本發(fā)明有關(guān)于一種真空吸平裝置，以及含有該真空吸平裝置的料片檢測設(shè)備和料片移載設(shè)備。

背景技術(shù)：

自動光學檢查(Automated Optical Inspection,AOI)泛指運用機器視覺做為檢測標準的技術(shù)，比起公知的人眼檢測具有高速高精密度的優(yōu)點。應(yīng)用層面可涵蓋至高科技產(chǎn)業(yè)的研發(fā)、制造品管，以至國防、民生、醫(yī)療、環(huán)保、電力或其它的相關(guān)領(lǐng)域。

在自動光學檢測領(lǐng)域中，欲對料片進行檢測，常見的方式是藉由將料片裝設(shè)于載臺上，藉由抽真空的手段對該載臺提供負壓，藉由載臺上的氣孔將料片吸附于載臺上。然而，部分特殊材質(zhì)的料片經(jīng)由氣孔吸持后，于料片的邊緣常會產(chǎn)生翹曲的問題，導致影像偵測時所拍攝的料片影像常有失真的情形。

因此，為解決上述問題，中國臺灣第M449343號專利揭示一種用于平整料片的真空吸平裝置，該真空吸平裝置主要具有氣室、載臺及遮蔽治具。所述的氣室包含氣體導流面及真空吸引單元，所述的載臺具有多數(shù)第一吸孔。其中載臺設(shè)置于氣室上而相鄰于氣體導流面，且第一吸孔連通于氣體導流面。所述的遮蔽治具具有承載區(qū)。其中遮蔽治具設(shè)置于載臺上，承載區(qū)對應(yīng)料片的面積設(shè)置，而用以承載料片。遮蔽治具遮蔽一部分的第一吸孔，承載區(qū)具有多數(shù)第二吸孔，第二吸孔對應(yīng)于另一部分的第一吸孔而連通于氣體導流面，真空吸引單元對氣體導流面抽氣，而吸持承載區(qū)上的料片。藉由上述配置，可增進真空吸附設(shè)備整平料片的效果，解決公知容易發(fā)生料片邊緣翹曲的問題。

但，上述真空吸平裝置雖可有效的解決料片邊緣翹曲的問題，然而，所述的遮蔽治具常需要針對不同尺寸的料片個別進行客制化的設(shè)計，于實務(wù)上操作時常有不便之處。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明目的在于解決公知技術(shù)中對應(yīng)不同料片需客制化不同遮蔽治具而導致于實務(wù)操作上常有不便的問題。

本發(fā)明提供一種真空吸平裝置，用以吸附并整平料片，該真空吸平裝置具有一吸附載臺，一真空氣室，以及一可調(diào)整治具。該吸附載臺具有一真空吸附平面，以及多數(shù)個設(shè)置于該真空吸附平面上的吸孔。該真空氣室設(shè)置于該吸附載臺相對該真空吸附平面的另一側(cè)，該真空氣室具有一相鄰于該吸附載臺的吸孔一側(cè)的氣體導流面，以及一或多數(shù)個對該氣體導 流面提供負壓的真空吸引單元。該可調(diào)整治具具有對應(yīng)設(shè)置于該真空吸附平面或設(shè)置于該氣體導流面一側(cè)的第一遮板及第二遮板，該第一遮板可藉由第一調(diào)整機構(gòu)調(diào)整并沿第一方向移動，該第二遮板可藉由第二調(diào)整機構(gòu)調(diào)整并沿第二方向移動，遮蔽該真空吸附平面上的吸孔，以界定一料片吸附區(qū)域。

進一步地，該第一遮板及該第二遮板分別相對地設(shè)置于該吸附載臺的該真空吸附平面及該氣體導流面的一側(cè)。

進一步地，該第一調(diào)整機構(gòu)具有一或多數(shù)個固定該第一遮板的定位機構(gòu)，一設(shè)置于該定位機構(gòu)一側(cè)以限制該定位機構(gòu)沿一路徑移動的軌道部，以及一設(shè)置于該軌道部一側(cè)以帶動該定位機構(gòu)沿該路徑移動的驅(qū)動裝置。

