1.一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：包括底座、水缸、樣品倉和控制裝置；所述水缸通過輸水管道與所述樣品倉連接，并且均設(shè)置于所述底座上；
所述控制裝置包括控制箱、1號真空泵、2號真空泵、控制面板和控制電路；所述1號真空泵和2號真空泵均設(shè)置于所述控制箱內(nèi)，并分別通過氣體管道與所述樣品倉連接；所述控制面板設(shè)置于所述控制箱外，并通過所述控制電路分別電連接于所述1號真空泵和2號真空泵。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：所述氣體管道包括抽氣主管、1號抽氣支管和2號抽氣支管；所述1號真空泵和2號真空泵分別通過所述1號抽氣支管和所述2號抽氣支管連接于所述抽氣主管的一端，所述抽氣主管的另一端連接于所述樣品倉；
所述1號抽氣支管和2號抽氣支管上分別設(shè)置有電磁真空閥，所述樣品倉內(nèi)設(shè)置有壓力檢測器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：所述樣品倉內(nèi)還設(shè)置有樣品置物支架和水位檢測計(jì)，所述水位檢測計(jì)的水位探頭滑動設(shè)置于所述樣品倉的側(cè)壁的滑動槽內(nèi)，且所述水位探頭的滑動的最大高度高于所述樣品置物支架的最大高度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：所述輸水管道的兩端分別連接于所述水缸的底部和所述樣品倉的底部，并且所述輸水管道還設(shè)置有第一電磁控制閥；
所述樣品倉的底部還設(shè)置有廢渣排出管道和第二電磁控制閥，所述第二電磁控制閥門設(shè)置于所述廢渣排出管道上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：所述樣品倉包括樣品倉蓋和樣品倉容器，所述樣品倉蓋與所述樣品倉容器之間設(shè)置有密封膠圈。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：所述樣品倉蓋的頂端設(shè)置有第三電磁控制閥，所述第三電磁控制閥的上端連接有旋轉(zhuǎn)手柄。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于檢測陶瓷吸水率的真空法測試裝置，其特征在于：所述樣品倉為不銹鋼的真空容器。