本申請(qǐng)涉及顯示面板技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及柔性觸摸屏的制作方法及柔性觸摸屏。

背景技術(shù)：

隨著有機(jī)發(fā)光二極管(organiclightemittingdiode，oled)顯示技術(shù)的逐漸成熟，柔性顯示技術(shù)也受到了越來(lái)越多的市場(chǎng)關(guān)注。在柔性顯示屏上包括基底和導(dǎo)電層，基底采用柔性透明材料制作，導(dǎo)電層通常由氧化銦錫(ito)制作。但是由于ito的彎折性能較差，當(dāng)柔性顯示屏的彎曲程度較大時(shí)，導(dǎo)電層的導(dǎo)電性能會(huì)急劇下降，影響柔性顯示屏的顯示性能。因此，如何提高柔性顯示屏導(dǎo)電層彎折之后的顯示性能，是本發(fā)明需要解決的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了柔性觸摸屏的制作方法及柔性觸摸屏，能夠用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種柔性顯示屏的制作方法，該方法包括：

在所提供的柔性基底上生成金屬納米材料層；

在所述金屬納米材料層上生成ito層；

對(duì)所述金屬納米材料層以及所述ito層進(jìn)行圖形化，用于在所述柔性基底上生成柔性顯示屏的導(dǎo)電層。

優(yōu)選地，在所提供的柔性基底上生成金屬納米材料層，具體包括：

將金屬納米材料的溶液均勻分布在所提供的柔性基底上；

將金屬納米材料的溶液中的溶劑蒸發(fā)，用于在所述柔性基底上生成金屬納米材料層。

優(yōu)選地，在所述金屬納米材料層上生成ito層，具體包括：

將ito溶液均勻分布在所述金屬納米材料層上；

將ito溶液中的溶劑蒸發(fā)，用于在所述金屬納米材料層上生成ito層。

優(yōu)選地，在所述金屬納米材料層上生成ito層，具體包括：

利用物理氣相沉積pvd在所述金屬納米材料層上生成ito層。

優(yōu)選地，根據(jù)所述柔性基底以及所述導(dǎo)電層制作柔性顯示屏，具體包括：

在所述導(dǎo)電層上制作柔性保護(hù)層，并在所述柔性基底的背面生成信號(hào)屏蔽層，用于生成柔性顯示屏。

優(yōu)選地，對(duì)所述金屬納米材料層以及所述ito層進(jìn)行圖形化，具體包括：

在所述ito層上生成保護(hù)層；

通過(guò)帶溝道的掩模板對(duì)所述保護(hù)層進(jìn)行遮擋；

將通過(guò)所述掩模板進(jìn)行遮擋之后的保護(hù)層曝光和顯影，用于在所述保護(hù)層形成溝道；

清除溝道中的ito以及金屬納米材料。

優(yōu)選地，在清除溝道中的ito以及金屬納米材料之后，所述方法還包括：清除保護(hù)層。

優(yōu)選地，所述金屬納米材料具體為：金屬納米線。

優(yōu)選地，所述金屬納米線的金屬具體為：電導(dǎo)率大于預(yù)設(shè)電導(dǎo)率的金屬或金屬合金。

本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種柔性顯示屏，所述柔性顯示屏通過(guò)本申請(qǐng)是試題所提供的任意一項(xiàng)柔性顯示屏的制作方法制作得到。

本申請(qǐng)實(shí)施例采用的上述至少一個(gè)技術(shù)方案能夠達(dá)到以下有益效果：

采用本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的柔性觸摸屏的制作方法，在所提供的柔性基底上生成金屬納米材料層，在金屬納米材料層上生成ito層；對(duì)金屬納米材料層以及ito層進(jìn)行圖形化，用于在柔性基底上生成導(dǎo)電層；根據(jù)柔性基底以及導(dǎo)電層制作柔性顯示屏。由于通過(guò)圖形化所得到的導(dǎo)電層包括金屬納米材料層和ito層，ito能夠嵌入金屬納米材料之間，即使柔性顯示屏彎曲程度較大，ito碎裂成微米尺度的小碎片，小碎片自身導(dǎo)電性能依然優(yōu)秀，小碎片之間可以通過(guò)金屬納米材料進(jìn)行串連，使得導(dǎo)電層也能夠有較好的導(dǎo)電性能，因此能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。

附圖說(shuō)明

此處所說(shuō)明的附圖用來(lái)提供對(duì)本申請(qǐng)的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本申請(qǐng)的示意性實(shí)施例及其說(shuō)明用于解釋本申請(qǐng)，并不構(gòu)成對(duì)本申請(qǐng)的不當(dāng)限定。在附圖中：

