜驅(qū)動線圈11不從基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b凸出。
聚焦驅(qū)動線圈9通過粘接等方式,被固定配設(shè)在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上,將凹部3a1和凹部3b1覆蓋住。換言之,聚焦驅(qū)動線圈9在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上,被配設(shè)成了在與驅(qū)動磁鐵12的對置方向上、與一對的傾斜驅(qū)動線圈11的雙方重疊的狀態(tài)(參照圖1和圖4)。再具體地講,聚焦驅(qū)動線圈9被配設(shè)成上邊部9b和下邊部9c沿圖示左右方向平行延伸的狀態(tài)。
一對跟蹤驅(qū)動線圈10在聚焦驅(qū)動線圈9的斜上方處,通過粘接等方式,被固定配設(shè)在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上。更具體地說,在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上,以一對的跟蹤驅(qū)動線圈10的斜邊部10a與聚焦驅(qū)動線圈9的2個斜邊部9a、9a相互鄰接的狀態(tài)大致左右對稱地配設(shè)著一對跟蹤驅(qū)動線圈10。在此,跟蹤驅(qū)動線圈10的一部分將凹部3a1和凹部3b1的一部分覆蓋,在與驅(qū)動磁鐵12的對置方向上與傾斜驅(qū)動線圈11的一部分重疊。
如圖4和圖5所示,一對的驅(qū)動磁鐵12呈長方形狀,與基端側(cè)側(cè)面3a及前端側(cè)側(cè)面3b對置地將透鏡支架3夾入,并被保持在軛鐵6的保持部6b、6c上。驅(qū)動磁鐵12的與透鏡支架3的基端側(cè)側(cè)面3a或前端側(cè)側(cè)面3b的相對面、即與聚焦驅(qū)動線圈9、跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11的相對面,成為了由縱線部12b1、12b1和橫線部12b2組成的大致U字形狀的磁極分割線12b(磁極邊界部分)進行分極磁化的磁化對置面12a(參照圖5(B))。具體地講,在磁化對置面12a上,磁極分割線12b外側(cè)的U形狀部分被磁化成S極,磁極分割線12b內(nèi)側(cè)的矩狀部分被磁化成N極。如圖5(A)所示,驅(qū)動磁鐵12其厚度方向也被分極磁化。本形態(tài)中,磁極分割線12b只要具有包含縱線部12b1、12b1和橫線部12b2的大致U字形狀的部分,則不需要是完整的U字形狀。
(驅(qū)動線圈與驅(qū)動磁鐵的配置關(guān)系)圖6為說明聚焦驅(qū)動線圈、跟蹤驅(qū)動線圈及傾斜驅(qū)動線圈與驅(qū)動磁鐵的相對配置關(guān)系的說明圖。另外,因一對的跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11分別呈左右對稱配置,故圖6中只圖示了一側(cè)來進行說明。
如圖6所示,聚焦驅(qū)動線圈9呈跨越磁極分割線12b狀地與驅(qū)動磁鐵12的磁化對置面12a相對配置。本形態(tài)中,聚焦驅(qū)動線圈9被配置成了跨越磁極分割線12b的橫線部12b2的狀態(tài)。再具體地講,聚焦驅(qū)動線圈9被配置成其圖示上下方向的中心線與磁極分割線12b的橫線部12b2大體一致,被配置成上邊部9b和下邊部9c與不同的磁極相對置。這樣,聚焦驅(qū)動時,可以將上邊部9b和下邊部9c的2條邊作為有效邊來使用。
一對的跟蹤驅(qū)動線圈10也是呈跨越磁極分割線12b狀地與驅(qū)動磁鐵12的磁化對置面12a相對配置。本形態(tài)中,一對的跟蹤驅(qū)動線圈10被配置成了跨越磁極分割線12b的縱線部12b1的狀態(tài)。再具體地講,跟蹤驅(qū)動線圈10被配置成其圖示左右方向的中心線與磁極分割線12b的縱線部12b1大體一致。即,跟蹤驅(qū)動線圈10被配置成上邊部10b和下邊部10c與不同的磁極相對置。這樣,跟蹤驅(qū)動時,可以將上邊部10b和下邊部10c的2條邊作為有效邊來使用。
一對的傾斜驅(qū)動線圈11也是呈跨越磁極分割線12b狀地與驅(qū)動磁鐵12的磁化對置面12a相對配置。本形態(tài)中,一對的傾斜驅(qū)動線圈11被配置成了跨越磁極分割線12b的橫線部12b2的狀態(tài)。再具體地講,傾斜驅(qū)動線圈11被配置成其圖示上下方向的中心線與磁極分割線12b的橫線部12b2大體一致。即,配置成上邊部11a和下邊部11b與不同的磁極相對置,傾斜驅(qū)動時,可以將上邊部11a和下邊部11b的2條邊作為有效邊來使用。