進一步地，該軌道部成對設(shè)置于該第一遮板的兩側(cè)，該定位機構(gòu)具有設(shè)于二軌道上的定位塊，以及一設(shè)置于成對的該定位塊間并鎖固該第一遮板的固定板。

進一步地，該第二調(diào)整機構(gòu)具有一或多數(shù)個固定該第二遮板的定位機構(gòu)，一設(shè)置于該定位機構(gòu)一側(cè)以限制該定位機構(gòu)沿一路徑移動的軌道部，以及一設(shè)置于該軌道部一側(cè)以帶動該定位機構(gòu)沿該路徑移動的驅(qū)動裝置。

進一步地，該軌道部成對設(shè)置于該第二遮板的兩側(cè)，該定位機構(gòu)具有設(shè)于二軌道上的定位塊，以及一設(shè)置于成對的該定位塊間并鎖固該第二遮板的固定板。

進一步地，該驅(qū)動裝置具有至少二個以上的皮帶輪，一繞設(shè)于該皮帶輪上并供該定位機構(gòu)一端固定的皮帶，以及一帶動該皮帶輪樞轉(zhuǎn)的馬達。

進一步地，該吸孔相互間呈等間隔排列。

進一步地，該吸孔由二側(cè)延伸而略呈狹長型。

本發(fā)明另一目的，在于提供一種料片檢測設(shè)備，其配置有如上所述的真空吸平裝置，該料片檢測設(shè)備包含有一輸料履帶，一影像擷取裝置，以及該真空吸平裝置。該輸料履帶供該料片沿一傳送路徑移動。該輸料履帶具有一設(shè)置于該輸料履帶一或二側(cè)，帶動該輸料履帶前進的轉(zhuǎn)動輥，以及多數(shù)個布設(shè)于該輸料履帶表面上的導風孔。該影像擷取裝置設(shè)置于該輸料履帶的一側(cè)，用以拍攝一取像區(qū)域上的該料片。其中，所述的真空吸平裝置設(shè)置于該輸料履帶相對該影像擷取裝置的另一側(cè)，于該料片透過該輸料履帶移動至該取像區(qū)域時，該真空吸平裝置吸平該料片以供另一側(cè)的該影像擷取裝置拍攝。

進一步地，該轉(zhuǎn)動輥具有一供該輸料履帶繞設(shè)的滾輪，一設(shè)置于該滾輪中以帶動該滾輪旋轉(zhuǎn)的樞軸，以及一設(shè)置于該樞軸一側(cè)以帶動該樞軸旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置。

進一步地，該吸孔的面積大于該導風孔的面積。

本發(fā)明另一目的，在于提供一種料片移載設(shè)備，配置有如上所述的真空吸平裝置，該料片移載設(shè)備具有一機座，一或多數(shù)個連接臂，一驅(qū)動裝置，以及該真空吸平裝置。該連接臂藉由一樞轉(zhuǎn)手段、一多軸移動手段或一水平移動手段結(jié)合于該機座上。該驅(qū)動裝置連接于該樞轉(zhuǎn)手段、該多軸移動手段或該水平移動手段以操作該連接臂沿至少一傳送路徑移動。其中，所述真空吸平裝置設(shè)置于該連接臂上，用以吸附該料片，該驅(qū)動裝置帶動該連接臂將該料片沿該傳送路徑移載至目標位置。

因此，本發(fā)明比起公知技術(shù)具有以下優(yōu)勢效果：

1.本發(fā)明藉由可調(diào)整治具，可彈性控制料片吸附區(qū)域的面積，可對應(yīng)不同尺寸的料片進行調(diào)整，省去客制化遮蔽治具產(chǎn)生的不便。