圖1本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的柔性觸摸屏的制作方法的流程示意圖；

圖2本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的柔性觸摸屏的制作方法的場(chǎng)景示意圖

圖3為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的柔性觸摸屏的橫截面結(jié)構(gòu)圖；

圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的柔性觸摸屏的導(dǎo)電層和基底俯視圖；

圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的柔性觸摸屏的制作方法，在實(shí)際應(yīng)用中的場(chǎng)景示意圖；

圖6為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的柔性觸摸屏的制作方法，在實(shí)際應(yīng)用中的流程示意圖。

具體實(shí)施方式

為使本申請(qǐng)的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本申請(qǐng)具體實(shí)施例及相應(yīng)的附圖對(duì)本申請(qǐng)技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實(shí)施例僅是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒旧暾?qǐng)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本申請(qǐng)保護(hù)的范圍。

以下結(jié)合附圖，詳細(xì)說(shuō)明本申請(qǐng)各實(shí)施例提供的技術(shù)方案。

本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種柔性觸摸屏的制作方法，能夠用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。該方法的具體流程示意圖如圖1所示，包括下述步驟：

步驟s21：提供一柔性基底。

所提供的柔性基底也可以是有機(jī)柔性材料制作的柔性基底，其中有機(jī)柔性材料可以是聚酰亞胺(polyimide，pi)、pet塑料(polyethyleneterephthalate，聚對(duì)苯二甲酸類塑料)等；另外由于柔性基底制作柔性顯示屏，因此所提供的柔性基底也可以是透光性能達(dá)到目標(biāo)透光度的柔性基底，比如，為了提高所制作的柔性顯示屏的顯示性能，可能會(huì)要求柔性基底的透光度大于或等于某個(gè)最小值。

步驟s12：在所提供的柔性基底上生成金屬納米材料層。

這里的金屬納米材料可以是金屬納米線、金屬納米管等，對(duì)于金屬納米材料的形態(tài)可以不做限定。另外，由于在柔性基底上制作導(dǎo)電層，這里的金屬自身需要有良好的導(dǎo)電性能，通?？梢赃x擇電導(dǎo)率較高的金屬如鎳、銅、銀、金或具有較大電導(dǎo)率(該合金的電導(dǎo)率大于預(yù)設(shè)電導(dǎo)率)的金屬合金。比如，這里的金屬納米材料可以是銀納米線、銅納米線等，也可以是其他具有良好導(dǎo)電性能的金屬的納米線或納米管等。

通常可以將預(yù)設(shè)電導(dǎo)率的大小設(shè)置為25西門(mén)子/米(也可以為其它值)，將大于該電導(dǎo)率的金屬或金屬合金所制作的納米材料，生成金屬納米材料層。當(dāng)然，預(yù)設(shè)電導(dǎo)率的大小也可以根據(jù)需要進(jìn)行設(shè)定，比如當(dāng)柔性顯示屏中需要制作高導(dǎo)電性能的導(dǎo)電層時(shí)，可以設(shè)置較大的預(yù)設(shè)電導(dǎo)率，當(dāng)柔性顯示屏的導(dǎo)電層的導(dǎo)電性能要求較低時(shí)，可以設(shè)置較小的預(yù)設(shè)電導(dǎo)率。

在柔性基底上生成金屬納米材料層的方式可以有多種，比如可以將金屬納米材料濺射到柔性基底，從而生成金屬納米材料層。通常為了使得金屬納米材料在柔性基底上更加均勻地分布，也可以將金屬納米材料制備成溶液或者溶膠等液體，然后將溶液或者溶膠均勻分布在基底上，之后將其中的溶劑蒸發(fā)掉，從而使得在基底上生成均勻分布的金屬納米材料層。

這種通過(guò)金屬納米材料制備成溶液或者溶膠，來(lái)制作金屬納米材料層的方式，能夠使得金屬納米材料層的厚度更加均勻，最終所得到的導(dǎo)電層的厚度也更加均勻。

需要說(shuō)明的是，由于金屬納米材料的顆粒較小，比表面積較大，在彎曲的情況下相對(duì)于ito，導(dǎo)電性能變化較小，適應(yīng)于彎折較大情況下的顯示。

