本發(fā)明有關(guān)于一種真空吸平裝置，尤指一種藉由模板控制吸附區(qū)域面積的真空吸平裝置。

背景技術(shù)：

自動(dòng)光學(xué)檢查（Automated Optical Inspection, AOI）泛指運(yùn)用機(jī)器視覺作為檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)，比起已知的人眼檢測(cè)具有高速高精密度的優(yōu)點(diǎn)。應(yīng)用層面可涵蓋至高科技產(chǎn)業(yè)的研發(fā)、制造品管，以至國防、民生、醫(yī)療、環(huán)保、電力…或其它相關(guān)領(lǐng)域。

在自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)的領(lǐng)域中，欲對(duì)料片進(jìn)行檢測(cè)，常見的方式是藉由將料片裝設(shè)于載臺(tái)上，藉由抽真空的手段對(duì)該載臺(tái)提供負(fù)壓，藉由載臺(tái)上的氣孔將料片吸附于載臺(tái)上。然而，部分特殊材質(zhì)的料片經(jīng)由氣孔吸持后，于料片邊緣常會(huì)產(chǎn)生翹曲問題，導(dǎo)致影像偵測(cè)時(shí)所拍攝的料片影像常有失真的情形。

因此，為解決上述問題，中國臺(tái)灣第M449343號(hào)專利揭示一種用于平整料片的真空吸平裝置，該真空吸平裝置主要包含氣室、載臺(tái)及遮蔽治具。所述的氣室包含氣體導(dǎo)流面及真空吸引單元，所述的載臺(tái)包含多數(shù)第一吸孔。其中載臺(tái)設(shè)置于氣室上而相鄰于氣體導(dǎo)流面，且第一吸孔連通于氣體導(dǎo)流面。所述的遮蔽治具包含承載區(qū)。其中遮蔽治具設(shè)置于載臺(tái)上，承載區(qū)對(duì)應(yīng)料片的面積設(shè)置，而用以承載料片。遮蔽治具遮蔽一部分的第一吸孔，承載區(qū)包含多數(shù)第二吸孔，第二吸孔對(duì)應(yīng)于另一部份的第一吸孔而連通于氣體導(dǎo)流面，真空吸引單元對(duì)氣體導(dǎo)流面抽氣，而吸持承載區(qū)上的料片。藉由上述配置，可增進(jìn)真空吸附設(shè)備整平料片的效果，解決已知容易發(fā)生料片邊緣翹曲的問題。

但，上述的真空吸平裝置雖可有效地解決料片邊緣翹曲的問題，然而，所述的遮蔽治具常必需針對(duì)不同尺寸的料片個(gè)別進(jìn)行客制化的設(shè)計(jì)，于開設(shè)遮蔽治具上的孔位時(shí)，孔位必須精確地對(duì)應(yīng)至上述的部分第一吸孔，否則將導(dǎo)致真空吸附的能力變?nèi)酰蚨斐闪掀荒鼙挥行У奈健?/p>

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的，在于解決已知技術(shù)中的真空吸平裝置常有孔位不能對(duì)準(zhǔn)導(dǎo)致吸附能力不佳的問題。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種模板式真空吸平裝置，用以吸附并整平料片。該真空吸平裝置包含一吸附載臺(tái)，一真空氣室，以及一模板機(jī)構(gòu)。該吸附載臺(tái)具有一載臺(tái)主體，一設(shè)置于該載臺(tái)主體一側(cè)的真空吸附平面，以及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該真空吸附平面上的吸孔。該真空氣室具有一設(shè)置于該吸附載臺(tái)相對(duì)該真空吸附平面的另一側(cè)的基座，一相鄰于該吸附載臺(tái)的吸孔一側(cè)的氣體導(dǎo)流面，以及一或多數(shù)個(gè)設(shè)置于該基座一側(cè)對(duì)該氣體導(dǎo)流面提供負(fù)壓的真空吸引單元。該模板機(jī)構(gòu)設(shè)置于該吸附載臺(tái)相應(yīng)于該氣體導(dǎo)流面的一側(cè)。該模板機(jī)構(gòu)具有多數(shù)個(gè)分別對(duì)應(yīng)至該吸孔的頂針，以及一設(shè)置于該頂針一側(cè)的圖形模板。其中，該圖形模板具有一主體部與設(shè)置于該主體部上的第一階段平面及第二階段平面。該第一階段平面抵附于部分多數(shù)個(gè)該頂針的一側(cè)以令該頂針覆蓋于部分吸孔上，以界定一料片吸附區(qū)域。