2.本發(fā)明的吸附載臺上的吸孔大于該輸料履帶上導風孔，且該吸孔呈狹長型的設(shè)計，使吸孔得以與該導風孔相互重合。

附圖說明

圖1，本發(fā)明真空吸平裝置的上側(cè)示意圖。

圖2，本發(fā)明真空吸平裝置的側(cè)面示意圖。

圖3，本發(fā)明真空吸平裝置的剖面示意圖。

圖4，本發(fā)明真空吸平裝置的局部放大示意圖。

圖5-1至圖5-2，表示料片吸附區(qū)域的調(diào)節(jié)方式。

圖6-1至圖6-2，表示料片吸附區(qū)域的調(diào)節(jié)方式。

圖7，本發(fā)明第一實施態(tài)樣的上側(cè)示意圖。

圖8，本發(fā)明第一實施態(tài)樣的側(cè)面示意圖。

圖9，表示輸料履帶的局部放大示意圖。

圖10，本發(fā)明第二實施態(tài)樣的上側(cè)示意圖。

圖11，本發(fā)明第二實施態(tài)樣的側(cè)面示意圖。

符號說明：

100 真空吸平裝置； 10 吸附載臺；

20 真空氣室； 21 真空吸引單元；

30 可調(diào)整治具； 31 第一調(diào)整機構(gòu)；

311 第一遮板； 312 定位機構(gòu)；

3121 定位塊； 3122 固定板；

313 軌道部； 314 驅(qū)動裝置；

3141 皮帶輪； 3142 皮帶；

3143 馬達； 32 第二調(diào)整機構(gòu)；

321 第二遮板； 322 定位機構(gòu)；

3221 定位塊； 3222 固定板；

323 軌道部； 324 驅(qū)動裝置；

3241 皮帶輪； 3242 皮帶；

3243 馬達； R1 料片吸附區(qū)域；

R2 料片吸附區(qū)域； P 料片；

H 吸孔； T1 真空吸附平面；

T2 氣體導流面； D1 第一方向；

D2 第二方向； L1 間隔；

O1 起始位置坐標； Lo1 長度；

Wi1 寬度； O2 起始位置坐標；

Lo2 長度； Wi2 寬度；

200 料片檢測設(shè)備； 40 輸料履帶；

41 轉(zhuǎn)動輥； 411 滾輪；

412 樞軸； 413 驅(qū)動裝置；

42 導風孔； 50 影像擷取裝置；

A1 傳送路徑； B 取像區(qū)域；

300 料片移載設(shè)備； 60 機座；

61 連接臂； 62 驅(qū)動裝置；

63 抽真空裝置； 64 氣流通道；

65 樞軸； A2 傳送路徑。

具體實施方式

茲就本案的結(jié)構(gòu)特征暨操作方式舉一較佳實施態(tài)樣，并配合圖示說明，謹述于后，僅提供審查參閱。

為了說明方便，在此使用的用語，例如“上方”、“下方”、“左側(cè)”、“右側(cè)”指相對圖式中的該水平面來定義。

如圖1-圖11，本發(fā)明提供一種真空吸平裝置100，用以吸附并整平料片P。所述的真空吸平裝置100可應(yīng)用于自動光學檢測(Automated Optical Inspection, AOI)領(lǐng)域，配合傳 送履帶及影像擷取裝置設(shè)置，亦或是可應(yīng)用于料片P的移載裝置上，用于吸附料片P并將料片P移載至不同的平臺上，于本發(fā)明中并不欲限制所述真空吸平裝置100應(yīng)用的方式。所述的真空吸平裝置100較佳可用以吸附一般工業(yè)上的軟性料件，例如：軟性印刷電路板(Flexible Print Circuit,FPC)、軟性顯示器(Flexible Displays)、偏光片(polarizer)或其它軟性工業(yè)料片，于本發(fā)明中并不欲限制。以下針對本發(fā)明真空吸平裝置的結(jié)構(gòu)進行說明,請參閱圖1至圖3，本發(fā)明真空吸平裝置的上側(cè)示意圖、側(cè)面示意圖及剖面示意圖，如圖所示：