(本形態(tài)的效果)如上所述,在本形態(tài)的物鏡驅(qū)動裝置1中,聚焦驅(qū)動線圈9、一對的跟蹤驅(qū)動線圈10和一對的傾斜驅(qū)動線圈11,與驅(qū)動磁鐵12的磁化對置面12a相對配置。因此,可使用共同驅(qū)動磁鐵12來進行透鏡支架3的聚焦驅(qū)動、跟蹤驅(qū)動和傾斜驅(qū)動。特別是在本形態(tài)中,傾斜驅(qū)動線圈11,在聚焦驅(qū)動線圈9及跟蹤驅(qū)動線圈10與磁化對置面12a的對置方向上、以與聚焦驅(qū)動線圈9及跟蹤驅(qū)動線圈12重疊的狀態(tài)與磁化對置面12a相對配置著。因此,可在聚焦方向Fo和跟蹤方向Tr上,將各驅(qū)動線圈集中配置在透鏡支架3上。這樣,可緊湊地作成透鏡支架3,可提高透鏡支架3的剛性。其結(jié)果,可增高物鏡驅(qū)動裝置1的高次共振頻率的數(shù)值。
又,由于凹部3a1和凹部3b1凹設(shè)成了比傾斜驅(qū)動線圈11的厚度稍許深一點,因此,從驅(qū)動磁鐵12看,傾斜驅(qū)動線圈11被配置在了聚焦驅(qū)動線圈9及跟蹤驅(qū)動線圈10旁邊的里側(cè)。這樣,使用驅(qū)動磁鐵12可有效地進行傾斜驅(qū)動。
本形態(tài)中,將傾斜驅(qū)動線圈11卷繞成矩狀,并跨越磁極分割線12b狀地與磁化對置面12a相對配置。由此可將上邊部11a和下邊部11b的2條邊用于傾斜驅(qū)動。由此可提高傾斜驅(qū)動時的物鏡2的靈敏度。同樣,卷繞成梯形的聚焦驅(qū)動線圈9和跟蹤驅(qū)動線圈10也是跨越磁極分割線12b狀地與磁化對置面12a相對配置。由此,可將上邊部9b和下邊部9c或者上邊部10b和下邊部10c的2條邊用于聚焦驅(qū)動或跟蹤驅(qū)動,可提高聚焦驅(qū)動時或跟蹤驅(qū)動時的物鏡2的靈敏度。
本形態(tài)中,將聚焦驅(qū)動線圈9和跟蹤驅(qū)動線圈10卷繞成了具有斜邊部9a或斜邊部10a的梯形。又,聚焦驅(qū)動線圈9和跟蹤驅(qū)動線圈10,以斜邊部9a與斜邊部10a相互鄰接的狀態(tài)被配置在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上。由于將聚焦驅(qū)動線圈9和跟蹤驅(qū)動線圈10配置在同一面、即基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上,因此,在與磁化對置面12a的對置方向上,可將聚焦驅(qū)動線圈9、跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11集中配置。又,由于配置成斜邊部9a與斜邊部10a相互鄰接的狀態(tài),因此可將聚焦驅(qū)動線圈9和跟蹤驅(qū)動線圈10集中配置在跟蹤方向Tr上。其結(jié)果,可提高透鏡支架3的剛性。
本形態(tài)中,聚焦驅(qū)動線圈9、跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11是繞組型線圈。這樣,與在印刷基板上形成這些驅(qū)動線圈的印刷線圈基板的情況相比,可提高線圈的占空因數(shù),可進一步得到高的驅(qū)動力。
(其它實施形態(tài))上述形態(tài)是適用于本發(fā)明的形態(tài)一例,但不限定于此例,在不脫離本發(fā)明宗旨的范圍內(nèi)可作各種變形。例如,上述形態(tài)中,聚焦驅(qū)動線圈9、跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11是繞組型線圈,但也可在印刷基板上形成具有上述形狀的這些的各驅(qū)動線圈。
又,可以將聚焦驅(qū)動線圈9、跟蹤驅(qū)動線圈10和傾斜驅(qū)動線圈11的各驅(qū)動線圈,特意作成卷繞有方型線圈的繞組型線圈。在此場合,可提高卷線效率,可進一步提高聚焦驅(qū)動等時的物鏡2的靈敏度。
并且,上述形態(tài)中,在透鏡支架3的基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b上分別配設(shè)了聚焦驅(qū)動線圈9、一對的跟蹤驅(qū)動線圈10和一對的傾斜驅(qū)動線圈11,又,使用了與這些驅(qū)動線圈對置的一對的驅(qū)動磁鐵12,但未必一定要在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b的兩個面上配設(shè)各驅(qū)動線圈。即,也可在基端側(cè)側(cè)面3a和前端側(cè)側(cè)面3b的某一方配設(shè)各驅(qū)動線圈,同時與這些驅(qū)動線圈對置狀地配置驅(qū)動磁鐵12。
又,上述形態(tài)中,傾斜驅(qū)動線圈11,在與磁化對置面12a的對置方向上,被配置成了與聚焦驅(qū)動線圈9及跟蹤驅(qū)動線圈10的雙方重疊的狀態(tài),而只要配置成與聚焦驅(qū)動線圈9及跟蹤驅(qū)動線圈10的至少某一方重疊的狀態(tài),就可將透鏡支架3緊湊地配設(shè)在聚焦方向Fo或跟蹤方向Tr上。
權(quán)利要求