進(jìn)一步地，多數(shù)個(gè)該頂針穿過該真空氣室的基座以分別對(duì)應(yīng)至多數(shù)個(gè)吸孔相應(yīng)于該氣體導(dǎo)流面的一側(cè)。

進(jìn)一步地，該第二階段平面設(shè)置有一或多數(shù)個(gè)吸附該頂針的磁吸單元。

進(jìn)一步地，該頂針包含一略大于該吸孔的孔徑的平面部，以及一設(shè)置于該平面部一側(cè)并于一端抵觸于該第一階段平面的筒狀本體。

進(jìn)一步地，該吸孔相互間呈等間隔排列，該吸孔由二側(cè)延伸而略呈狹長型。

本發(fā)明另一目的在于提供一種料片檢測(cè)設(shè)備，配置有如上所述的模板式真空吸平裝置，該料片檢測(cè)設(shè)備包含一輸料履帶，以及一影像擷取裝置。該輸料履帶透過一轉(zhuǎn)動(dòng)輥，用以將該料片沿一傳送路徑移動(dòng)，且該輸料履帶的表面上形成多數(shù)個(gè)導(dǎo)風(fēng)孔。該影像擷取裝置位于該輸料履帶的一側(cè)，并于該輸料履帶上決定一取像區(qū)域，用以拍攝該取像區(qū)域上的該料片。其中所述的真空吸平裝置于該料片透過該輸料履帶移動(dòng)至該取像區(qū)域時(shí)，該真空吸平裝置吸平該料片，以供該影像擷取裝置拍攝。

進(jìn)一步地，該轉(zhuǎn)動(dòng)輥包括一供該輸料履帶繞設(shè)的滾輪，一設(shè)置于該滾輪中以帶動(dòng)該滾輪旋轉(zhuǎn)的樞軸，以及一設(shè)置于該樞軸一側(cè)以帶動(dòng)該樞軸旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置。

進(jìn)一步地，該吸孔的面積大于該導(dǎo)風(fēng)孔的面積；其中該吸孔的二側(cè)沿該傳送路徑的方向延伸而略呈狹長型。

進(jìn)一步地，該吸孔相互間中心位置的間距等于該導(dǎo)風(fēng)孔相互間中心位置的間距。

本發(fā)明的另一目的，在于提供一種料片移載設(shè)備，配置有如上所述的模板式真空吸平裝置。該料片移載設(shè)備包含一機(jī)座，復(fù)數(shù)個(gè)連接臂，以及一驅(qū)動(dòng)裝置。該連接臂藉由一樞轉(zhuǎn)手段、一多軸移動(dòng)手段或一水平移動(dòng)手段結(jié)合于該機(jī)座上。該驅(qū)動(dòng)裝置連接于該樞轉(zhuǎn)手段、該多軸移動(dòng)手段或該水平移動(dòng)手段以操作該連接臂沿至少一傳送路徑移動(dòng)。其中所述的真空吸平裝置設(shè)置于該連接臂上，用以吸附該料片，該驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)該連接臂將該料片沿該傳送路徑移載至目標(biāo)位置。

因此，本發(fā)明比起已知技術(shù)具有以下優(yōu)勢(shì)效果：

1. 本發(fā)明藉由圖形模板及依據(jù)數(shù)組排序的頂針，可提高氣室腔體的真空度，進(jìn)而有效地吸附料片。

2. 本發(fā)明的吸附載臺(tái)上的吸孔大于該輸料履帶上導(dǎo)風(fēng)孔，且該吸孔呈狹長型的設(shè)計(jì)，使吸孔得以與該導(dǎo)風(fēng)孔相互重合。

