1.一種模板式真空吸平裝置，用以吸附并整平料片，其特征在于該真空吸平裝置包含：
一吸附載臺，具有一載臺主體，一設(shè)置于該載臺主體一側(cè)的真空吸附平面，以及多數(shù)個設(shè)置于該真空吸附平面上的吸孔；
一真空氣室，具有一設(shè)置于該吸附載臺相對該真空吸附平面的另一側(cè)的基座，一相鄰于該吸附載臺的吸孔一側(cè)的氣體導(dǎo)流面，以及一或多數(shù)個設(shè)置于該基座一側(cè)對該氣體導(dǎo)流面提供負(fù)壓的真空吸引單元；以及
一模板機構(gòu)，設(shè)置于該吸附載臺相應(yīng)于該氣體導(dǎo)流面的一側(cè)，該模板機構(gòu)具有多數(shù)個分別對應(yīng)至該吸孔的頂針，以及一設(shè)置于該頂針一側(cè)的圖形模板，其中該圖形模板具有一主體部與設(shè)置于該主體部上的第一階段平面及第二階段平面，該第一階段平面抵附于部分多數(shù)個該頂針的一側(cè)以令該頂針覆蓋于部分吸孔上，以界定一料片吸附區(qū)域。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模板式真空吸平裝置，其特征在于，多數(shù)個頂針穿過該真空氣室的基座以分別對應(yīng)至多數(shù)個吸孔相應(yīng)于該氣體導(dǎo)流面的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模板式真空吸平裝置，其特征在于，該第二階段平面設(shè)置有一或多數(shù)個吸附該頂針的磁吸單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模板式真空吸平裝置，其特征在于，該頂針包含一略大于該吸孔的孔徑的平面部，以及一設(shè)置于該平面部一側(cè)并于一端抵觸于該第一階段平面的筒狀本體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模板式真空吸平裝置，其特征在于，該吸孔相互間呈等間隔排列，該吸孔由二側(cè)延伸而略呈狹長型。
6.一種料片檢測設(shè)備，配置有如權(quán)利要求1至5中任一項所述的模板式真空吸平裝置，該料片檢測設(shè)備包含：
一輸料履帶，透過一轉(zhuǎn)動輥，用以將該料片沿一傳送路徑移動，且該輸料履帶的表面上形成多數(shù)個導(dǎo)風(fēng)孔；以及
一影像擷取裝置，位于該輸料履帶的一側(cè)，并于該輸料履帶上決定一取像區(qū)域，用以拍攝該取像區(qū)域上的該料片；
其中所述的真空吸平裝置于該料片透過該輸料履帶移動至該取像區(qū)域時，該真空吸平裝置吸平該料片，以供該影像擷取裝置拍攝。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的料片檢測設(shè)備，其特征在于，該轉(zhuǎn)動輥包括一供該輸料履帶繞設(shè)的滾輪，一設(shè)置于該滾輪中以帶動該滾輪旋轉(zhuǎn)的樞軸，以及一設(shè)置于該樞軸一側(cè)以帶動該樞軸旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的料片檢測設(shè)備，其特征在于，該吸孔的面積大于該導(dǎo)風(fēng)孔的面積；其中該吸孔的二側(cè)沿該傳送路徑的方向延伸而略呈狹長型。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的料片檢測設(shè)備，其特征在于，該吸孔相互間中心位置的間距等于該導(dǎo)風(fēng)孔相互間中心位置的間距。
10.一種料片移載設(shè)備，配置有如權(quán)利要求1至5中任一項所述的模板式真空吸平裝置，其特征在于該料片移載設(shè)備包含：
一機座；
一或多數(shù)個連接臂，藉由一樞轉(zhuǎn)手段、一多軸移動手段或一水平移動手段結(jié)合于該機座上；以及
一驅(qū)動裝置，連接于該樞轉(zhuǎn)手段、該多軸移動手段或該水平移動手段以操作該連接臂沿至少一傳送路徑移動；
其中所述的真空吸平裝置設(shè)置于該連接臂上，用以吸附該料片，該驅(qū)動裝置帶動該連接臂將該料片沿該傳送路徑移載至目標(biāo)位置。