1.一種真空吸平裝置，用以吸附并整平料片，其特征在于，該真空吸平裝置包含：
一吸附載臺(tái)，具有一真空吸附平面，以及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該真空吸附平面上的吸孔；
一真空氣室，設(shè)置于該吸附載臺(tái)相對(duì)該真空吸附平面的另一側(cè)，該真空氣室具有一相鄰于該吸附載臺(tái)的吸孔一側(cè)的氣體導(dǎo)流面，以及一或多數(shù)個(gè)對(duì)該氣體導(dǎo)流面提供負(fù)壓的真空吸引單元；以及
一可調(diào)整治具，具有設(shè)置于該真空吸附平面或設(shè)置于該氣體導(dǎo)流面一側(cè)的第一遮板及第二遮板，該第一遮板藉由第一調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整并沿第一方向移動(dòng)，該第二遮板藉由第二調(diào)整機(jī)構(gòu)調(diào)整并沿第二方向移動(dòng)，遮蔽該真空吸附平面上的部分吸孔，以界定一料片吸附區(qū)域。
2.如權(quán)利要求1所述的真空吸平裝置，其特征在于，該第一遮板及該第二遮板分別相對(duì)地設(shè)置于該吸附載臺(tái)的該真空吸附平面及該氣體導(dǎo)流面的一側(cè)。
3.如權(quán)利要求1所述的真空吸平裝置，其特征在于，該第一調(diào)整機(jī)構(gòu)具有一或多數(shù)個(gè)固定該第一遮板的定位機(jī)構(gòu)，一設(shè)置于該定位機(jī)構(gòu)一側(cè)以限制該定位機(jī)構(gòu)沿一路徑移動(dòng)的軌道部，以及一設(shè)置于該軌道部一側(cè)以帶動(dòng)該定位機(jī)構(gòu)沿該路徑移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
4.如權(quán)利要求3所述的真空吸平裝置，其特征在于，該軌道部成對(duì)設(shè)置于該第一遮板的兩側(cè)，該定位機(jī)構(gòu)具有分設(shè)于二軌道上的定位塊，以及一設(shè)置于成對(duì)的該定位塊間并鎖固該第一遮板的固定板。
5.如權(quán)利要求1所述的真空吸平裝置，其特征在于，該第二調(diào)整機(jī)構(gòu)具有一或多數(shù)個(gè)固定該第二遮板的定位機(jī)構(gòu)，一設(shè)置于該定位機(jī)構(gòu)一側(cè)以限制該定位機(jī)構(gòu)沿一路徑移動(dòng)的軌道部，以及一設(shè)置于該軌道部一側(cè)以帶動(dòng)該定位機(jī)構(gòu)沿該路徑移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。
6.如權(quán)利要求5所述的真空吸平裝置，其特征在于，該軌道部成對(duì)設(shè)置于該第二遮板的兩側(cè)，該定位機(jī)構(gòu)具有設(shè)于二軌道上的定位塊，以及一設(shè)置于成對(duì)的該定位塊間并鎖固該第二遮板的固定板。
7.如權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的真空吸平裝置，其特征在于，該驅(qū)動(dòng)裝置具有至少二個(gè)以上的皮帶輪，一繞設(shè)于該皮帶輪上并供該定位機(jī)構(gòu)一端固定的皮帶，以及一帶動(dòng)該皮帶輪樞轉(zhuǎn)的馬達(dá)。
8.如權(quán)利要求1所述的真空吸平裝置，其特征在于，該吸孔相互間呈等間隔排列。
9.如權(quán)利要求1所述的真空吸平裝置，其特征在于，該吸孔由二側(cè)延伸而略呈狹長(zhǎng)型。
10.一種配置有權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述真空吸平裝置 的料片檢測(cè)設(shè)備，其特征在于包含：
一輸料履帶，供料片沿一傳送路徑移動(dòng)，該輸料履帶具有一設(shè)置于該輸料履帶一或二側(cè)，帶動(dòng)該輸料履帶前進(jìn)的轉(zhuǎn)動(dòng)輥，以及多數(shù)個(gè)布設(shè)于該輸料履帶表面上的導(dǎo)風(fēng)孔；以及
一影像擷取裝置，設(shè)置于該輸料履帶的一側(cè)，用以拍攝一取像區(qū)域上的料片；
所述真空吸平裝置設(shè)置于該輸料履帶相對(duì)該影像擷取裝置的另一側(cè)，于料片透過輸料履帶移動(dòng)至該取像區(qū)域時(shí)，該真空吸平裝置吸平該料片以供另一側(cè)的該影像擷取裝置拍攝。
11.如權(quán)利要求10所述的料片檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，該轉(zhuǎn)動(dòng)輥具有一供該輸料履帶繞設(shè)的滾輪，一設(shè)置于該滾輪中以帶動(dòng)該滾輪旋轉(zhuǎn)的樞軸，以及一設(shè)置于該樞軸一側(cè)以帶動(dòng)該樞軸旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置。
12.如權(quán)利要求10所述的料片檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，該吸孔的面積大于該導(dǎo)風(fēng)孔的面積。
13.一種配置有權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述真空吸平裝置的料片移載設(shè)備，其特征在于，該料片移載設(shè)備包含：
一機(jī)座；
一或多數(shù)個(gè)連接臂，藉由一樞轉(zhuǎn)手段、一多軸移動(dòng)手段或一水平移動(dòng)手段結(jié)合于該機(jī)座上；以及
一驅(qū)動(dòng)裝置，連接于該樞轉(zhuǎn)手段、該多軸移動(dòng)手段或該水平移動(dòng)手段以操作該連接臂沿至少一傳送路徑移動(dòng)；
所述真空吸平裝置設(shè)置于該連接臂上，用以吸附該料片，該驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)該連接臂將該料片沿該傳送路徑移載至目標(biāo)位置。