附圖說明

圖1，本發(fā)明真空吸平裝置的上側(cè)示意圖（一）。

圖2，本發(fā)明真空吸平裝置的剖面示意圖（一）。

圖3，本發(fā)明真空吸平裝置的上側(cè)示意圖（二）。

圖4，本發(fā)明真空吸平裝置的剖面示意圖（二）。

圖5，本發(fā)明真空吸平裝置的上側(cè)示意圖（三）。

圖6，本發(fā)明真空吸平裝置的剖面示意圖（三）。

圖7，本發(fā)明第一實(shí)施態(tài)樣的上側(cè)示意圖。

圖8，本發(fā)明第一實(shí)施態(tài)樣的側(cè)面示意圖。

圖9，本發(fā)明第二實(shí)施態(tài)樣的上側(cè)示意圖。

圖10，本發(fā)明第二實(shí)施態(tài)樣的側(cè)面示意圖。

標(biāo)號(hào)說明：

100 真空吸平裝置； 10 吸附載臺(tái)；

11 載臺(tái)主體； 12 吸孔；

20 真空氣室； 21 基座；

22 抽真空區(qū)域； 23 真空吸引單元；

30 模板機(jī)構(gòu)； 31 頂針；

311 平面部； 312 筒狀本體；

32 圖形模板； 321 主體部；

322 磁吸單元； K1 第一階段平面；

K2 第二階段平面； T1 真空吸附平面；

T2 氣體導(dǎo)流面； P 料片；

R 料片吸附區(qū)域； 32a 圖形模板；

P1 料片； OL 料片開孔區(qū)域；

Kr 突起區(qū)域； 32b 圖形模板；

P2 料片； Jr 孔徑間距；

200 料片檢測(cè)設(shè)備； 40 輸料履帶；

41 轉(zhuǎn)動(dòng)輥； 411 滾輪；

412 樞軸； 413 驅(qū)動(dòng)裝置；

42 導(dǎo)風(fēng)孔； 50 影像擷取裝置；

A1 傳送路徑； B 取像區(qū)域；

300 料片移載設(shè)備； 60 機(jī)座；

61 連接臂； 62 驅(qū)動(dòng)裝置；

63 抽真空裝置； 64 氣流通道；

65 樞軸； A2 傳送路徑。

具體實(shí)施方式

茲就本案結(jié)構(gòu)特征暨操作方式舉一較佳實(shí)施態(tài)樣，并配合圖示說明，謹(jǐn)述于后，以提供審查參閱。

為了說明方便，在此使用的用語，例如“上方”、“下方”、“左側(cè)”、“右側(cè)”指相對(duì)于圖式中水平面的上、下、左、右方向來定義。

本發(fā)明提供一種模板式真空吸平裝置100，用以吸附并整平料片P。所述的真空吸平裝置100可應(yīng)用于自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)（Automated Optical Inspection, AOI）領(lǐng)域，配合傳送履帶及影像擷取裝置設(shè)置，亦或是可應(yīng)用于料片P的移載裝置上，用于吸附料片P并將料片P移載至不同的平臺(tái)上，于本發(fā)明中并不欲限制所述真空吸平裝置100應(yīng)用的方式。所述的真空吸平裝置100較佳可用以吸附一般工業(yè)上的軟性料件，例如：軟性印刷電路板（Flexible Print Circuit, FPC）、軟性顯示器（Flexible Displays）、偏光片（polarizer）或其它軟性工業(yè)料片，于本發(fā)明中并不欲限制。以下針對(duì)本發(fā)明真空吸平裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明：

有關(guān)于本發(fā)明的結(jié)構(gòu)及細(xì)部技術(shù)特征進(jìn)行詳細(xì)的說明。請(qǐng)參閱圖1至圖2，系本發(fā)明真空吸平裝置的上側(cè)示意圖、及剖面示意圖，如圖所示：