本發(fā)明的真空吸平裝置100可彈性地對應(yīng)料片P的尺寸調(diào)整吸附面積，藉此對吸附載臺10提供適當?shù)呢搲阂晕讲⒄皆摿掀琍。所述的真空吸平裝置100包含有一吸附載臺10，一對應(yīng)設(shè)置于該吸附載臺10相對該真空吸附平面T1的另一側(cè)的真空氣室20，以及一對應(yīng)設(shè)置于該真空吸附平面T1或?qū)?yīng)設(shè)置于該氣體導流面T2一側(cè)的可調(diào)整治具30。

請一并參閱圖3，該吸附載臺10包含有一真空吸附平面T1，以及多數(shù)個設(shè)置于該真空吸附平面T1上的吸孔H。該真空氣室20包含有一相鄰于該吸附載臺10的吸孔H一側(cè)的氣體導流面T2，以及一或多數(shù)個對該氣體導流面T2提供負壓的真空吸引單元21。所述的真空吸附平面T1，系指該吸附載臺10相應(yīng)于該料片P位置的一側(cè)，用以吸附該料片P并供該料片P靠置。所述的氣體導流面T2，系指該吸附載臺10相對該料片P位置的另一側(cè)，其對應(yīng)至該真空氣室20的內(nèi)側(cè)，藉由該真空吸引單元21對該氣體導流面T2提供負壓，藉此，透過該吸附載臺10上的多數(shù)個吸孔H，使該料片P得以被吸附于該真空吸附平面T1上。請一并參閱圖4，于一較佳實施例中，所述的吸孔H相互間呈等間隔排列，使該吸孔H得以均勻地分布于該真空吸附平面T1上。于另一較佳實施例中，所述的吸孔H由二側(cè)延伸而呈狹長型。

該可調(diào)整治具30包含有一可藉由第一調(diào)整機構(gòu)31調(diào)整并沿第一方向D1移動的第一遮板311，以及一可藉由第二調(diào)整機構(gòu)32調(diào)整并沿第二方向D2移動的第二遮板321。該第一遮板311及該第二遮板321分別于該第一方向D1的位置及該第二方向D2的位置遮蔽部分吸孔H，以界定一料片吸附區(qū)域。于本實施態(tài)樣中，為使該第一遮板311、該第二遮板321與該吸孔H的表面緊密結(jié)合，所述的第一遮板311、該第二遮板321可分別相對設(shè)置于該真空吸附平面T1及該氣體導流面T2的一側(cè)。

所述的第一調(diào)整機構(gòu)31包含有一或多數(shù)個固定該第一遮板311的定位機構(gòu)312，一或多數(shù)個設(shè)置于該定位機構(gòu)312一側(cè)以限制該定位機構(gòu)312沿該第一方向D1移動的軌道部313，以及一設(shè)置于該軌道部313一側(cè)以帶動該定位機構(gòu)312沿該第一方向D1移動的驅(qū)動 裝置314。該軌道部313成對設(shè)置于該第一遮板311的二側(cè)，該定位機構(gòu)312具有二分設(shè)于二軌道部313上的定位塊3121，以及一設(shè)置于成對的該定位塊3121間并鎖固該第一遮板311的固定板3122。該驅(qū)動裝置314具有至少二個以上的皮帶輪3141，一繞設(shè)于該皮帶輪3141上并供該定位機構(gòu)312一端固定的皮帶3142，以及一帶動該皮帶輪3141樞轉(zhuǎn)的馬達3143。于該馬達3143接收到指令時，該馬達3143帶動該皮帶輪3141樞轉(zhuǎn)，藉由該皮帶輪3141帶動該皮帶3142移動，使固定于該皮帶3142上的該定位機構(gòu)312沿著該軌道部313所界定的路徑(第一方向D1)上移動，藉此帶動該第一遮板311。