1.一種物鏡驅(qū)動裝置,具有物鏡、保持該物鏡的透鏡支架、可使該透鏡支架移動地由多根金屬線支承的固定側(cè)構(gòu)件、以及將所述透鏡支架至少朝聚焦方向及跟蹤方向驅(qū)動的驅(qū)動機構(gòu),其特征在于,所述驅(qū)動機構(gòu)具有通過大致U字形狀的磁極邊界部分而具有鄰接不同磁極的磁化對置面的驅(qū)動磁鐵;跨越磁極邊界部分狀而與所述磁化對置面相對配置的聚焦驅(qū)動線圈及跟蹤驅(qū)動線圈;將所述透鏡支架朝傾斜方向驅(qū)動用的傾斜驅(qū)動線圈,該傾斜驅(qū)動線圈,在所述聚焦驅(qū)動線圈及所述跟蹤驅(qū)動線圈與所述磁化對置面的對置方向上,在與所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈的至少某一方重疊的位置上,與所述磁化對置面相對配置著。
2.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,所述傾斜驅(qū)動線圈卷繞成大致方形,并跨越所述磁極邊界部分狀而與所述磁化對置面相對配置。
3.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈卷繞成具有斜邊部的大致梯形,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈被配置成雙方的斜邊部相互間鄰接的狀態(tài),并位于大致同一平面上。
4.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈分別被卷繞成具有短邊部、長邊部、連接所述短邊部與長邊部的2條斜邊部的大致梯形,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈配置在大致同一平面上,并形成雙方的長邊部成為相互正交方向的狀態(tài)。
5.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,在所述透鏡支架的側(cè)面設(shè)有凹部,該凹部中配設(shè)所述傾斜驅(qū)動線圈,在所述凹部中配設(shè)所述傾斜驅(qū)動線圈,并且,所述聚焦驅(qū)動線圈被配置成在所述凹部上與所述傾斜驅(qū)動線圈重疊的狀態(tài)。
6.如權(quán)利要求5所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈分別被卷繞成具有短邊部、長邊部、連接所述短邊部與長邊部的2條斜邊部的大致梯形,所述聚焦驅(qū)動線圈和所述跟蹤驅(qū)動線圈配置在大致同一平面上,并形成雙方的斜邊部相互鄰接、雙方的長邊部成為相互正交方向的狀態(tài)。
7.如權(quán)利要求6所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,配設(shè)有所述傾斜驅(qū)動線圈的凹部,形成于所述透鏡支架的基端側(cè)側(cè)面和前端側(cè)側(cè)面的雙方,在雙方的側(cè)面上分別配置有所述傾斜驅(qū)動線圈、聚焦驅(qū)動線圈和跟蹤驅(qū)動線圈。
8.如權(quán)利要求5所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,配設(shè)有所述傾斜驅(qū)動線圈的凹部,凹設(shè)成比所述傾斜驅(qū)動線圈的厚度稍許深一點。
9.如權(quán)利要求1所述的物鏡驅(qū)動裝置,其特征在于,所述聚焦驅(qū)動線圈、所述跟蹤驅(qū)動線圈和所述傾斜驅(qū)動線圈中的至少1個是繞組型線圈。
10.一種光頭裝置,其特征在于,具有權(quán)利要求1至9中任一項所述的物鏡驅(qū)動裝置。
全文摘要
本發(fā)明的物鏡驅(qū)動裝置(1),包括具有由大致U字形狀的磁極分割線(12b)分極磁化的磁化對置面(12a)的驅(qū)動磁鐵(12);以及跨越磁極分割線(12b)、與磁化對置面(12a)相對配置的聚焦驅(qū)動線圈(9)及跟蹤驅(qū)動線圈(10)。又,物鏡驅(qū)動裝置(1)具有與磁化對置面(12a)相對配置的傾斜驅(qū)動線圈(11),形成在聚焦驅(qū)動線圈(9)及跟蹤驅(qū)動線圈(10)與磁化對置面(12a)的對置方向上、與聚焦驅(qū)動線圈(9)及跟蹤驅(qū)動線圈(10)重疊的狀態(tài)。故能提供在使用通過大致U字形狀的磁極邊界部分而具有不同的磁極鄰接的磁化對置面的驅(qū)動磁鐵的物鏡驅(qū)動裝置中、具有傾斜功能并能適應(yīng)高速化的結(jié)構(gòu)。
文檔編號G11B7/09GK1677518SQ200510054398
公開日2005年10月5日 申請日期2005年3月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月8日
發(fā)明者坂本學(xué), 橫內(nèi)毅 申請人:株式會社三協(xié)精機制作所
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