本發(fā)明的真空吸平裝置100主要包含一吸附載臺(tái)10、一設(shè)置于該吸附載臺(tái)10一側(cè)的真空氣室20、以及一設(shè)置于該吸附載臺(tái)10一側(cè)的模板機(jī)構(gòu)30。

所述的吸附載臺(tái)10主要包含一載臺(tái)主體11、一設(shè)置于該載臺(tái)主體11一側(cè)表面上的真空吸附平面T1、以及復(fù)數(shù)個(gè)設(shè)置于該載臺(tái)主體11上的吸孔12，分布于該真空吸附平面T1上。

所述的真空氣室20設(shè)置于該吸附載臺(tái)10的一側(cè)，用以供應(yīng)該吸附載臺(tái)10所需的真空吸引力。該真空氣室20主要包含有一基座21、一設(shè)置于該基座21內(nèi)的抽真空區(qū)域22、以及一設(shè)置于該基座21一側(cè)以對(duì)該抽真空區(qū)域22施予負(fù)壓的真空吸引單元23。所述的基座21設(shè)置于該吸附載臺(tái)10相對(duì)該真空吸附平面T1的另一側(cè)，于相鄰于該吸附載臺(tái)10的吸孔12靠近該抽真空區(qū)域22的一側(cè)具有氣體導(dǎo)流面T2，真空吸引單元23連接至風(fēng)鼓（圖未示）藉由該風(fēng)鼓抽氣以對(duì)該抽真空區(qū)域22施予負(fù)壓，使得該抽真空區(qū)域22趨近于一真空狀態(tài)，藉此可對(duì)該吸孔12對(duì)應(yīng)于該氣體導(dǎo)流面T2的一側(cè)提供負(fù)壓，將料片P（或工件）透過吸孔12吸附于該真空吸附平面T1上。于一較佳實(shí)施例中，所述的吸孔12相互間呈等間隔排列，使吸孔12得以均勻的分布于該真空吸附平面T1上，藉此避免料片P邊緣翹曲。

所述的模板機(jī)構(gòu)30設(shè)置于該吸附載臺(tái)10相應(yīng)于該氣體導(dǎo)流面T2的一側(cè)。該模板機(jī)構(gòu)30包含有多數(shù)個(gè)分別對(duì)應(yīng)至該吸孔12的頂針31，以及一設(shè)置于該頂針31一側(cè)的圖形模板32。該頂針31包含一略大于該吸孔12的孔徑的平面部311，以及一設(shè)置于該平面部311一側(cè)并于一端抵觸于該圖形模板32上的筒狀本體312。于本實(shí)施例中，所述的多數(shù)個(gè)頂針31設(shè)置于該真空氣室20的該基座21上并穿過該基座21，頂針31一端的平面部311朝向于該氣體導(dǎo)流面T2的一側(cè)，頂針31另一端的筒狀本體312朝向于該圖形模板32的一側(cè)，透過圖形模板32抵觸該頂針31的筒狀本體312的端部以推抵該頂針31使部分的頂針31覆蓋于該吸孔12靠近該氣體導(dǎo)流面T2的一側(cè)，以鎖住該吸孔12。

該圖形模板32包含有一主體部321，以及設(shè)置于該主體部321上相互間具有一階差的第一階段平面K1及第二階段平面K2，該第一階段平面K1抵附于部分多數(shù)個(gè)該頂針31的一側(cè)以令該頂針31覆蓋于部分該吸孔12上，使被遮蔽的部分吸孔12與該抽真空區(qū)域22隔絕，未被遮蔽的吸孔12將持續(xù)提供真空吸引力，由該未被遮蔽的吸孔12所排列而成的區(qū)域即構(gòu)成一料片吸附區(qū)域R。所述未被遮蔽的吸孔12對(duì)應(yīng)于該圖形模板32上的圖形（第二階段平面K2），藉以界定上述的料片吸附區(qū)域R。

請(qǐng)一并參閱圖3至圖6，本發(fā)明可依據(jù)料片的形狀選擇設(shè)置于底下的模板，該模板較佳可配合料片的尺寸及形狀開模（或削銑）調(diào)整所需的料片吸附區(qū)域。

