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用于x射線分析器的光軸調(diào)整方法和x射線分析器的制造方法_3

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如以下描述的光軸調(diào)整操作時(shí), 從樣本臺(tái)2移除樣本S并且允許X射線自由地穿過(guò)放置樣本S的位置(在下文中,也被稱為 "樣本位置"),或者在樣本臺(tái)2上放置中心狹縫或光軸調(diào)整夾具。
[0039] 入射側(cè)臂3支承X射線管7和入射側(cè)狹縫8。在X射線管7之內(nèi)提供X射線源F。 在X射線管7之內(nèi)提供燈絲(未示出)作為陰極,并且提供靶(未示出)作為對(duì)陰極。從燈絲 釋放的熱電子能夠與靶的表面碰撞的區(qū)域是X射線焦點(diǎn),從所述X射線焦點(diǎn)發(fā)射X射線。X 射線焦點(diǎn)組成X射線源F。在本實(shí)施例中,X射線源F是針對(duì)在圖紙表面貫穿方向上延伸的 線聚焦的X射線焦點(diǎn)。入射側(cè)狹縫8的狹縫槽在圖紙表面貫穿方向上延伸。
[0040] 接收側(cè)臂4包括一維X射線檢測(cè)器11,其是具有在線性區(qū)域之內(nèi)的X射線強(qiáng)度位 置分辨的X射線檢測(cè)器。所述一維X射線檢測(cè)器11例如由位置敏感比例計(jì)數(shù)器(PSPC)、一 維電荷耦合器件(CCD)陣列或者一維光子計(jì)數(shù)像素陣列組成。如示意性地示出的那樣,例 如,在圖16B中,通過(guò)將能夠檢測(cè)X射線的多個(gè)像素(S卩,檢測(cè)區(qū)域)61排列成在與接收側(cè)臂 4延伸的方向正交的方向上的線來(lái)形成一維X射線檢測(cè)器11。多個(gè)像素61被排列在一維 X射線檢測(cè)器11可以接收X射線的區(qū)域之內(nèi),所述區(qū)域被稱為X射線接收區(qū)域。即,一維X 射線檢測(cè)器11能夠檢測(cè)在與接收側(cè)臂4延伸的方向正交的線性區(qū)域之內(nèi)的在像素級(jí)的X 射線強(qiáng)度。換言之,一維X射線檢測(cè)器11具有在與接收側(cè)臂4延伸的方向正交的線性區(qū)域 之內(nèi)的X射線強(qiáng)度的位置分辨。
[0041] 接收側(cè)臂3由es旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置12驅(qū)動(dòng),從而參與環(huán)繞樣本軸XO的es旋轉(zhuǎn)。 eS旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置12根據(jù)來(lái)自控制裝置13的命令以預(yù)定的定時(shí)和預(yù)定的角條件旋轉(zhuǎn)入射 側(cè)臂3??刂蒲b置13由計(jì)算機(jī)組成,所述計(jì)算機(jī)包括中央處理單元(CPU)和存儲(chǔ)器(存儲(chǔ)介 質(zhì))。以下描述的用于執(zhí)行2 0調(diào)整、Zs軸調(diào)整、以及0調(diào)整的軟件被存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中。
[0042] 接收側(cè)臂4由0d旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置14驅(qū)動(dòng),以參與環(huán)繞樣本軸XO的0d旋轉(zhuǎn)。0d 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置14根據(jù)來(lái)自控制裝置13的命令以預(yù)定的定時(shí)和預(yù)定的角條件旋轉(zhuǎn)接收側(cè)臂 4。0s旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置12和0d旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置14由合適的動(dòng)力傳輸機(jī)構(gòu)(諸如使用蝸桿和 蝸輪的動(dòng)力傳輸機(jī)構(gòu))形成。
[0043] 可以使用狹縫開(kāi)啟/關(guān)閉驅(qū)動(dòng)裝置17來(lái)調(diào)整入射側(cè)狹縫8的狹縫寬度。狹縫開(kāi) 啟/關(guān)閉驅(qū)動(dòng)裝置17根據(jù)來(lái)自控制裝置13的命令進(jìn)行操作。入射側(cè)狹縫8能夠在與入射 X射線的中心線RO正交的方向(即,在圖1中的垂直方向A-A')上移動(dòng),同時(shí)維持恒定的狹 縫寬度。Zs移動(dòng)裝置19根據(jù)來(lái)自控制裝置13的命令將入射側(cè)狹縫8從方向A朝向方向 A'線性地移動(dòng)期望的距離。由控制裝置13接通和關(guān)斷X射線源F。來(lái)自一維X射線檢測(cè) 器11的像素中的每一個(gè)的輸出信號(hào)被X射線強(qiáng)度計(jì)算電路18轉(zhuǎn)換成預(yù)定數(shù)據(jù)格式的強(qiáng)度 信號(hào),并且被傳輸?shù)娇刂蒲b置13。在一些情況下,可以在一維X射線檢測(cè)器11之內(nèi)提供X 射線強(qiáng)度計(jì)算電路18。