步驟s13：在金屬納米材料層上生成ito層。

在生成金屬納米材料層之后，在金屬納米材料層之上進(jìn)一步的生成ito層。生成該ito層的方式可以有多種，這里可以列舉其中的幾種方式：

方式一：將ito溶液均勻分布在金屬納米材料層上，然后將ito溶液中的溶劑蒸發(fā)，從而在金屬納米材料層上生成ito層。

通常為了使得所生成的ito層更加均勻，也可以將ito溶液均勻分布在金屬納米材料層上，并最終蒸發(fā)掉其中的溶劑來(lái)生成ito層，這種方式所生成的ito層均勻性較高。

方式二：也可以利用物理氣相沉積(physicalvapordeposition，pvd)的方法，在金屬納米材料層上生成ito層。物理氣相沉積的方式是指，利用物理過(guò)程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將ito分子由源轉(zhuǎn)移到柔性基底上。通常物理氣相沉積可以包括：真空蒸發(fā)、濺射等離子鍍，可以使某些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。

需要說(shuō)明的是，當(dāng)柔性顯示屏在顯示過(guò)程中，導(dǎo)電層可能會(huì)出現(xiàn)高溫的情況，而由于金屬納米材料的比表面積較大，使得其中的金屬納米材料易于被氧化，影響導(dǎo)電性能，因此在金屬納米材料層上進(jìn)一步的生成ito層，還可以用于對(duì)金屬納米材料進(jìn)行保護(hù)。

步驟s14：對(duì)金屬納米材料層以及ito層進(jìn)行圖形化，用于在柔性基底上生成導(dǎo)電層。

對(duì)金屬納米材料層以及ito層進(jìn)行圖形化時(shí)，可以先在ito層上生成保護(hù)層，然后對(duì)保護(hù)層進(jìn)行圖形化，從而形成溝道，之后清除溝道中的ito和金屬納米材料。根據(jù)生成保護(hù)層的材料的不同，可以有多種生成方式，比如，可以將光刻膠材料均勻涂布在ito層之上，然后蒸發(fā)吊其中的溶劑，從而形成光刻膠層作為保護(hù)層，用于在對(duì)金屬納米材料層以及ito層進(jìn)行圖形化時(shí)，對(duì)所覆蓋的ito材料和金屬納米材料(溝道之外的部分)進(jìn)行保護(hù)；當(dāng)然，也可以通過(guò)其它刻蝕防護(hù)材料生成保護(hù)層，這里就不再一一贅述。

其中，在ito層上成光刻膠層作為保護(hù)層時(shí)，可以是將光刻膠的溶液均勻涂布在ito層上，然后將光刻膠的溶液中的溶劑蒸發(fā)，從而形成保護(hù)層，當(dāng)光刻膠溶液濃度較高時(shí)，也可以直接將光刻膠溶液作為保護(hù)層，通過(guò)高濃度的光刻膠溶液直接作為保護(hù)層，可以簡(jiǎn)化工藝流程，而無(wú)需蒸發(fā)其中的溶劑。根據(jù)制備的需要，將金屬納米材料和光刻膠制備成液體的溶劑，通?？梢詾槎谆柞０返扔袡C(jī)溶劑或者去離子水。

通過(guò)對(duì)保護(hù)層進(jìn)行圖形化，能夠在該保護(hù)層形成溝道。對(duì)該保護(hù)層進(jìn)行圖形化處理的方式可以是，先通過(guò)帶窗口的掩模板對(duì)該保護(hù)層進(jìn)行遮擋，在遮擋之后通過(guò)平行光線對(duì)保護(hù)層進(jìn)行曝光，然后對(duì)曝光后的保護(hù)層進(jìn)行顯影，從而去除保護(hù)層中已被曝光的光刻膠，并最終在保護(hù)層中形成溝道。

當(dāng)然根據(jù)所使用的光刻膠的不同，對(duì)保護(hù)層進(jìn)行圖像化還可以采用諸如加熱等其他方式，這里就不再一一說(shuō)明。

在對(duì)保護(hù)層進(jìn)行圖形化，形成溝道之后，可以依次清除溝道中的ito和金屬納米材料。清除溝道中的ito時(shí)，可以先用濃硫酸和雙氧水的混合溶液進(jìn)行超聲浸泡，之后用氫氟酸進(jìn)行超聲浸泡，最后用去離子水沖洗，這樣能夠清除溝道中的ito，當(dāng)然也可以采用其它的方式清除ito。在清除溝道中的ito之后，還需要清除其中的金屬納米材料，清除金屬納米材料時(shí)，由于其吸附能力較強(qiáng)，可以采用諸如乙醇、丙醇等醇類有機(jī)溶劑或者去離子水多次沖洗。