請(qǐng)先參閱圖3、及圖4，所述的模板可藉由開模（或削銑）的方式，在模板的第二階段平面K2上形成對(duì)應(yīng)于料片P1形狀及尺寸的圖形，例如在料片吸附區(qū)域R的平面上形成一對(duì)應(yīng)至料片開孔區(qū)域OL的突起區(qū)域Kr（與第一階段平面K1等高），將圖形模板32a設(shè)置于頂針31的下方時(shí)，所述的突起區(qū)域Kr將抵附部分頂針31，使設(shè)置于該突起區(qū)域Kr上方的頂針31向上移動(dòng)覆蓋于該料片吸附區(qū)域R上的料片開孔區(qū)域OL上的吸孔12，藉此避免氣體由該料片開孔區(qū)域OL上的吸孔12導(dǎo)入而降低真空吸附的效果。

針對(duì)不規(guī)則形的料片P2，請(qǐng)參閱圖5及圖6，所述的料片P2形狀及尺寸若為不規(guī)則形，所述的圖形模板32b必須對(duì)應(yīng)于所述的料片P2形狀及尺寸配置。由于不規(guī)則形的料片P2放置于料片吸附區(qū)域R時(shí)，容易于邊緣處與吸孔12之間形成間隙，造成氣體由上述的間隙導(dǎo)入。因此，為避免上述的情況，所述的圖形模板32b必須對(duì)應(yīng)于料片P2的尺寸至少抓取一閾值，由邊緣處起算須相對(duì)該料片P2的尺寸縮減該圖形模板32b約略為一個(gè)孔徑間距Jr的大小，以確保每一個(gè)吸孔12與該料片P2間不會(huì)形成間隙。于另一較佳實(shí)施態(tài)樣，圖形模板32b可依據(jù)料片P2的形狀及尺寸，先經(jīng)由樣板比對(duì)可由該料片P2所覆蓋的吸孔12位置后，針對(duì)上述位置的吸孔12以數(shù)組的方式開模出（或削銑）所述第二階段平面K2的形狀，使吸孔12與料片P2間不會(huì)形成間隙并增加吸附力。

其中于一較佳實(shí)施例中，該第二階段平面K2上（或其周側(cè)）設(shè)置有一或多數(shù)個(gè)磁吸單元322，用以吸引并固定該頂針31，因此可于本發(fā)明的真空吸平裝置100倒置時(shí)，固定對(duì)應(yīng)于料片吸附區(qū)域R上的頂針31，使其不會(huì)落下并覆蓋至該吸孔12上，確保對(duì)應(yīng)于該料片吸附區(qū)域R的吸孔12得以暢通。所述的磁吸單元322可為具有磁性的金屬物質(zhì)、抑或是藉由電能產(chǎn)生磁能的電磁裝置等。但，上述的磁吸單元可選擇地設(shè)置于本發(fā)明的真空吸平裝置上，本發(fā)明并不欲限制于上述的實(shí)施例。

于另一較佳實(shí)施例中，所述的模板機(jī)構(gòu)30可設(shè)置于該真空氣室20的內(nèi)側(cè)。所述的頂針31可另外藉由頂針支架（圖未示）固定于該抽真空區(qū)域22內(nèi)，并使該頂針31分別對(duì)應(yīng)至多數(shù)個(gè)該吸孔12相應(yīng)于氣體導(dǎo)流面T2的一側(cè)。所述的圖形模板32設(shè)置于該抽真空區(qū)域22內(nèi)該頂針支架的下方以推頂該頂針31使部分頂針31覆蓋于該吸孔12靠近該氣體導(dǎo)流面T2的一側(cè)。本發(fā)明并不欲限制模板機(jī)構(gòu)30及真空氣室20間相對(duì)應(yīng)的配置關(guān)系，在此先行敘明。