所述的第二調(diào)整機構(gòu)32與第一調(diào)整機構(gòu)31的結(jié)構(gòu)大致相同，主要具有一或多數(shù)個固定該第二遮板321的定位機構(gòu)322，一設(shè)置于該定位機構(gòu)322一側(cè)以限制該定位機構(gòu)322沿一路徑(第二方向D2)移動的軌道部323，以及一設(shè)置于該軌道部323一側(cè)以帶動該定位機構(gòu)322沿該路徑移動的驅(qū)動裝置324。該軌道部323成對設(shè)置于該第二遮板321的二側(cè)，該定位機構(gòu)322具有二分設(shè)于二軌道部323上的定位塊3221，以及一設(shè)置于成對的該定位塊3221間并鎖固該第二遮板321的固定板3222。該驅(qū)動裝置324包含有至少二個以上的皮帶輪3241，一繞設(shè)于該皮帶輪3241上并供該定位機構(gòu)322一端固定的皮帶3242，以及一帶動該皮帶輪3241樞轉(zhuǎn)的馬達3243。于該馬達3243接收到指令時，該馬達3243帶動該皮帶輪3241樞轉(zhuǎn)，藉由該皮帶輪3241帶動該皮帶3242移動，使固定于該皮帶3242上的該定位機構(gòu)322沿著該軌道部323所界定的路徑(第二方向D2)上移動，藉此帶動該第二遮板321。

所述的可調(diào)整治具30可連接至可程序邏輯控制器(programmable logic controller,PLC)，藉由人機接口(Man-Machine Interface)輸入料片P的尺寸，控制該第一遮板311及第二遮板321的行程以決定該料片吸附區(qū)域的面積。于另一較佳實施例中，所述的料片吸附區(qū)域的面積亦可藉由手動方式對應(yīng)不同尺寸的料片P進行調(diào)整。

具體而言，有關(guān)于基于料片P尺寸自動調(diào)整料片吸附區(qū)域面積的技術(shù)，以下舉一具體情況進行說明，請參閱圖5-1至圖5-2、圖6-1至圖6-2所示。于本實施態(tài)樣中，所述的第一遮板311可藉由第一調(diào)整機構(gòu)31控制，沿Y軸方向移動。所述的第二遮板321可藉由第二調(diào)整機構(gòu)32控制，沿X軸方向移動。其移動的方向及距離可藉由驅(qū)動裝置314、324控制，所述的移動方向及距離可藉由以下演算式進行計算。請先參閱圖5-1至圖5-2，設(shè)定吸附載臺10右下角的位置為原點Q(0,0)，所述的原點Q(0,0)為相對于機械原點的相對原點。以該相對原點Q(0,0)取得第一遮板311于Y軸方向的位置Y1，并取得第二遮板321于X軸方向的位置X1，藉此取得起始位置坐標O1(X1,Y1)。接續(xù)，藉由人機接口輸入所欲設(shè)置的 料片P尺寸，例如長度為Lo1、寬度為Wi1，藉由可程序邏輯控制器計算，將起始位置坐標O1減去料片P尺寸參數(shù)(長度Lo1，寬度Wi1)，得到調(diào)整向量參數(shù)M(X1-Lo1,Y1-Wi1)。如圖5-1所示，所取得的調(diào)整向量數(shù)值X1-Lo1＜0時，控制該第二遮板321朝圖式中的右側(cè)方向移動|X1-Lo1|的距離，所取得的調(diào)整向量參數(shù)Y1-Wi1＞0時，控制該第一遮板311朝圖式中的下方方向移動|Y1-Wi1|的距離。于調(diào)整至定位時，于圖式中所表示，未被第一遮板311及第二遮板321所遮蔽的平面區(qū)域即為所述的料片吸附區(qū)域R1(如圖5-2所示)。