[0044] 在啟動(dòng)時(shí),在步驟Sl中,控制裝置13將在圖1中示出的各種裝置設(shè)置成預(yù)定的初 始設(shè)置,如在圖2中示出的那樣。接著,如果已經(jīng)使用諸如鍵盤(pán)或鼠標(biāo)之類的輸入裝置輸入 了用于設(shè)置光軸的指示,則在步驟S2中進(jìn)行"是"的評(píng)定,并且,在步驟S3中執(zhí)行光軸調(diào)整 過(guò)程。
[0045] 如果在步驟S2中尚未進(jìn)行用于設(shè)置光軸的指示,則過(guò)程繼續(xù)到步驟S4,檢查是否 已經(jīng)給出了用于執(zhí)行測(cè)量的指示,并且,如果是這樣的話,則過(guò)程繼續(xù)到步驟S5,并且,執(zhí)行 X射線測(cè)量。在完成X射線確定之后,在步驟S6中檢查是否已經(jīng)給出了用于分析所測(cè)量的 數(shù)據(jù)的指示,并且,如果是這樣的話,則在步驟S7中執(zhí)行分析過(guò)程。隨后,在步驟S8中檢查 是否已經(jīng)給出了用于結(jié)束使用裝置的指示,并且,如果是這樣的話,則結(jié)束控制。
[0046] (I)X射線測(cè)量 接著,將描述在圖2的步驟S5中執(zhí)行的X射線測(cè)量的示例。在本實(shí)施例中,將假設(shè)對(duì) 粉末樣本執(zhí)行X射線衍射測(cè)量。目前已知各種類型的X射線測(cè)量。因此,必要時(shí)根據(jù)目標(biāo) X射線測(cè)量來(lái)選擇實(shí)際執(zhí)行的X射線測(cè)量的類型。
[0047] 如果X射線測(cè)量由對(duì)粉末樣本執(zhí)行的X射線衍射測(cè)量組成,則將粉末樣本S放置 在圖1中的樣本臺(tái)2上。具體地,粉末樣本S被裝填到預(yù)定的樣本支架中,其被放置在樣本 臺(tái)2上。以這種方式,樣本S因此被放置在X射線分析器1之內(nèi)的預(yù)定的樣本位置處,并且 當(dāng)操作者給出用于開(kāi)始測(cè)量的指示時(shí)測(cè)量開(kāi)始。
[0048] 具體地,在圖3中,通過(guò)入射側(cè)臂3的0s旋轉(zhuǎn)對(duì)X射線源F進(jìn)行0旋轉(zhuǎn)。同時(shí), 通過(guò)接收側(cè)臂4的0d旋轉(zhuǎn)對(duì)一維X射線檢測(cè)器11進(jìn)行2 0旋轉(zhuǎn)。當(dāng)X射線源F正在經(jīng) 歷e旋轉(zhuǎn)并且X射線檢測(cè)器11正在經(jīng)歷2 0旋轉(zhuǎn)時(shí),由X射線源F發(fā)射的X射線變成入 射到樣本S上。當(dāng)符合在入射到樣本S上的X射線和在樣本S之內(nèi)的晶格平面之間的衍射 條件時(shí),由樣本S衍射X射線,并且,由一維X射線檢測(cè)器11檢測(cè)衍射的X射線。基于來(lái)自 X射線檢測(cè)器11的輸出信號(hào)確定針對(duì)衍射角2 0的在各種角位置處的衍射的X射線的X射 線強(qiáng)度,并且該X射線強(qiáng)度變成X射線衍射測(cè)量結(jié)果數(shù)據(jù)。
[0049] 這里描述的X射線衍射測(cè)量是X射線測(cè)量的一個(gè)示例,并且必要時(shí)可以實(shí)際地執(zhí) 行不同于X射線衍射測(cè)量的另一合適類型的測(cè)量。
[0050] (2)光軸調(diào)整 接著,將描述在圖2的步驟3中執(zhí)行的光軸調(diào)整。該光軸調(diào)整由以下三種類型組成: 2 0調(diào)整、Zs軸調(diào)整、以及0調(diào)整。以下將單獨(dú)地描述這些各種類型的調(diào)整。
[0051] (2-1)2 0 調(diào)整 29調(diào)整是用于將在X射線分析器1 (圖1)的光學(xué)系統(tǒng)中的20 = 0°的角位置和從X射線源F到達(dá)X射線檢測(cè)器11的X射線的中心線對(duì)準(zhǔn)的調(diào)整。
[0052] 2 0調(diào)整涉及確定0d校正值用于在入射側(cè)狹縫8以預(yù)定的孔徑被設(shè)置成開(kāi)啟狀 態(tài)的情況下校正X射線檢測(cè)器11的角度。具體地,在圖3中,所述過(guò)程涉及設(shè)置入射側(cè)臂3 以設(shè)置成9 = 0°,也將接收側(cè)臂4設(shè)置成0 = 0°,并且將光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置到圖1中示出 的20 =0°的狀態(tài),然后調(diào)整使得從X射線源F到達(dá)X射線檢測(cè)器11的X射線的中心線 RO與一維X射線檢測(cè)器11的2 0 = 0°的角位置對(duì)準(zhǔn)。