請(qǐng)參閱圖7及圖8，系本發(fā)明第一實(shí)施態(tài)樣的上側(cè)示意圖及側(cè)面示意圖，如圖所示：

于本實(shí)施態(tài)樣中，所述的真空吸平裝置100可配置于一料片檢測(cè)設(shè)備200上，用以吸附并整平料片P，以供影像擷取裝置50對(duì)該料片取像藉以對(duì)該料片P的表面進(jìn)行檢測(cè)。所述的料片檢測(cè)設(shè)備200主要包含有一輸料履帶40，一影像擷取裝置50，以及前述的真空吸平裝置100。

所述的輸料履帶40供該料片P擺設(shè)并將該料片P沿一傳送路徑A1移動(dòng)。該真空吸平裝置100設(shè)置于該輸料履帶40的下側(cè)，該影像擷取裝置50則設(shè)置于該輸料履帶40的上側(cè)（該輸料履帶40相對(duì)該真空吸平裝置100的另一側(cè)），藉由該真空吸平裝置100決定一對(duì)應(yīng)于該輸料履帶40表面的取像區(qū)域B，所述的影像擷取裝置50對(duì)應(yīng)設(shè)置于該取像區(qū)域B的上方或一側(cè)，藉以拍攝該取像區(qū)域B上經(jīng)整平后的料片P的表面影像。

該輸料履帶40具有一設(shè)置于該輸料履帶40一或二側(cè)帶動(dòng)該輸料履帶40前進(jìn)的轉(zhuǎn)動(dòng)輥41，并于該輸料履帶40的表面上布設(shè)有多數(shù)個(gè)導(dǎo)風(fēng)孔42。該轉(zhuǎn)動(dòng)輥41包含有一供該輸料履帶40繞設(shè)的滾輪411，一設(shè)置于該滾輪411中以帶動(dòng)該滾輪411旋轉(zhuǎn)的樞軸412，以及一設(shè)置于該樞軸412一側(cè)以帶動(dòng)該樞軸412旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)裝置413。在此所述的驅(qū)動(dòng)裝置413可為同步馬達(dá)（synchronous motor）、感應(yīng)馬達(dá)（induction motor）、可逆馬達(dá)（reversible motor）、步進(jìn)馬達(dá)（stepping motor）、伺服馬達(dá)（servo motor）、線性馬達(dá)（linear motor）等，于本發(fā)明中并不欲予以限制所述驅(qū)動(dòng)裝置的種類。

所述的真空吸平裝置100設(shè)置于該輸料履帶40相對(duì)該取像區(qū)域B的另一側(cè)。于前側(cè)加工設(shè)備所取得的料片P將透過移載設(shè)備或作業(yè)員送至該輸料履帶40上，并藉由該輸料履帶40沿該傳送路徑A1輸送，藉以將該料片P移動(dòng)至該取像區(qū)域B。當(dāng)該料片P移動(dòng)至該取像區(qū)域B時(shí)，所述的真空吸平裝置100將啟動(dòng)并藉由多數(shù)個(gè)吸孔12將該料片P整平于該取像區(qū)域B上，使該料片P的表面趨于平整，以利另一側(cè)的該影像擷取裝置50拍攝取像。

于檢測(cè)完成后，于輸料履帶40的另一端可設(shè)有一移載裝置（圖未示），將經(jīng)檢測(cè)過后的料片P進(jìn)行分類。例如將料片移載至OK類別、可修補(bǔ)類別、NG類別等。

為避免輸料履帶40于移動(dòng)時(shí)，因組裝、制程、或長期使用產(chǎn)生公差的問題，導(dǎo)致導(dǎo)風(fēng)孔42與吸孔12未能重合，本實(shí)施態(tài)樣中所述吸孔12的面積大于該導(dǎo)風(fēng)孔42的面積。于另一較佳實(shí)施例中，為避免導(dǎo)風(fēng)孔42與導(dǎo)風(fēng)孔42間的間隙與該吸孔12重疊，導(dǎo)致吸孔12堵塞，所述的吸孔12二側(cè)沿該傳送路徑A1的方向延伸而略呈狹長型，藉此縮短吸孔12至吸孔12間的間隙。所述的吸孔12相互間中心位置的間距等于該導(dǎo)風(fēng)孔42相互間中心位置的間距，使同一面積范圍內(nèi)的每一導(dǎo)風(fēng)孔42均能對(duì)應(yīng)至一吸孔12。