以下再舉另一具體情況進行說明，請參閱圖6-1至圖6-2。藉由人機接口輸入所欲設(shè)置的料片P尺寸，例如長度為Lo2、寬度為Wi2，藉由可程序邏輯控制器計算，將起始位置坐標O2(X2,Y2)減去料片P尺寸參數(shù)(長度Lo2，寬度Wi2)，得到調(diào)整向量參數(shù)N(X2-Lo2,Y2-Wi2)。所取得的調(diào)整向量數(shù)值X2-Lo2＞0時，控制該第二遮板321朝圖式中的左側(cè)方向移動|X2-Lo2|的距離。所取得的調(diào)整向量參數(shù)Y2-Wi2＜0時控制該第一遮板311朝圖式中的上方方向移動|Y2-Wi2|的距離。于調(diào)整至定位時，于圖式中所表示，未被第一遮板311及第二遮板321所遮蔽的平面區(qū)域即為所述的料片吸附區(qū)域R2。

請參閱圖7及圖8，系本發(fā)明第一實施態(tài)樣的上側(cè)示意圖及側(cè)面示意圖，如圖所示：于本實施態(tài)樣中，所述的真空吸平裝置100可配置于一料片檢測設(shè)備200上，用以吸附并整平料片P，以供影像擷取裝置50對該料片P取像藉以對該料片P的表面進行檢測。所述的料片檢測設(shè)備200主要包含有一輸料履帶40，一影像擷取裝置50，以及前述的真空吸平裝置100。

所述的輸料履帶40供該料片P擺設(shè)并將該料片P沿一傳送路徑A1移動。該真空吸平裝置100設(shè)置于該輸料履帶40的下側(cè)，該影像擷取裝置50則設(shè)置于該輸料履帶40的上側(cè)(該輸料履帶40相對該真空吸平裝置100的另一側(cè))，藉由該真空吸平裝置100決定一對應(yīng)于該輸料履帶40表面的取像區(qū)域B，所述的影像擷取裝置50對應(yīng)設(shè)置于該取像區(qū)域B的上方或一側(cè)，藉以拍攝該取像區(qū)域B上經(jīng)整平后的料片P的表面影像。

該輸料履帶40具有一設(shè)置于該輸料履帶40一或兩側(cè)帶動該輸料履帶40前進的轉(zhuǎn)動輥41，并于該輸料履帶40的表面上布設(shè)有多數(shù)個導風孔42。該轉(zhuǎn)動輥41具有一供該輸料履帶40繞設(shè)的滾輪411，一設(shè)置于該滾輪411中以帶動該滾輪411旋轉(zhuǎn)的樞軸412，以及一設(shè)置于該樞軸412一側(cè)以帶動該樞軸412旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置413。在此所述的驅(qū)動裝置413可為同步馬達(synchronous motor)、感應(yīng)馬達(induction motor)、可逆馬達(reversible motor)、步進馬達(stepping motor)、伺服馬達(servo motor)、線性馬達(linear motor)等，于本發(fā)明中并不欲予以限制所述驅(qū)動裝置的種類。

所述的真空吸平裝置100設(shè)置于該輸料履帶40相對該取像區(qū)域B的另一側(cè)。于前側(cè)加工設(shè)備所取得的料片P將透過移載設(shè)備或作業(yè)員送至該輸料履帶40上，并藉由該輸料履帶40沿該傳送路徑A1輸送，藉以將該料片P移動至該取像區(qū)域B。當該料片P移動至該取像區(qū)域B時，所述的真空吸平裝置100將啟動并藉由多數(shù)個吸孔H將該料片P整平于該取像區(qū)域B上，使該料片P的表面趨于平整，以利另一側(cè)的該影像擷取裝置50拍攝取像。

于檢測完成后，于輸料履帶40的另一端可設(shè)有一移載裝置(圖未示)，將經(jīng)檢測過后的料片P進行分類。例如將料片P移載至OK類別、可修補類別、NG類別等。