在清除溝道中的ito和金屬納米材料之后，在基底上形成了由ito和金屬納米材料組成的導(dǎo)電層，金屬納米材料層介于ito層和基底之間并被，并且金屬納米材料層中的金屬納米材料被ito層所包裹，可以有效防止金屬納米材料被氧化。另外，當(dāng)金屬納米材料為金屬納米線或金屬納米管時(shí)，金屬納米線或金屬納米管的長(zhǎng)度一般為≥50μm，而半徑一般為納米量級(jí)，因此所制備的導(dǎo)電網(wǎng)絡(luò)通常會(huì)有空隙，在金屬納米材料層上生成ito層之后，ito可以進(jìn)入金屬納米線或金屬納米管中的空隙，從而包裹金屬納米線或金屬納米管，此時(shí)即使導(dǎo)電層由于彎曲程度過(guò)大而導(dǎo)致ito層碎裂，也可以通過(guò)金屬納米線或金屬納米管將碎片串連，增加導(dǎo)電層的導(dǎo)電性，從而增加柔性顯示屏的解析度和靈敏度。

通過(guò)ito和金屬納米材料組成的導(dǎo)電層，即使彎曲程度較大時(shí)，ito會(huì)碎裂成微米尺度的小碎片，小碎片自身導(dǎo)電性能依然優(yōu)秀，小碎片之間可以通過(guò)金屬納米材料進(jìn)行串連，導(dǎo)電性能也較高，因此由ito和金屬納米材料組成的導(dǎo)電層在相對(duì)于現(xiàn)有的僅僅只由ito生成的導(dǎo)電層，在更高的彎曲程度下，導(dǎo)電性能也較好。

如圖2所示，基底上先生成金屬納米線層，然后生成ito層，之后進(jìn)行圖形化處理后得到的基底以及導(dǎo)電層，在導(dǎo)電層中，納米線嵌入ito并且將ito串連，此時(shí)即使發(fā)生大幅度的彎折，ito小碎片也能通過(guò)納米線串連，從而相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)能夠提高導(dǎo)電性能。

當(dāng)然，在柔性基底上生成導(dǎo)電層之后，還可以進(jìn)一步的清理溝道中的ito和金屬納米材料，因此還可以通過(guò)去離子水和/或乙醇對(duì)溝道進(jìn)行清洗。

在柔性基底上生成金屬納米材料層時(shí)，為了使得金屬納米材料在基底上均勻分布，通?？梢酝ㄟ^(guò)溶劑將金屬納米材料制備成溶液或者溶膠等液體，當(dāng)溶劑為去離子水時(shí)，此時(shí)可以采用去離子水進(jìn)行清洗，當(dāng)溶劑為有機(jī)溶劑時(shí)，此時(shí)可以采用乙醇對(duì)溝道進(jìn)行清洗。當(dāng)然在對(duì)溝道進(jìn)行清洗的過(guò)程中，也可以先后使用乙醇和去離子水對(duì)其進(jìn)行清洗。具體的清洗方式可以是沖洗(將去離子水和/或乙醇沖洗溝道)或者浸泡等，這里對(duì)此并不限定。類似的對(duì)ito進(jìn)一步清洗時(shí)，也可以根據(jù)ito溶液的溶劑類型，選擇合適的清洗溶液。

另外，在實(shí)際應(yīng)用中，由于光刻膠并不導(dǎo)電或?qū)щ娦阅茌^差，在一些情況下需要對(duì)其進(jìn)行清除，因此，在生成導(dǎo)電層之后，還可以清除保護(hù)層。

對(duì)于保護(hù)層的清除，可以采用光刻膠清洗劑對(duì)保護(hù)層剩余的光刻膠進(jìn)行清洗，從而對(duì)其進(jìn)行清除。當(dāng)然，根據(jù)光刻膠的不同，也可以采用諸如加熱或者其它方式來(lái)清除光刻膠。

在實(shí)際應(yīng)用中，當(dāng)需要在柔性基底上生成多個(gè)導(dǎo)電層時(shí)，為了防止導(dǎo)電層之間相互隔離，需要對(duì)保護(hù)層進(jìn)行清除。如果只需要生成一層導(dǎo)電層，也可以不清除保護(hù)層。