請(qǐng)一并參閱圖9及圖10，系本發(fā)明第二實(shí)施態(tài)樣的側(cè)面示意圖，如圖所示：

于本實(shí)施態(tài)樣中，所述的真空吸平裝置100可配置于一料片移載設(shè)備300上。所述的料片移載設(shè)備300包含有一機(jī)座60、一或多數(shù)個(gè)連接臂61、一設(shè)置于該機(jī)座60上的驅(qū)動(dòng)裝置62、以及前述的真空吸平裝置100。該連接臂61藉由一樞轉(zhuǎn)手段、一多軸移動(dòng)手段或一水平移動(dòng)手段結(jié)合于該機(jī)座60上。所述的真空吸平裝置100設(shè)置于該連接臂61上，用以吸附該料片，于吸附該料片P時(shí)，經(jīng)由該樞轉(zhuǎn)手段、多軸移動(dòng)手段或水平移動(dòng)手段，該驅(qū)動(dòng)裝置62可帶動(dòng)該連接臂61將該料片P沿該傳送路徑A2移載至目標(biāo)位置。

上述的樞轉(zhuǎn)手段可為但不限定為例如用以固定連接臂并藉由驅(qū)動(dòng)裝置帶動(dòng)樞轉(zhuǎn)的樞軸。上述的多軸移動(dòng)手段可為但不限定為例如多軸機(jī)械臂。上述的水平移動(dòng)手段可為但不限定為例如具有軌道的皮帶輪、或傳送帶等。

于本實(shí)施態(tài)樣中，所述的連接臂61上設(shè)置有氣流通道64。于機(jī)座60上設(shè)置有一連接至該氣流信道64的抽真空裝置63，用以連接至該真空吸平裝置100上的真空吸引單元23，藉以透過該氣流通道64對(duì)該真空吸平裝置100的吸附載臺(tái)10提供負(fù)壓。于另一較佳實(shí)施態(tài)樣中，可透過外接的管線連接該真空吸引單元23及機(jī)座60上的抽真空裝置63。藉此，可將料片由第一位置移動(dòng)至第二位置。

于本實(shí)施態(tài)樣中，藉由樞軸65連接連接臂61及機(jī)座60。所述的驅(qū)動(dòng)裝置62設(shè)置于該樞軸65的一側(cè)。當(dāng)驅(qū)動(dòng)裝置62啟動(dòng)時(shí)，該驅(qū)動(dòng)裝置62透過該樞軸65帶動(dòng)該連接臂61以該樞軸65為中心翻轉(zhuǎn)，以控制該連接臂61沿傳送路徑A2移動(dòng)，其中，所述的真空吸平裝置100設(shè)置于該連接臂61上，用以吸附該料片P使該料片P固定于該真空吸平裝置100上。于該料片P經(jīng)由該傳送路徑A2移載至目標(biāo)位置時(shí)，該抽真空裝置63可關(guān)閉氣閥以解除該料片P的吸附狀態(tài)。

綜上所述，本發(fā)明藉由圖形模板及依據(jù)數(shù)組排序的頂針，可提高氣室腔體的真空度，進(jìn)而有效地吸附料片。本發(fā)明吸附載臺(tái)上的吸孔大于該輸料履帶上導(dǎo)風(fēng)孔，且該吸孔呈狹長型的設(shè)計(jì)，使吸孔得以與該導(dǎo)風(fēng)孔相互重合。

本發(fā)明已藉上述較佳具體例進(jìn)行更詳細(xì)說明，但本發(fā)明并不限定于上述所舉例的實(shí)施態(tài)樣，凡在本發(fā)明所揭示技術(shù)思想范圍內(nèi)，對(duì)結(jié)構(gòu)作各種變化及修飾，這些變化及修飾仍屬本發(fā)明范圍。