請一并參閱圖9，表示輸料履帶的局部放大示意圖，如圖所示：

為避免輸料履帶40于移動時，因組裝、制程、或長期使用產(chǎn)生公差的問題，導致導風孔42與吸孔H未能重合，本實施態(tài)樣中所述吸孔H的面積大于該導風孔42的面積。于另一較佳實施例中，為避免導風孔42與導風孔42間的間隙與該吸孔H重疊，導致吸孔H堵塞，所述的吸孔H二側(cè)沿該傳送路徑A1的方向延伸而略呈狹長型，藉此縮短吸孔H至吸孔H間的間隙。所述的吸孔H相互間中心位置的間距等于該導風孔42相互間中心位置的間距，使同一面積范圍內(nèi)的每一導風孔42均能對應(yīng)至一吸孔H。

請一并參閱圖10及圖11，系本發(fā)明第二實施態(tài)樣的上側(cè)及側(cè)面示意圖，如圖所示：于本實施態(tài)樣中，所述的真空吸平裝置100可配置于一料片移載設(shè)備300上。所述的料片移載設(shè)備300包含有一機座60、一或多數(shù)個連接臂61、一設(shè)置于該機座60上的驅(qū)動裝置62、以及前述的真空吸平裝置100。該連接臂61藉由一樞轉(zhuǎn)手段、一多軸移動手段或一水平移動手段結(jié)合于該機座60上。所述的真空吸平裝置100設(shè)置于該連接臂61上，用以吸附該料片P，于吸附該料片P時，經(jīng)由該樞轉(zhuǎn)手段、多軸移動手段或水平移動手段，該驅(qū)動裝置62可帶動該連接臂61將該料片P沿該傳送路徑A2移載至目標位置。

上述的樞轉(zhuǎn)手段可為但不限定為例如用以固定連接臂并藉由驅(qū)動裝置帶動樞轉(zhuǎn)的樞軸。上述的多軸移動手段可為但不限定為例如多軸機械臂。上述的水平移動手段可為但不限定為例如具有軌道的皮帶輪、或傳送帶等。

于本實施態(tài)樣中，所述的連接臂61上設(shè)置有氣流通道64。于機座60上設(shè)置有一連接至該氣流通道64的抽真空裝置63，用以連接至該真空吸平裝置100上的真空吸引單元21，藉以透過該氣流通道64對該真空吸平裝置100的吸附載臺10提供負壓。于另一較佳實施態(tài)樣中，可透過外接的管線連接該真空吸引單元21及機座60上的抽真空裝置63。藉此，可將料片P由第一位置移動至第二位置。

于本實施態(tài)樣中，藉由樞軸65連接連接臂61及機座60。所述的驅(qū)動裝置62設(shè)置于 該樞軸65的一側(cè)。當驅(qū)動裝置62啟動時，該驅(qū)動裝置62透過該樞軸65帶動該連接臂61以該樞軸65為中心翻轉(zhuǎn)，以控制該連接臂61沿傳送路徑A2移動，其中，所述的真空吸平裝置100設(shè)置于該連接臂61上，用以吸附該料片P使該料片P固定于該真空吸平裝置100上。于該料片P經(jīng)由該傳送路徑A2移載至目標位置時，該抽真空裝置63可關(guān)閉氣閥以解除該料片P的吸附狀態(tài)。

綜上所述，本發(fā)明藉由可調(diào)整治具，可彈性控制料片吸附區(qū)域的面積，可對應(yīng)不同尺寸的料片進行調(diào)整，省去客制化遮蔽治具產(chǎn)生的不便。本發(fā)明的吸附載臺上的吸孔大于該輸料履帶上導風孔，且該吸孔呈狹長型的設(shè)計，使吸孔得以與該導風孔相互重合。

本發(fā)明已藉上述較佳具體例進行更詳細說明，但本發(fā)明并不限定于上述所舉例的實施態(tài)樣，凡在本發(fā)明所揭示的技術(shù)思想范圍內(nèi)，對這些結(jié)構(gòu)作各種變化及修飾，這些變化及修飾仍屬本發(fā)明的范圍。