步驟s15：根據(jù)柔性基底以及導(dǎo)電層制作柔性顯示屏。

柔性顯示屏包括柔性基底以及導(dǎo)電層，在實(shí)際應(yīng)用中為了對(duì)柔性基底以及導(dǎo)電層進(jìn)行保護(hù)，在導(dǎo)電層之上還可以包括透明的柔性保護(hù)層；另外為了防止柔性顯示屏所在的電子設(shè)備的干擾，在柔性顯示屏的背面(將導(dǎo)電層所在的一面作為正面)，還可以增加屏蔽層，用于屏蔽電子設(shè)備的干擾信號(hào)。

在導(dǎo)電層上增加柔性保護(hù)層，可以將柔性保護(hù)層通過(guò)pin腳等方式固定在柔性基底上。在柔性基底的背面增加屏蔽層，由于屏蔽層也為金屬導(dǎo)體，也可以將該金屬在柔性基底的背面進(jìn)行電沉積從而形成屏蔽層，當(dāng)然，也可以采用其它的方式來(lái)生成屏蔽層。

采用本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的柔性觸摸屏的制作方法，在所提供的柔性基底上生成金屬納米材料層，在金屬納米材料層上生成ito層；對(duì)金屬納米材料層以及ito層進(jìn)行圖形化，用于在柔性基底上生成導(dǎo)電層；根據(jù)柔性基底以及導(dǎo)電層制作柔性顯示屏。由于通過(guò)圖形化所得到的導(dǎo)電層包括金屬納米材料層和ito層，ito能夠嵌入金屬納米材料之間，即使柔性顯示屏彎曲程度較大，ito碎裂成微米尺度的小碎片，小碎片自身導(dǎo)電性能依然優(yōu)秀，小碎片之間可以通過(guò)金屬納米材料進(jìn)行串連，使得導(dǎo)電層也能夠有較好的導(dǎo)電性能，因此能夠解現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。

如圖3所示為本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的柔性觸摸屏的橫截面結(jié)構(gòu)，該柔性觸摸屏包括屏蔽層21、柔性基底22(可以是pet柔性基底)、導(dǎo)電層23和柔性保護(hù)層24，其中導(dǎo)電層包括金屬納米材料層231和ito層232。圖3所示為該柔性觸摸屏的基底22和導(dǎo)電層23的俯視圖。由圖4可知，柔性觸摸屏的基底22上有多個(gè)區(qū)塊，這些區(qū)塊共同組成了導(dǎo)電層23，并且區(qū)塊之間形成溝道。

采用本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的柔性觸摸屏，由于該柔性觸摸屏通過(guò)本申請(qǐng)實(shí)施例所提供的方法制作得到，導(dǎo)電層包括金屬納米材料層和ito層，在金屬納米材料層上生成ito層之后，ito可以進(jìn)入金屬納米材料的空隙，即使柔性顯示屏的彎曲程度較大，也能夠正常顯示，因此也能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中的問(wèn)題。

為了便于理解，下面可以列舉制備柔性顯示屏的方法的具體實(shí)例。結(jié)合圖5和圖6，對(duì)該示例進(jìn)行說(shuō)明。在該示例中，保護(hù)層材料具體為通過(guò)光刻膠生成的光刻膠層。

步驟s31：提供pet柔性基底42。

步驟s32：在pet柔性基底42上生成銀納米線層431。

通過(guò)銀納米線在pet柔性基底上均勻分布，然后蒸發(fā)其中的溶劑。

步驟s33：在銀納米線層431上生成ito層432。

將ito溶液均勻分布在銀納米線層431，然后蒸發(fā)掉其中的溶劑。

步驟s34：將光刻膠溶液均勻分布在ito層432上，作為光刻膠層44。

步驟s35：使用帶圖案窗口的掩模板45對(duì)光刻膠層44進(jìn)行遮擋，在遮擋之后對(duì)光刻膠層44進(jìn)行曝光和顯影，用于在光刻膠層形成溝道。

步驟s36：清除溝道中的ito和金屬納米材料，從而在pet柔性基底42上生成導(dǎo)電層43。

步驟s37：清除光刻膠層44。

步驟s38：在導(dǎo)電層44上增加柔性保護(hù)層46。

步驟s39：在pet柔性基底42背面增加屏蔽層47。

需要說(shuō)明的是，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、商品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、商品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括要素的過(guò)程、方法、商品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上僅為本申請(qǐng)的實(shí)施例而已，并不用于限制本申請(qǐng)。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本申請(qǐng)可以有各種更改和變化。凡在本申請(qǐng)的精神和原理之內(nèi)所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本申請(qǐng)的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。