技術總結
本發(fā)明公開了一種真空吸平裝置及含其的料片檢測/移載設備。該真空吸平裝置具有一吸附載臺，一真空氣室，以及一可調(diào)整治具。該吸附載臺包含有一真空吸附平面，以及多數(shù)個設置于該真空吸附平面上的吸孔。該真空氣室具有一相鄰于該吸附載臺的吸孔一側(cè)的氣體導流面，以及一對該氣體導流面提供負壓的真空吸引單元。該可調(diào)整治具具有一可藉由第一調(diào)整機構調(diào)整并沿第一方向移動的第一遮板，以及一可藉由第二調(diào)整機構調(diào)整并沿第二方向移動的第二遮板，遮蔽該真空吸附平面上的部分吸孔，以界定一料片吸附區(qū)域。

技術研發(fā)人員：鄒嘉駿;蔡鴻儒;王人杰;徐志宏
受保護的技術使用者：由田新技股份有限公司
文檔號碼：201510237823
技術研發(fā)日：2015.05.12
技術公布日：2016.12.07