[0053]在2 0調(diào)整中,如在圖1中示出的那樣,首先將入射側(cè)臂3設(shè)置到0 s=0°,將接 收側(cè)臂4設(shè)置到0d= 0°,并且將光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置到20 = 0°。接著,由開(kāi)啟/關(guān)閉驅(qū)動(dòng) 裝置17將入射側(cè)狹縫8設(shè)置成開(kāi)啟狀態(tài)。然后從樣本臺(tái)2移除樣本S,并且將中心狹縫20 放置在樣本臺(tái)2上來(lái)代替樣本S,如在圖4中示出的那樣。
[0054] 在以圖4中所示的狀態(tài)固定一維X射線檢測(cè)器11的情況下,從X射線源F發(fā)射X 射線,并且,由X射線檢測(cè)器11檢測(cè)穿過(guò)開(kāi)啟的入射側(cè)狹縫8和中心狹縫20的X射線。一 維X射線檢測(cè)器11具有針對(duì)在與X射線的方向正交的方向上的X射線強(qiáng)度的位置分辨,由 此所述檢測(cè)器11可以經(jīng)由來(lái)自X射線源F的一輪X射線照射獲得如圖5中所示出的在2 0 方向上的預(yù)定角度區(qū)域之內(nèi)的X射線輪廓Pl。
[0055] 假設(shè)輪廓Pl的峰值位置從2 0 = 0°偏差8〇,偏差量SO指示0d軸的偏差量 與X射線檢測(cè)器11的偏差量的總和。在這種情況下,可以通過(guò)將偏差量SO設(shè)置為針對(duì)在 圖5中示出的X射線測(cè)量結(jié)果數(shù)據(jù)的0d軸的校正值來(lái)執(zhí)行針對(duì)20方向的光軸調(diào)整。具 體地,通過(guò)將接收側(cè)臂4移動(dòng)圖3中的偏差量S〇的距離來(lái)調(diào)整X射線檢測(cè)器11的位置。 如果諸如狹縫、單色儀等等的X射線光學(xué)元件被安裝在接收側(cè)臂4上,則也調(diào)整這樣的X射 線光學(xué)元件的位置。
[0056] 在圖5中所示的示例中,S〇是〇. 2831°。因此,能夠通過(guò)從針對(duì)由X射線檢測(cè)器 11獲得的數(shù)據(jù)中的2 0的值中減去SO= 0.2831°來(lái)校正在2 0方向上的偏差、即校正關(guān) 于Qd軸的偏差。在圖5中示出的峰值波形P2是通過(guò)在負(fù)方向上按照SO= 0.2831°校 正由峰值波形Pl示出的原始測(cè)量數(shù)據(jù)而獲得的校正的峰值波形,并且峰值波形P2的峰值 與2 0 = 0。對(duì)準(zhǔn)。
[0057] (2-2)Zs軸調(diào)整 接著,將描述Zs軸調(diào)整。Zs軸調(diào)整涉及將在圖1中示出的入射側(cè)狹縫8設(shè)置到關(guān)于 從X射線源F到達(dá)X射線檢測(cè)器11的X射線的光軸RO的合適的位置。在Zs軸調(diào)整中,在 X射線分析器1處于圖1中示出的狀態(tài)(即,20 =0° )的情況下,從樣本臺(tái)2移除樣本2, 使得X射線可以自由地穿過(guò)樣本位置。
[0058] 接著,由在圖1中示出的Zs移動(dòng)裝置19將Zs軸(S卩,入射側(cè)狹縫8)沿著圖1中 示出的A-A'方向移動(dòng)到第一位置Ql(諸如-0.5mm),如在圖6中示出的那樣。然后在該 狀態(tài)下由X射線源F發(fā)射X射線,并且由一維X射線檢測(cè)器11檢測(cè)穿過(guò)入射側(cè)狹縫8的X 射線。因?yàn)橐痪SX射線檢測(cè)器11包括在20方向上排列的X射線檢測(cè)像素,所以可以通過(guò) 單輪的X射線照射獲得圖7中示出的輪廓P3。輪廓P3的峰值pp3例如是2 0 = -0. 06°。
[0059] 接著,由在圖1中示出的Zs移動(dòng)裝置19將Zs軸(S卩,入射側(cè)狹縫8)沿著在圖1 中示出的A-A'方向移動(dòng)到第二位置Q2 (諸如-0.2mm),如在圖8中示出的那樣。然后在 該狀態(tài)下由X射線源F發(fā)射X射線,并且由一維X射線檢測(cè)器11檢測(cè)穿過(guò)入射側(cè)狹縫8的 X射線。可以經(jīng)由該單輪X射線照射獲得在圖7中示出的輪廓P4。輪廓P4的峰值pp4例 如是 2 0 = 0. 11°。
[0060] 針對(duì)在圖6中示出的Zs軸上的Ql的位置信息(S卩,-0. 5mm)被投影為在圖7中 示出的圖表的2 0軸(S卩,橫軸)上的pp3 (-0.06° )。同時(shí),針對(duì)在圖8中示出的Zs軸上 的Q2的位置信息(S卩,-0. 2mm)被投影為在圖8中示出的圖表
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